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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
SDM 2015-06-19
13:20
愛知 名古屋大学 ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー Tiナノドットを埋め込んだSiリッチ酸化膜の抵抗変化特性
加藤祐介荒井 崇大田晃生牧原克典宮崎誠一名大SDM2015-46
リモートH2プラズマ(H2-RP)支援によるTiナノドットの形成とその埋め込みがSiOx膜の抵抗変化特性に与える影響につ... [more] SDM2015-46
pp.41-45
SDM 2014-06-19
12:05
愛知 名古屋大学 ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー Mnナノドットを埋め込んだNi/SiOx/Ni構造の抵抗変化特性
荒井 崇大田晃生牧原克典宮崎誠一名大SDM2014-50
 [more] SDM2014-50
pp.37-42
SDM 2014-06-19
15:20
愛知 名古屋大学 ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー [依頼講演]ナノドットを電極に用いたNi/SiOx/Niダイオードの抵抗変化特性評価
大田晃生劉 冲荒井 崇竹内大智張 海牧原克典宮崎誠一名大SDM2014-56
 [more] SDM2014-56
pp.69-73
CPM 2012-10-27
09:10
新潟 まちなかキャンパス長岡 コールドスプレー法により作製したCu/Alターゲットを用いた反応性スパッタリング法によるCuAlO2薄膜の作製
横本拓也荒井 崇小坂孝之岡島和希山上朋彦阿部克也榊 和彦信州大CPM2012-104
コールドスプレー法により作製したCu/Alターゲットを用いた
反応性スパッタリング法によりCuAlO$_{2}$薄膜の... [more]
CPM2012-104
pp.61-64
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