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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
SDM 2022-02-04
09:05
ONLINE オンライン開催 [招待講演]タイムラグ法を用いた極薄PVD-Co(W)薄膜の定量的バリア性評価
百瀬 健金 泰雄鄧 玉斌出浦桃子東大)・松尾 明山口述夫キヤノンアネルバ)・霜垣幸浩東大SDM2021-74
半導体集積回路のCu配線における極薄バリアの開発には,バリア性を定量的かつ簡潔に評価する手法が不可欠である。そのため我々... [more] SDM2021-74
pp.1-4
SDM 2016-01-22
13:55
東京 東京大学 山上会館 Fabrication of highly reliable Co(W) thin film by physical vapor deposition for next generation ULSI Cu interconnects
Taewoong KimKouta TomitaTakeshi MomoseUniv. of Tokyo)・Takaaki TsunodaTakayuki MoriwakiCANON ANELVA)・Yukihiro ShimogakiUniv. of TokyoSDM2015-114
 [more] SDM2015-114
pp.25-28
LQE, OPE
(共催)
2011-06-30
11:10
東京 機械振興会館 化合物半導体導波路を用いた波長変換素子の進展
松下智紀金 泰雄近藤高志東大OPE2011-19 LQE2011-19
AlGaAs導波路を用いた1.55~$\mu$m帯波長変換素子について報告する。周期空間反転AlGaAs導波路は、AlG... [more] OPE2011-19 LQE2011-19
pp.21-24
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