研究会 |
発表日時 |
開催地 |
タイトル・著者 |
抄録 |
資料番号 |
VLD, RECONF (共催) |
2025-01-16 14:15 |
神奈川 |
キオクシア 横浜テクノロジーキャンパス Flagship棟 (ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催) |
CBAを用いた3次元フラッシュメモリ向け概略配線 ○下田将之・高橋篤司(Science Tokyo)・栁平康輔・平井美紀子(キオクシア)・渡邉寿和・岩澤利光(キオクシアシステムズ)・児玉親亮(キオクシア) |
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VLD, RECONF (共催) |
2025-01-16 14:40 |
神奈川 |
キオクシア 横浜テクノロジーキャンパス Flagship棟 (ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催) |
プロセスばらつきを考慮した交互最小化を用いたソースマスク最適化 ○倉持匡希・小平行秀(会津大)・高橋篤司(Science Tokyo)・児玉親亮(キオクシア) |
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VLD, HWS, ICD (共催) |
2024-02-28 15:30 |
沖縄 |
沖縄県男女共同参画センター【てぃるる】会議室1・2・3 (ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催) |
ダブルビア制約付きペア対称配線問題に対するSMTソルバを用いたテンプレート配線手法 ○徐 紫昂・田湯 智・高橋篤司(東工大)・モロンゴ マチュー・南 誠・西岡克也(JEDAT) VLD2023-102 HWS2023-62 ICD2023-91 |
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VLD2023-102 HWS2023-62 ICD2023-91 pp.18-23 |
VLD, HWS, ICD (共催) |
2024-02-28 15:55 |
沖縄 |
沖縄県男女共同参画センター【てぃるる】会議室1・2・3 (ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催) |
端子上下配置3層ボトルネック配線に対するトラック割当て法の提案 ○谷口和弥・田湯 智・高橋篤司(東工大)・モロンゴ マチュー・南 誠・西岡克也(ジーダット) VLD2023-103 HWS2023-63 ICD2023-92 |
ボトルネック配線方式における,各ネットの端子が配線領域の上辺と下辺に配置された3層配線問題に対し,配線可能性が高い端子配... [more] |
VLD2023-103 HWS2023-63 ICD2023-92 pp.24-29 |
HWS, VLD (共催) |
2023-03-01 14:55 |
沖縄 |
沖縄県青年会館 (ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催) |
振幅成分を利用した補正による忠実度の高いマスクパターン生成手法 ○堀本 遊・齊藤颯太・高橋篤司(東工大)・小平行秀(会津大)・児玉親亮(キオクシア) VLD2022-79 HWS2022-50 |
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VLD2022-79 HWS2022-50 pp.37-42 |
HWS, VLD (共催) |
2023-03-01 15:20 |
沖縄 |
沖縄県青年会館 (ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催) |
ボロノイ図を用いたSRAF配置とLUTベース光強度評価による高速SRAF最適化手法 ○齊藤颯太・堀本 遊・高橋篤司(東工大)・小平行秀(会津大)・児玉親亮(キオクシア) VLD2022-80 HWS2022-51 |
近年,集積回路の微細化に伴い光リソグラフィにおいて転写パターンの忠実度の低下やプロセス変動耐性の低下が問題となっている.... [more] |
VLD2022-80 HWS2022-51 pp.43-48 |
HWS, VLD (共催) |
2023-03-03 09:55 |
沖縄 |
沖縄県青年会館 (ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催) |
ボトルネック配線における配線可能性向上のための配線交差を考慮したトラック割当て法 ○谷口和弥・田湯 智・高橋篤司(東工大)・モロンゴ マチュー・南 誠・西岡克也(ジーダット) VLD2022-101 HWS2022-72 |
性能仕様を満たすアナログ集積回路を低面積で実現する自動設計技術が求められている.本研究では,面積削減のボトルネックとなる... [more] |
VLD2022-101 HWS2022-72 pp.149-154 |
HWS, VLD (共催) |
2023-03-03 10:20 |
沖縄 |
沖縄県青年会館 (ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催) |
共通信号制約付きコモンセントロイド配置におけるペア対称配線手法 ○徐 紫昂・田湯 智・高橋篤司(東工大)・モロンゴ マチュー・南 誠・西岡克也(ジーダット) VLD2022-102 HWS2022-73 |
アナログ集積回路では,素子特性の相対精度を頼りとした設計が一般に行われる.本研究は,コモンセントロイド配置されているトラ... [more] |
VLD2022-102 HWS2022-73 pp.155-160 |
VLD, DC, RECONF, ICD (共催) IPSJ-SLDM (連催) [詳細] |
2022-11-30 10:20 |
熊本 |
金沢市文化ホール (ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催) |
LUTベースの光強度推定による高速なSRAF最適化手法 ○齊藤颯太・高橋篤司(東工大) VLD2022-40 ICD2022-57 DC2022-56 RECONF2022-63 |
近年,集積回路の微細化に伴い光リソグラフィにおいて転写パターンの忠実度の低下やプロセス変動耐性の低下が問題となっている.... [more] |
VLD2022-40 ICD2022-57 DC2022-56 RECONF2022-63 pp.121-126 |
VLD, DC, RECONF, ICD (共催) IPSJ-SLDM (連催) [詳細] |
2022-11-30 10:45 |
熊本 |
金沢市文化ホール (ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催) |
ボロノイ分割と繰り返し改善によるマスク最適化手法 ○野中尚貴・小平行秀(会津大)・高橋篤司(東工大)・児玉親亮(キオクシア) VLD2022-41 ICD2022-58 DC2022-57 RECONF2022-64 |
製造プロセスの1 つである光リソグラフィの解像度を改善する技術のうち,ウェハ上に転写されるパタンの忠実性をマスク最適化に... [more] |
VLD2022-41 ICD2022-58 DC2022-57 RECONF2022-64 pp.127-132 |
VLD, HWS (共催) [詳細] |
2022-03-07 09:35 |
ONLINE |
オンライン開催 |
アナログ集積回路面積削減のためのボトルネックチャネル配線の提案 ○谷口和弥・田湯 智・高橋篤司(東工大)・轟 祐吉・南 誠(ジーダット) VLD2021-77 HWS2021-54 |
性能仕様を満たすアナログ集積回路を低面積で実現する自動設計技術が求められている.本研究では,レイアウト面積を減らすために... [more] |
VLD2021-77 HWS2021-54 pp.7-12 |
VLD, DC, RECONF, ICD, IPSJ-SLDM (連催) (併催) [詳細] |
2021-12-02 15:35 |
ONLINE |
オンライン開催 |
シミュレーテッド量子アニーリングを用いたマスク最適化手法 ○小平行秀・中山晴貴・野中尚貴(会津大)・松井知己・高橋篤司(東工大)・児玉親亮(キオクシア) VLD2021-45 ICD2021-55 DC2021-51 RECONF2021-53 |
半導体プロセスの微細化のために,光リソグラフィ技術の進展が求められている.光リソグラフィの解像度を改善する技術のうち,ウ... [more] |
VLD2021-45 ICD2021-55 DC2021-51 RECONF2021-53 pp.162-167 |
HWS, VLD (共催) [詳細] |
2020-03-04 09:55 |
沖縄 |
沖縄県青年会館 (開催中止,技報発行あり) |
集合対間配線における配線長差削減を考慮した端子対間配線手法 ○和田邦彦・佐藤真平・高橋篤司(東工大) VLD2019-95 HWS2019-68 |
接続要求が端子集合間に与えられる集合対間配線問題において,本稿では,総配線長および配線長差の削減を目的とする配線手法を提... [more] |
VLD2019-95 HWS2019-68 pp.7-12 |
HWS, VLD (共催) [詳細] |
2020-03-04 16:00 |
沖縄 |
沖縄県青年会館 (開催中止,技報発行あり) |
ラグランジュ緩和法と境界Flippingによるプロセスばらつきを考慮したピクセルベースマスク最適化手法 ○東 梨奈・小平行秀(会津大)・松井知己・高橋篤司(東工大)・児玉親亮(キオクシア) VLD2019-105 HWS2019-78 |
製造プロセスの微細化のために,光リソグラフィによる半導体加工技術の進展が求められている.光リソグラフィの解像度を改善する... [more] |
VLD2019-105 HWS2019-78 pp.65-70 |
HWS, VLD (共催) [詳細] |
2020-03-04 16:25 |
沖縄 |
沖縄県青年会館 (開催中止,技報発行あり) |
機械学習を用いたリソグラフィホットスポット検出手法と評価に関して ○高橋秀和・佐藤真平・高橋篤司(東工大) VLD2019-106 HWS2019-79 |
微細化が進展する中で,歩留まりを考慮したレイアウト設計の重要性が増している.
設計レイアウト内の歩留まり危険点箇所であ... [more] |
VLD2019-106 HWS2019-79 pp.71-76 |
VLD, DC, IPSJ-SLDM, IPSJ-EMB (連催) CPSY, IPSJ-ARC (連催) ICD, IE (共催) RECONF (併催) [詳細] |
2019-11-15 16:10 |
愛媛 |
愛媛県男女共同参画センター |
ホットスポットテストケースに用いられるデータベースの分析 ○小椋弘貴・高橋秀和・佐藤真平・高橋篤司(東工大) VLD2019-52 DC2019-76 |
半導体の回路パターンの微細化に伴い光リソグラフィの重要性が増してきている.最先端のプロセスでは微細で高密な回路パターンを... [more] |
VLD2019-52 DC2019-76 pp.191-196 |
VLD, DC, IPSJ-SLDM, IPSJ-EMB (連催) CPSY, IPSJ-ARC (連催) ICD, IE (共催) RECONF (併催) [詳細] |
2019-11-15 16:35 |
愛媛 |
愛媛県男女共同参画センター |
劣勾配法によるプロセスばらつきを考慮したマスク最適化手法 ○小平行秀・東 梨奈(会津大)・松井知己・高橋篤司(東工大)・児玉親亮(キオクシア) VLD2019-53 DC2019-77 |
製造プロセスの微細化のために,光リソグラフィによる半導体加工技術の進展が求められている.光リソグラフィの解像度を改善する... [more] |
VLD2019-53 DC2019-77 pp.197-202 |
HWS, VLD (共催) |
2019-02-27 13:55 |
沖縄 |
沖縄県青年会館 |
選択的な端子対接続による集合対間配線手法 ○赤木佳乃・佐藤真平・高橋篤司(東工大) VLD2018-99 HWS2018-62 |
集合対間配線問題に対し,最大配線長と配線長差の小さい配線パターンを効率よく生成する手法を提案する.提案手法は,まず,最大... [more] |
VLD2018-99 HWS2018-62 pp.37-42 |
IPSJ-SLDM, IPSJ-ARC (共催) RECONF, VLD, CPSY (共催) (連催) [詳細] |
2019-01-30 10:30 |
神奈川 |
慶応義塾大学 日吉キャンパス 来往舎 |
一般同期性能を向上させる遅延最適化に関する検討 ○佐々栄治郎・佐藤真平・高橋篤司(東工大) VLD2018-72 CPSY2018-82 RECONF2018-46 |
[more] |
VLD2018-72 CPSY2018-82 RECONF2018-46 pp.1-6 |
VLD, DC, IPSJ-SLDM, IPSJ-EMB (連催) CPSY, IPSJ-ARC (連催) CPM, ICD, IE (共催) RECONF (併催) [詳細] |
2018-12-07 14:10 |
広島 |
サテライトキャンパスひろしま |
0-1二次計画法によるプロセスばらつきを考慮したモデルベースマスク補正手法 ○東 梨奈・小平行秀(会津大)・松井知己・高橋篤司(東工大)・児玉親亮・野嶋茂樹(東芝メモリ) VLD2018-70 DC2018-56 |
半導体製造における回路パターンの限界寸法の縮小のため,光リソグラフィによる半導体加工技術の進歩が求められている.光リソグ... [more] |
VLD2018-70 DC2018-56 pp.209-214 |