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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
CPM 2015-10-14
14:20
東京 機械振興会館 超高密度イオン照射ビットパターン媒体実現のためのMnGa膜の薄膜化
松永隆雅福田憲吾大島大輝加藤剛志岩田 聡名大)・綱島 滋名古屋産業科学研CPM2015-79
 [more] CPM2015-79
pp.13-16
MRIS, ITE-MMS
(連催)
2013-03-08
15:50
愛知 名古屋大学 TbFe垂直磁化膜をメモリー層とした磁気トンネル接合の熱アシスト磁化反転
藤澤佑樹吉川大貴加藤剛志岩田 聡名大)・綱島 滋名古屋産業科学研MR2012-50
大きな垂直磁気異方性を有し, 低キュリー温度のTbFeをメモリー層とした[Co/Pd] / MgO / TbFe垂直磁気... [more] MR2012-50
pp.33-37
CPM 2012-09-25
13:30
東京 機械振興会館 規則合金膜へのイオン照射による磁気特性制御とビットパターン構造の作製
大島大輝谷本昌大加藤剛志岩田 聡名大)・綱島 滋名古屋産業科学研CPM2012-86
我々はこれまでに,L12-CrPt3規則合金膜に30 keVのKr+イオン照射を行うことでその磁気特性が容易に制御できる... [more] CPM2012-86
pp.5-9
MRIS, ITE-MMS
(連催)
2011-03-11
16:45
愛知 名古屋大学 TbFe層を用いた垂直磁化MTJの熱アシスト磁化反転
野田晃司藤澤佑樹加藤剛志岩田 聡名大)・綱島 滋名古屋産業科学研MR2010-63
希土類-遷移金属(RE-TM)膜をメモリー層とした垂直磁化型のTbFe / CoFeB / Al-O / [Co/Pd]... [more] MR2010-63
pp.47-51
ITE-MMS, MRIS
(共催)
2010-03-12
14:30
愛知 名古屋大学 Kr+イオン照射によるMnBi薄膜の構造変化と磁気特性制御
徐 倩茜加藤剛志岩田 聡綱島 滋名大MR2009-62
マグネトロンスパッタ成膜と350˚Cの熱処理により作成したMnBi (15 nm)膜に30 keVのKr+イオ... [more] MR2009-62
pp.21-26
MRIS, ITE-MMS
(共催)
2009-03-06
16:45
愛知 名古屋大学 CrPt3規則合金膜を利用したイオン照射型ビットパターンメディア
山内幸大・○大島大輝加藤剛志岩田 聡綱島 滋名大)・松本幸治森河 剛山形富士通)・尾崎一幸富士通研MR2008-68
マグネトロンスパッタ製膜後熱処理することで作製したCrPt3規則合金膜(20 nm厚)にKr+,Ar+イオン等を照射し,... [more] MR2008-68
pp.35-39
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