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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
ED, MW
(共催)
2024-01-25
15:55
東京 機械振興会館
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
ダイヤモンド放熱基板を用いたGaN HEMTの開発
白柳裕介三菱電機/熊本大)・友久伸吾三菱電機)・笠村啓司豊田洋輝熊本大)・松前貴司倉島優一高木秀樹産総研)・久保田章亀熊本大)・長永隆志三菱電機ED2023-69 MW2023-161
 [more] ED2023-69 MW2023-161
pp.15-18
MRIS, ITE-MMS
(連催)
2020-10-05
15:25
ONLINE オンライン開催 [招待講演]3次元積層技術を用いた多結晶電極上への単結晶磁気抵抗素子の作製 ~ 単結晶磁気抵抗素子の近年の進展 ~
桜庭裕弥チン カミン物質・材料研究機構)・薬師寺 啓倉島優一渡辺直也福島章雄高木秀樹菊地克弥湯浅新治産総研)・宝野和博物質・材料研究機構
 [more]
ED, MW
(共催)
2020-01-31
11:20
東京 機械振興会館 地下3階6号室 表面活性化常温接合法によるGaN-on-Diamond HEMTの作製
檜座秀一藤川正洋滝口雄貴西村邦彦柳生栄治三菱電機)・松前貴司倉島優一高木秀樹産総研)・山向幹雄三菱電機ED2019-97 MW2019-131
 [more] ED2019-97 MW2019-131
pp.21-24
SDM 2019-02-07
16:10
東京 東京大学/本郷 工学部4号館 42講義室 [招待講演]平滑なAuナノ薄膜を有する大気中にて常温接合可能な基板作製技術
松前貴司山本道貴倉島優一日暮栄治高木秀樹産総研SDM2018-97
平滑なAuナノ薄膜同士は大気中・室温でも直接接合できる。大気中・常温での放熱基板の直接接合のため、平滑なAuナノ薄膜を表... [more] SDM2018-97
pp.27-30
LQE, CPM, ED
(共催)
2017-12-01
10:55
愛知 名古屋工業大学 フォトニック結晶深紫外LEDの実現 ~ p型コンタクト層における高反射型フォトニック結晶によるAlGaN深紫外LEDの外部量子効率10%動作 ~
鹿嶋行雄丸文)・前田哲利理研)・松浦恵里子丸文)・定 昌史理研)・岩井 武森田敏郎東京応化)・小久保光典田代貴晴東芝機械)・上村隆一郎長田大和アルバック)・倉島優一高木秀樹産総研)・平山秀樹理研ED2017-60 CPM2017-103 LQE2017-73
 [more] ED2017-60 CPM2017-103 LQE2017-73
pp.55-60
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