お知らせ 研究会の開催と会場に参加される皆様へのお願い(2022年6月開催~)
電子情報通信学会 研究会発表申込システム
研究会 開催スケジュール
技報閲覧サービス
[ログイン]
技報アーカイブ
    [Japanese] / [English] 
研究会名/開催地/テーマ  )→
 
講演検索  検索語:  /  範囲:題目 著者 所属 抄録 キーワード )→

すべての研究会開催スケジュール  (すべての年度)

講演検索結果
 登録講演(開催プログラムが公開されているもの)  (日付・降順)
 7件中 1~7件目  /   
研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
OME 2015-05-29
15:30
東京 機械振興会館 正倒立蛍光顕微鏡による泳動粒子の同期挙動観察法
泉田和夫サクラクレパス)・星 幸一フローベル
 [more]
OME 2013-03-08
15:00
東京 機械振興会館 B1-2 グラビアオフセット/フレキソ印刷法によるフレキシブルデバイス用精密パターン形成技術
泉田和夫ミクロ技研OME2012-110
精密印刷の研究開発は長年にわたり印刷性能の向上と印刷機能の要求仕様の実現に取り組まれているが,デバイス構築のためには未だ... [more] OME2012-110
pp.21-25
OME, OPE
(共催)
2012-11-16
13:05
東京 機械振興会館 傾斜機能を持つフッ素系蒸着重合膜による反射防止効果
泉田和夫ミクロ技研)・松田 剛河西 匠田中邦明臼井博明東京農工大OME2012-55 OPE2012-127
2-(パーフルオロヘキシル)エチルアクリレート(Rf-6)モノマーを,Arイオンアシストによる蒸着重合(IAD)法により... [more] OME2012-55 OPE2012-127
pp.1-5
EMD, CPM, OME
(共催)
2011-06-30
15:30
東京 機械振興会館 イオンアシスト蒸着によるフッ素薄膜の密着性改善
泉田和夫松田 剛田中邦明臼井博明東京農工大EMD2011-15 CPM2011-51 OME2011-29
ドライプロセスによる新たなフッ素系高分子膜形成技術として,イオンアシスト蒸着重合法を開発した.イオン照射によって基材表面... [more] EMD2011-15 CPM2011-51 OME2011-29
pp.41-46
OME 2010-10-22
13:25
東京 NTT武蔵野研究開発センター イオンアシスト蒸着によるフッ素系高分子薄膜の作製
松田 剛東京農工大)・泉田和夫住友精密工業)・田中邦明臼井博明東京農工大OME2010-47
フッ素系高分子薄膜の新規な形成技術としてイオンアシスト蒸着法を試みた.基板表面に低エネルギーArイオンを照射しつつフッ化... [more] OME2010-47
pp.5-10
OME 2009-07-23
13:25
長野 (財)加藤科学振興会軽井沢研修所 イオン照射アシストによる蒸着重合膜の作製
臼井博明外輪俊介田中邦明東京農工大)・泉田和夫東京農工大/住友精密工業OME2009-29
低分子モノマーの物理蒸着とイオン照射を組み合わせ,新規な高分子製膜技術を開発した.高真空槽内でモノマー材料として亜鉛アク... [more] OME2009-29
pp.5-8
OME 2009-05-22
13:00
東京 機械振興会館 メンブレンスイッチを背面板とした電子ペーパディスプレイの開発 ~ Roll to Rollプロセスへのアプローチ ~
泉田和夫住友精密工業)・臼井博明東京農工大OME2009-13
 [more] OME2009-13
pp.23-28
 7件中 1~7件目  /   
ダウンロード書式の初期値を指定してください NEW!!
テキスト形式 pLaTeX形式 CSV形式 BibTeX形式
著作権について : 以上の論文すべての著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)


[研究会発表申込システムのトップページに戻る]

[電子情報通信学会ホームページ]


IEICE / 電子情報通信学会