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| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| SDM, ICD (共催) ITE-IST (連催) [詳細] |
2018-08-07 12:55 |
北海道 | 北海道大学大学院情報科学研究科 M棟M151 | ［招待講演］慣性センサの超低消費電力化に向けたCMOS混載SiGe-MEMS技術の開発 ○富澤英之・久留井慶彦（東芝）・秋田一平（産総研）・藤本 明・齋藤友博・小島章弘・柴田英毅（東芝）  SDM2018-29 ICD2018-16 |
本稿は実デバイス試作・評価結果を以て慣性系MEMSセンサにおける多結晶SiGe材料のメリットを報告する．我々は、超低消費... [more] | SDM2018-29 ICD2018-16 pp.21-24 |
| SDM | 2013-02-04 14:30 |
東京 | 機械振興会館 | 白色LED向け高放熱性ウエハーレベル・チップスケール・パッケージの開発 ○秋元陽介・小島章弘・島田美代子・富澤英之・古山英人・小幡 進・樋口和人・杉崎吉昭・柴田英毅（東芝） SDM2012-154 |
次世代照明として期待が大きい白色ＬＥＤ向けに、高放熱性を有するウエーハレベル・チップスケール・パッケージ（ＷＬ－ＣＳＰ）... [more] | SDM2012-154 pp.21-24 |
| VLD, DC, IPSJ-SLDM (連催) ICD, CPM (共催) CPSY, RECONF (併催) [詳細] |
2011-11-28 13:50 |
宮崎 | ニューウェルシティ宮崎 | ［招待講演］CMOS混載RF-MEMS可変容量 ○杉崎吉昭・池橋民雄・山崎宏明・齋藤友博・小川悦治・下岡義明・柴田英毅（東芝） CPM2011-151 ICD2011-83 |
[more] | CPM2011-151 ICD2011-83 pp.13-18 |
| SDM | 2011-02-07 12:40 |
東京 | 機械振興会館 | CuSiN/Cu/Ti系バリア構造におけるCu表面酸化層のEM信頼性へ与える影響 ○林 裕美・松永範昭・和田 真・中尾慎一・渡邉 桂・加藤 賢・坂田敦子・梶田明広・柴田英毅（東芝） SDM2010-219 |
CuSiNにはエレクトロマイグレーション(EM)改善効果と配線抵抗の上昇がトレードオフになってしまうという問題があるが、... [more] | SDM2010-219 pp.19-23 |
| SDM | 2010-02-05 14:00 |
東京 | 機械振興会館 | 低抵抗・高信頼Cu配線のためのシリサイドキャップ技術 ○林 裕美・松永範昭・和田 真・中尾慎一・坂田敦子・渡邉 桂・柴田英毅（東芝） SDM2009-187 |
Cu配線におけるシリサイドキャップはエレクトロマイグレーション(EM)信頼性を高める選択キャップ技術として有望であるが、... [more] | SDM2009-187 pp.31-36 |
| SDM | 2009-11-13 11:15 |
東京 | 機械振興会館 | 微細金属配線における抵抗率のサイズ効果予測のためのモンテカルロ・シミュレーション ○来栖貴史・和田 真・松永範昭・梶田明広・谷本弘吉・青木伸俊・豊島義明・柴田英毅（東芝） SDM2009-145 |
LSIの金属配線設計において、サイズ縮小に伴って配線の抵抗率が上昇するという“抵抗率のサイズ効果”が問題となっている．次... [more] | SDM2009-145 pp.55-60 |
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