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SDM 2020-01-28
13:00
東京 機械振興会館 [招待講演]重アンモニアを用いた高信頼性メモリセル絶縁膜の形成
野口将希磯貝達典山下博幸澤 敬一藤塚良太山中孝紀岡田俊祐青山知憲相宗史記阿部淳子小川義宏中川聖士宮島秀史キオクシアSDM2019-82
信頼性の高い不揮発性メモリを実現するために、メモリセル絶縁膜の電荷保持特性の向上が望まれている。セル絶縁膜の一部であるト... [more] SDM2019-82
pp.1-4
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