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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
SCE 2018-01-31
14:55
東京 機械振興会館 断熱型量子磁束パラメトロンを用いた低エネルギー強磁性体マトリックスメモリの検討
岩下颯斗谷口壮耶加藤悠輝佐野京佑田中雅光藤巻 朗名大SCE2017-41
高エネルギー効率な計算機の実現に向け、強磁性体パターンを記憶素子とする、マトリックスメモリの検討を行った。ビット線とワー... [more] SCE2017-41
pp.57-62
SCE 2017-08-09
11:00
愛知 名古屋大学(東山キャンパス) 強磁性体を用いた直流オフセット電流を要しない磁束量子パラメトロンの動作実証
岩下颯斗伊藤 大谷口壮耶田中雅光藤巻 朗名大SCE2017-11
 [more] SCE2017-11
pp.1-5
SCE 2017-04-21
11:15
東京 機械振興会館 超伝導デジタル回路応用に向けた磁性ジョセフソン接合の作製
神谷智大栗原卓也谷口壮耶伊藤 大赤池宏之藤巻 朗名大SCE2017-4
我々は、 ジョセフソン接合に磁性薄膜を導入した、超伝導体/磁性体/絶縁体/超伝導体(SFIS)の構造を持つ接合を作製して... [more] SCE2017-4
pp.17-22
SCE 2015-08-04
13:55
神奈川 横浜国立大学 磁性体パターンを用いたプログラマブル単一磁束量子論理セルの設計と評価
谷口壮耶伊藤 大石川航太黒川綜太田中雅光赤池宏之藤巻 朗名大SCE2015-9
我々は単一磁束量子(SFQ)回路を用いたプログラマブル回路の実現のため、磁性体パターンを用いた超伝導位相シフタに基づくプ... [more] SCE2015-9
pp.5-10
SCE 2014-01-24
15:05
東京 機械振興会館地下3階2号室 PdNi合金薄膜パターンを有するSQUIDの電気的特性
谷口壮耶伊藤 大石川航太赤池宏之藤巻 朗名大SCE2013-55
我々はSQUID上にPdNi合金薄膜パターンを持つ構造のデバイスを作製し、PdNi合金パターンがSQUIDの電気的特性に... [more] SCE2013-55
pp.117-121
SCE 2012-10-25
13:50
東京 機械振興会館地下3階1号室 磁性ナノ粒子薄膜を形成したSQUIDの閾値特性と共振ステップ
伊藤 大奥村崇之谷口壮耶赤池宏之藤巻 朗名大SCE2012-19
本誌では、磁性ナノ粒子膜を形成したSQUIDのインダクタンス変化のナノ粒子膜厚依存性及び共振ステップについて述べる。磁性... [more] SCE2012-19
pp.13-18
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