| 電子情報通信学会 研究会発表申込システム 研究会 開催スケジュール |
技報閲覧サービス [ログイン] 技報アーカイブ |
すべての研究会開催スケジュール (検索条件: すべての年度)
| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| ED | 2015-04-17 09:55 |
宮城 | 東北大通研ナノスピン実験施設 | 加湿酸素プラズマガスを用いた酸化ハフニウム膜の室温原子層堆積の反応機構 ○鹿又健作・大場尚志・パンシラ ポープンブン・有馬 ボシール アハンマド・久保田 繁・平原和弘・廣瀬文彦（山形大）  ED2015-11 |
我々はtetrakis(ethylmethylamino)hafnium(TEMAH)とプラズマ励起された酸素含有水蒸気... [more] | ED2015-11 pp.53-58 |
| CPM | 2014-09-05 12:20 |
山形 | 山形大学工学部百年周年記念会館 セミナールーム1,2,3 | 室温原子層堆積法を用いた防蝕コーティング ○廣瀬文彦・鹿又健作・大場尚志・有馬ボシルアハマド・久保田 繁・平原和弘（山形大） CPM2014-89 |
[more] | CPM2014-89 pp.75-77 |
| ED | 2014-04-18 09:50 |
山形 | 山形大学工学部百周年記念会館 | プラズマ励起原子層堆積法による室温酸化ハフニウム成膜 ○鹿又健作・大場尚志・有馬 ボシール アハンマド・久保田 繁・平原和弘・廣瀬文彦（山形大） ED2014-13 |
我々はtetrakis(ethylmethylamino)hafnium(TEMAH)とプラズマ励起水蒸気を用いたハフニ... [more] | ED2014-13 pp.51-54 |
| ED | 2014-04-18 10:15 |
山形 | 山形大学工学部百周年記念会館 | 室温原子層堆積法を用いたHfO2-MOSの試作と評価 ○大場尚志・鹿又健作・有馬 ボシール アハンマド・久保田 繁・廣瀬文彦（山形大） ED2014-14 |
ゲート絶縁膜として高誘電率材料であるHfO2が有効であり、これを利用した高性能MOSの製造技術を獲得することを目的とする... [more] | ED2014-14 pp.55-58 |
| CPM | 2013-10-25 09:30 |
新潟 | 新潟大ときめいと | プラズマ励起原子層堆積法による室温酸化チタン成膜 ○鹿又健作・大場尚志・籾山克章・鈴木貴彦・ボシール アハンマド・久保田 繁・平原和弘・廣瀬文彦（山形大） CPM2013-102 |
我々はtetrakis(dimethylamino)titanium(TDMAT)とプラズマ励起水蒸気を用いたチタン酸化... [more] | CPM2013-102 pp.45-48 |
[研究会発表申込システムのトップページに戻る]