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| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| SDM, OME (共催) |
2008-04-11 14:30 |
沖縄 | 沖縄県青年会館 | 強誘電体および高誘電率材料をゲート絶縁膜に用いた酸化物チャネル薄膜トランジスタ ○徳光永輔・柴田 宏・大岩朝洋・近藤洋平（東工大）  SDM2008-11 OME2008-11 |
強誘電体と高誘電率材料をゲート絶縁膜に用いた酸化物チャネル薄膜トランジスタの電気的特性を報告する。強誘電体や高誘電率材料... [more] | SDM2008-11 OME2008-11 pp.51-56 |
| SDM | 2008-03-14 13:55 |
東京 | 機械振興会館 | 酸化物チャネル強誘電体ゲート不揮発性メモリ素子の作製と評価 ○柴田 宏・大岩朝洋・徳光永輔（東工大） SDM2007-274 |
[more] | SDM2007-274 pp.7-12 |
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