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| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| OME, IEE-DEI (連催) |
2019-07-05 15:45 |
新潟 | トキ交流会館（新潟県佐渡市） | ナノダイヤモンド吸着膜の形成と電子注入特性 ○杉本有莉子（東京農工大）・大石不二夫（神奈川大）・田中邦明・臼井博明（東京農工大）  OME2019-12 |
電気泳動法(EPD)及び自己組織化膜(SAM)への吸着の2つの手法を用い，Al電極表面にダイヤモンドナノ粒子(DNP)薄... [more] | OME2019-12 pp.17-20 |
| OME, IEE-DEI (連催) |
2018-07-20 11:15 |
新潟 | [19日］(株)コロナ 本社 会議室， ［20日］まちなかキャンパス長岡301会議室 | ダイヤモンドナノ粒子の薄膜形成と電子応用 杉本有莉子（東京農工大）・大石不二夫（神奈川大）・田中邦明・○臼井博明（東京農工大） OME2018-10 |
電気泳動法及によりダイヤモンドナノ粒子（DNP）の薄膜を基板表面に堆積した．DNP分散液の濃度及び堆積条件の制御により，... [more] | OME2018-10 pp.27-31 |
| OME | 2018-02-22 13:50 |
東京 | 東京農工大学 講義棟L0014 | 開始剤SAMを用いた表面開始蒸着重合による有機／無機界面の結合形成 ○齋藤隆喜・田中邦明・臼井博明（東京農工大） OME2017-58 |
Thiol-ene反応を利用し，有機半導体／無機基板界面に共有結合を形成することを試みた．(3-mercaptoprop... [more] | OME2017-58 pp.5-9 |
| OME | 2018-02-22 16:20 |
東京 | 東京農工大学 講義棟L0014 | 蒸着重合法による共蒸着ポリイミド薄膜の作製と配向制御 ○山嵜貴俊・田中邦明・臼井博明（東京農工大） OME2017-63 |
酸無水物pyromellitic dianhydrideとジアミン4,4’-diaminoazobenzeneを共蒸着し... [more] | OME2017-63 pp.25-28 |
| OME | 2016-10-28 13:40 |
東京 | 機械振興会館 | 蒸着重合によるポリイミド薄膜の分子配向 ○山嵜貴俊・Chanya Mahapun・田中邦明・臼井博明（東京農工大） OME2016-39 |
蒸着重合法を用いて2種類のポリイミド薄膜の分子配向の制御を試みた．Pyromellitic dianhydrideと1,... [more] | OME2016-39 pp.5-8 |
| OME | 2016-10-28 16:20 |
東京 | 機械振興会館 | ビニル基を持つナフタレンジイミドの蒸着膜形成 ○冨田啓輔（東京農工大）・藤田浩士・臼井 聡（新潟大）・田中邦明・臼井博明（東京農工大） OME2016-45 |
[more] | OME2016-45 pp.29-32 |
| OME | 2016-03-03 13:55 |
東京 | 東工大南3号館S322講義室 | イオンアシスト蒸着重合による接着性アクリル高分子薄膜の作製 ○河村 拓・田中邦明・臼井博明（東京農工大） OME2015-87 |
イオンアシスト蒸着重合により種々の基板上に4-hydroxybutyl acrylate glycidylether （... [more] | OME2015-87 pp.5-9 |
| OME | 2015-10-16 15:25 |
東京 | 機械振興会館 | 電気泳動堆積法によるダイヤモンドナノ粒子薄膜の作製 ○後藤洋介（東京農工大）・大石不二夫（神奈川大）・田中邦明・臼井博明（東京農工大） OME2015-47 |
電気泳動堆積法（EPD）を用いてダイヤモンドナノ粒子水分散液から薄膜を形成した．膜成長速度は印加電圧の上昇あるいは電極間... [more] | OME2015-47 pp.23-28 |
| OME, EMD, CPM (共催) |
2014-06-20 10:20 |
東京 | 機械振興会館 | 電反応性SAMと蒸着重合による電極／高分子界面の制御 萩原佑哉・金 性湖・田中邦明（東京農工大）・Rigoberto C. Advincula（ケースウェスタン大）・○臼井博明（東京農工大） EMD2014-12 CPM2014-32 OME2014-20 |
有機デバイスでは有機／無機電極の接合形成が必須となるが，材料の性質が大きく異なるため，異種界面の制御は容易でなく，付着強... [more] | EMD2014-12 CPM2014-32 OME2014-20 pp.21-26 |
| EMD, CPM, OME (共催) |
2013-06-21 09:45 |
東京 | 機械振興会館 | 感光性スピンコート膜を用いたパターン形成とデバイス応用 加藤大智・田中邦明・○臼井博明（東京農工大） EMD2013-9 CPM2013-24 OME2013-32 |
正孔輸送性ビニルモノマーと光重合開始剤をスピンコートすることにより，感光性低分子薄膜を形成した．これにマスクを通して紫外... [more] | EMD2013-9 CPM2013-24 OME2013-32 pp.13-17 |
| OME | 2013-05-16 13:30 |
東京 | 機械振興会館 B3F-2 | 反応性SAMを用いたITO／高分子薄膜界面の制御 金 性湖・大塚華恵・田中邦明（東京農工大）・R. C. アドビンクラ（ケースウェスタン）・○臼井博明（東京農工大） OME2013-23 |
有機電子デバイスでは，無機電極と有機薄膜界面の特性を制御することが重要な課題の一つとなる．そこで末端に反応性官能基として... [more] | OME2013-23 pp.1-5 |
| OME | 2013-05-16 13:50 |
東京 | 機械振興会館 B3F-2 | 低分子量PEDOT蒸着膜の作製とドーピング特性 江口大海・○長谷川 愛・土屋康佑・田中邦明・荻野賢司・臼井博明（東京農工大） OME2013-24 |
Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) (PEDOT)は導電性高分子の中でも高い導電性や熱的安... [more] | OME2013-24 pp.7-12 |
| OME, OPE (共催) |
2012-11-16 13:05 |
東京 | 機械振興会館 | 傾斜機能を持つフッ素系蒸着重合膜による反射防止効果 ○泉田和夫（ミクロ技研）・松田 剛・河西 匠・田中邦明・臼井博明（東京農工大） OME2012-55 OPE2012-127 |
2-（パーフルオロヘキシル）エチルアクリレート（Rf-6）モノマーを，Arイオンアシストによる蒸着重合（IAD）法により... [more] | OME2012-55 OPE2012-127 pp.1-5 |
| OME | 2011-10-14 14:30 |
東京 | 機械振興会館 B3-2 | パラジウム触媒を用いたPEDOTの合成と蒸着膜形成 ○江口大海・土屋康佑・田中邦明・荻野賢司・臼井博明（東京農工大） OME2011-51 |
[more] | OME2011-51 pp.15-19 |
| EMD, CPM, OME (共催) |
2011-06-30 15:30 |
東京 | 機械振興会館 | イオンアシスト蒸着によるフッ素薄膜の密着性改善 ○泉田和夫・松田 剛・田中邦明・臼井博明（東京農工大） EMD2011-15 CPM2011-51 OME2011-29 |
ドライプロセスによる新たなフッ素系高分子膜形成技術として，イオンアシスト蒸着重合法を開発した．イオン照射によって基材表面... [more] | EMD2011-15 CPM2011-51 OME2011-29 pp.41-46 |
| OME | 2011-05-27 13:00 |
東京 | NTT武蔵野研究開発センター | 低分子スピンコート膜の光重合による燐光性高分子薄膜のパターン形成 宮川大地・室山雅和・田中邦明・○臼井博明（東京農工大） OME2011-14 |
アクリルモノマー，光重合開始剤，及び発光性ドーパントの低分子混合溶液をスピンコートし，フォトマスクを介して紫外線（UV）... [more] | OME2011-14 pp.1-6 |
| OME | 2011-05-27 13:40 |
東京 | NTT武蔵野研究開発センター | ベンゾフェノンSAM膜を用いたポリビニルカルバゾール膜のパターン形成 ○大塚華恵・金 性湖（東京農工大）・M.C.R. Tria（ヒューストン大）・田中邦明・R.C. Advincula・臼井博明（東京農工大） OME2011-16 |
エレクトロニクスルミネセンス（EL）素子をはじめとする有機デバイスでは，基板・膜界面の制御と薄膜パターン形成が重要な課題... [more] | OME2011-16 pp.11-16 |
| OME, OPE (共催) |
2010-11-12 13:50 |
東京 | 機械振興会館地下3階2号室 | TPD蒸着膜の熱重合による正孔輸送層の形成 室山雅和・市田杏子・田尻亜弥子・加藤大智・田中邦明・乙木栄志・○臼井博明（東京農工大） OME2010-56 OPE2010-126 |
テトラフェニルジアミノビフェニルのジビニル誘導体DvTPDを蒸着し，引き続き加熱することによって重合膜を形成した．200... [more] | OME2010-56 OPE2010-126 pp.7-12 |
| OME | 2010-10-22 13:25 |
東京 | NTT武蔵野研究開発センター | イオンアシスト蒸着によるフッ素系高分子薄膜の作製 ○松田 剛（東京農工大）・泉田和夫（住友精密工業）・田中邦明・臼井博明（東京農工大） OME2010-47 |
フッ素系高分子薄膜の新規な形成技術としてイオンアシスト蒸着法を試みた．基板表面に低エネルギーArイオンを照射しつつフッ化... [more] | OME2010-47 pp.5-10 |
| OME | 2010-10-22 14:15 |
東京 | NTT武蔵野研究開発センター | 蒸着重合法によるエポキシ高分子薄膜の作製 福井重一（東京農工大）・杉浦昭夫・新帯 亮・加藤和生（デンソー）・田中邦明・○臼井博明（東京農工大） OME2010-49 |
ジエポキシドモノマーとジアミンを共蒸着することによってエポキシ樹脂の薄膜を形成した．ジエポキシドとしてはbispheno... [more] | OME2010-49 pp.15-20 |
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