| 電子情報通信学会 研究会発表申込システム 研究会 開催スケジュール |
技報閲覧サービス [ログイン] 技報アーカイブ |
すべての研究会開催スケジュール (検索条件: すべての年度)
| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| COMP | 2014-04-24 10:20 |
宮城 | 東北大学 | 細帯グラフ 大舘陽太（北陸先端大）・河村彰星（東大）・○篠原英裕（東北大）・林 貴史・山崎浩一（群馬大）  COMP2014-1 |
ある単位円グラフがemph{$c$帯グラフ}であるとは，そのグラフのある単位円表現において 全ての円の中心が幅$c... [more] |
COMP2014-1 pp.1-4 |
| COMP | 2012-10-31 14:40 |
宮城 | 東北大学 | On 1 + $\epsilon$ strip graphs Takashi Hayashi（Gunma Univ.）・○Hidehiro Shinohara（Tohoku Univ.）・Koichi Yamazaki（Gunma Univ.） COMP2012-39 |
単位円グラフ$G$が$\varepsilon$-strip グラフとは, すべての単位円の中心点が幅$\vareps... [more] |
COMP2012-39 pp.33-36 |
| NS, RCS (併催) |
2010-12-17 13:20 |
岡山 | 岡山大学 | ターボ型Nested符号を用いた送信ダイバーシティの特性評価 ○林 貴志・石井光治（香川大）・平田 梢・藤 晋平・窪田 稔（シャープ） RCS2010-190 |
Nested符号は複数の独立に符号化された符号語をXOR演算により合成する符号である．受信側で既知の情報成分がある場合は... [more] | RCS2010-190 pp.185-190 |
| RCS, SAT (併催) |
2009-12-17 09:40 |
東京 | 機械振興会館 | Nested符号を用いた送信ダイバーシティの設計とその解析 ○石井光治・林 貴志（香川大）・平田 梢・藤 晋平・窪田 稔（シャープ） RCS2009-169 |
本稿では，Nested 符号を用いた送信ダイバーシティを提案し，その基本設計と理論解析を行う．一般にダイバーシティ利得を... [more] | RCS2009-169 pp.13-18 |
| RCS, SAT (併催) |
2009-12-17 10:00 |
東京 | 機械振興会館 | Nested符号を用いた送信ダイバーシティの特性評価 ○林 貴志・石井光治・生越重章（香川大）・平田 梢・藤 晋平・窪田 稔（シャープ） RCS2009-170 |
本稿は，理論的に提案されているNested 符号を用いた送信ダイバーシティを具体的に設計し，その特性を計算機シミュレーシ... [more] | RCS2009-170 pp.19-24 |
| SDM, VLD (共催) |
2007-10-30 15:00 |
東京 | 機械振興会館 | <110>チャネルnMOS移動度のストレスライナー膜による影響 ○高篠裕行・岡垣 健・内田哲也・林 岳・谷沢元昭・佃 栄次・永久克己・若原祥史・石川清志・土屋 修・井上靖朗（ルネサステクノロジ） VLD2007-57 SDM2007-201 |
電子の有効ハミルトニアンから剪断歪みと量子閉じ込め現象を取り込んだモデルを提 案。曲げ実験から65nmノードのストレス... [more] |
VLD2007-57 SDM2007-201 pp.33-36 |
| SDM, VLD (共催) |
2007-10-30 15:50 |
東京 | 機械振興会館 | 65nmノード歪みpMOSFETのホール伝導における全応力の効果の検証 ○佃 栄次（ルネサステクノロジ）・鎌倉良成（阪大）・高篠裕行・岡垣 健・内田哲也・林 岳・谷沢元昭・永久克己・若原祥史・石川清志・土屋 修・井上靖朗（ルネサステクノロジ）・谷口研二（阪大） VLD2007-59 SDM2007-203 |
本研究では、フル3D プロセスシミュレーターによる応力計算と反転層のサブバンドを考慮したkp 法にもとづくバンド計算から... [more] | VLD2007-59 SDM2007-203 pp.43-46 |
| SDM | 2006-06-21 15:20 |
広島 | 広島大学, 学士会館 | フェルミピニングによるpoly-Si電極の仕事関数制御と低電力用CMOSFET特性の向上 ○嶋本泰洋（日立）・由上二郎・井上真雄・水谷斉治・林 岳・米田昌弘（ルネサステクノロジ） |
[more] | SDM2006-47 pp.31-35 |
| ICD, SDM (共催) |
2005-08-19 11:35 |
北海道 | 函館国際ホテル | poly-Si電極における仕事関数変調とそのデバイスインパクト ～ SiON/poly-Si界面の微量Hfの効果 ～ ○由上二郎（ルネサステクノロジ）・嶋本泰洋（日立）・井上真雄・水谷斉治・林 岳・志賀克哉・藤田文子・土本淳一・大野吉和・米田昌弘（ルネサステクノロジ） |
SiON/poly-Si界面に微量Hfを添加することにより、poly-Si電極の仕事関数変調が可能になる。我々は、本技術... [more] | SDM2005-149 ICD2005-88 pp.37-42 |
[研究会発表申込システムのトップページに戻る]