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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
ED 2009-04-24
13:25
宮城 東北大学電気通信研究所 パルス電界常圧プラズマCVD法を用いたプラスチック基板上Si成長
村重正悟松本光正稲吉陽平末光眞希東北大)・中嶋節男上原 剛積水化学)・豊島安健産総研ED2009-15
パルス電界常圧プラズマCVD法を用いてPET基板上に多結晶Si(Poly-Si)成長を行い,Raman散乱分光法および透... [more] ED2009-15
pp.63-67
SDM 2008-06-10
12:45
東京 東京大学(生産研 An棟) Si(110)面上熱酸化膜形成時におけるSiサブオキサイド時間発展のXPSリアルタイム測定
山本喜久富樫秀晃今野篤史松本光正加藤 篤齋藤英司末光眞希東北大)・寺岡有殿吉越章隆原子力機構SDM2008-53
Si(110)表面の熱酸化膜被覆過程およびその界面結合状態をリアルタイム放射光光電子分光により調べた.その結果,酸化開始... [more] SDM2008-53
pp.65-70
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