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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
OME 2017-12-01
09:20
佐賀 サンメッセ鳥栖 プラズマ融合CMPによる大型ダイヤモンド基板の高効率加工とその加工メカニズム
武田秀俊並木精密宝石)・土肥俊郎九大)・金 聖祐並木精密宝石)・會田英雄長岡技科大)・白谷正治九大OME2017-35
次世代半導体材料として知られるSiC,GaN,ダイヤモンドは,同時にCMP工程における超難加工材料としても知られている.... [more] OME2017-35
pp.1-6
OME 2017-12-01
09:40
佐賀 サンメッセ鳥栖 CMPプロセスにおける高圧マイクロジェット(HPMJ)のハイブリッド効果
塚本敬一土肥俊郎九大)・王 成武浙江師範大)・瀬下 清九大)・宮地計二加藤幹大旭サナック)・宮下忠一不二越機械工業)・大坪正徳松永洋子九大OME2017-36
半導体ウエハのCMPプロセスにおいて,パッドの目詰まりは避けられない.従来からダイヤモンド電着コンディショナによって,目... [more] OME2017-36
pp.7-12
OME 2017-12-01
13:10
佐賀 サンメッセ鳥栖 脚光を浴びるダイラタンシー・パッドによるスマート加工 ~ ダイラタンシー・パッド材料とその評価法に基づくパワーデバイス用SiC基板の加工特性 ~
瀬下 清土肥俊郎大坪正徳塚本敬一九大)・高木正孝フジボウ愛媛)・市川大造不二越機械工業OME2017-42
サファイヤ,SiC,GaNなどの難加工性材料基板のスマートポリシング加工技術構築の鍵を握るのがダイラタンシー材料である.... [more] OME2017-42
pp.31-36
OME, SDM
(共催)
2017-04-21
10:00
鹿児島 龍郷町生涯学習センター GaN基板のプラズマ融合CMPプロセス ~ エタノールバブリング・Arプラズマを用いたプラズマ融合CMP特性とその評価 ~
山崎直樹九大/並木精密宝石)・土肥俊郎九大)・曾田英雄九大/並木精密宝石)・金 聖祐大山幸希並木精密宝石)・黒河周平九大)・佐野泰久阪大)・白谷正治山西陽子九大SDM2017-5 OME2017-5
 [more] SDM2017-5 OME2017-5
pp.19-23
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