| 電子情報通信学会 研究会発表申込システム 研究会 開催スケジュール |
技報閲覧サービス [ログイン] 技報アーカイブ |
すべての研究会開催スケジュール (検索条件: すべての年度)
| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| SDM | 2018-10-17 15:20 |
宮城 | 東北大学未来情報産業研究館５Ｆ | Low-Temperature Formation of Ohmic Contact for Si TFT Fabrication by Excimer Laser Doping with Phosphoric Acid Coating ○Kaname Imokawa（Kyushu Univ）・Nozomu Tanaka（Kyushu Univ.）・Akira Suwa（Kyushu Univ）・Daisuke Nakamura・Taizoh Sadoh（Kyushu Univ.）・Tetsuya Goto（New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku Univ.）・Hiroshi Ikenoue（Kyushu Univ）  SDM2018-54 |
Si TFTのコンタクト抵抗形成には、イオン注入やCVDなどの真空、高温（～500度）のプロセスが必要とされ，プリンタブ... [more] | SDM2018-54 pp.11-14 |
| SDM, OME (共催) |
2016-04-08 16:50 |
沖縄 | 沖縄県立博物館・美術館 博物館講座室 | スパッタSi膜へのマルチショットELAとメタルソース・ドレイン構造TFT ○原田大成・我喜屋風太・安次富卓哉・岡田竜弥・野口 隆（琉球大）・野田勘治・諏訪 輝（ギガフォトン）・池上 浩（九大）・奥山哲雄（東洋紡） SDM2016-10 OME2016-10 |
[more] | SDM2016-10 OME2016-10 pp.39-41 |
| ED | 2006-12-08 13:25 |
東京 | 機械振興会館 | 絶縁ゲートにより制御するホットエレクトロントランジスタの作製 ○諏訪 輝・長谷川貴史・日野高宏・宮本恭幸・古屋一仁（東工大） |
[more] | |
| ED, MW (共催) |
2006-01-18 15:20 |
東京 | 機械振興会館 | ゲートにより制御するホットエレクトロントランジスタにおける電流量の増大 ○鹿嶋一生・諏訪 輝（東工大）・宮本恭幸・古屋一仁（東工大/JST） |
[more] | ED2005-196 MW2005-150 pp.23-28 |
[研究会発表申込システムのトップページに戻る]