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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
OPE, OCS, LQE
(共催)
2022-10-20
13:05
愛媛 松山市民会館 小ホール
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
多重化OAMビームにおける大気擾乱により生じる位相変動の光学的補償法
平澤祐樹岸川博紀藤方潤一徳島大OCS2022-17 OPE2022-63 LQE2022-26
大気擾乱の影響により、自由空間を伝搬する多重化OAM光ビームの強度・位相分布が変動する。受信機でOAM光ビームのモード次... [more] OCS2022-17 OPE2022-63 LQE2022-26
pp.1-4
OPE, OCS, LQE
(共催)
2022-10-20
13:30
愛媛 松山市民会館 小ホール
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
コヒーレント干渉を用いたBPSK信号のアグリゲーションによる8QAM信号への変調方式変換
石田大河岸川博紀藤方潤一徳島大OCS2022-18 OPE2022-64 LQE2022-27
変調フォーマット変換は,異なる変調方式のネットワーク間を接続する際に有用となる.本研究では,遅延干渉計を用いたコヒーレン... [more] OCS2022-18 OPE2022-64 LQE2022-27
pp.5-9
OPE, LQE
(共催)
2020-11-20
15:30
ONLINE オンライン開催 Si光変調器の高消光比化
小島大輝早大)・藤方潤一NEC)・北 智洋早大OPE2020-70 LQE2020-50
近年, 実用化されつつあるデジタルコヒーレント光通信では高消光比を持つSi光変調器が求められている. 本研究では消光比を... [more] OPE2020-70 LQE2020-50
pp.125-128
R, LQE, OPE, CPM, EMD
(共催)
2020-08-28
14:55
ONLINE オンライン開催 [招待講演]高感度低偏波依存1600nm帯受光可能な導波路型Ge-APD
小野英輝OKI)・藤方潤一野口将高光電子融合基盤技研)・高橋博之伊藤正紀志村大輔八重樫浩樹佐々木浩紀OKIR2020-15 EMD2020-14 CPM2020-7 OPE2020-27 LQE2020-7
Siフォトニクス技術を用いたGe受光器は、光通信用受光素子の小型化が実現できるものの、次世代光アクセスネットワークで検討... [more] R2020-15 EMD2020-14 CPM2020-7 OPE2020-27 LQE2020-7
pp.29-32
LQE 2018-07-13
10:00
北海道 北海道大学 [招待講演]高性能Si/SiGe変調器と光集積回路への応用
藤方潤一野口将高高橋重樹蔵田和彦光電子融合基盤技研)・竹中 充東大)・中村隆宏光電子融合基盤技研LQE2018-30
高効率で広帯域化が可能なMOS (metal-oxide-semiconductor)型Si光変調器,歪SiGe光変調器... [more] LQE2018-30
pp.39-42
OPE, LQE
(共催)
2016-06-17
11:00
東京 機械振興会館 量子ドットレーザを集積したSiフォトニクス光送信器による20-75°Cでの25Gbpsエラーフリー動作
牛田 淳屋敷健一郎水谷健二鈴木康之栗原 充徳島正敏藤方潤一萩原靖彦蔵田和彦光電子融合基盤技研OPE2016-10 LQE2016-20
マルチモードファイバ(MMF)伝送に用いる量子ドットレーザ(QDL)を集積したSiフォトニクス光送信器を作製し,20-7... [more] OPE2016-10 LQE2016-20
pp.7-10
OPE 2012-12-21
15:20
東京 機械振興会館 MSM型ゲルマニウム受光器の差動対光受信回路への応用
三浦 真藤方潤一野口将高岡本大典光電子融合基盤技研)・堀川 剛産総研)・荒川泰彦東大OPE2012-139
シリコン(Si)基板上への光電子集積技術の確立に向け,ゲルマニウム(Ge)受光器の開発とGe受光器を用いた光受信回路の検... [more] OPE2012-139
pp.27-31
MWP 2011-04-28
15:05
東京 機械振興会館 [招待講演]光電子融合システムに向けた高速・高密度シリコンフォトニクスデバイスの動向
中村隆宏賣野 豊藤方潤一光電子融合基盤技研)・荒川泰彦東大MWP2011-7
近年のユビキタス社会の進展や高精細映像等のリッチコンテンツの普及に伴い、スーパーコンピュータやデータセンタで処理・伝送さ... [more] MWP2011-7
pp.33-36
OPE 2006-02-17
16:30
東京 機械振興会館 プラズモンアンテナを利用したSiナノフォトダイオード
藤方潤一石 勉西 研一大橋啓之NEC
将来LSIにおける光配線技術に適用することを目的として、表面プラズモンにより増強される近接場光を利用した、高速・高効率な... [more] OPE2005-154
pp.47-51
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