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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
SDM 2024-11-07
14:00
東京 機械振興会館 5階 5S-2 会議室 (東京都, オンライン)
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
[招待講演]パワーデバイスにおけるモールドエポキシ樹脂のTCADシミュレーションモデリング
玉城朋宏海老原洪平小西和也岸本幸樹曽根田真也高橋徹雄新田哲也綿引達郎三菱電機)・李 根三日本シノプシスSDM2024-57
パワーデバイス製品において、高電圧に対する長期信頼性は重要な要件の一つである。本研究では、この長期信頼性にモールド樹脂封... [more] SDM2024-57
pp.10-15
MW, ED
(共催)
2023-01-27
13:40
東京 機械振興会館 (東京都, オンライン)
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
ノーマリオフ型EID-AlGaN/GaN MOS-HEMTの大電流/高耐圧動作実証
南條拓真品川友宏綿引達郎三浦成久古橋壮之西川和康三菱電機)・江川孝志名工大ED2022-93 MW2022-152
AlGaN/GaN High Electron Mobility Transistor(HEMT)は,通信用の高周波高出... [more] ED2022-93 MW2022-152
pp.36-39
ED, CPM, LQE
(共催)
2021-11-26
16:50
ONLINE オンライン開催 (オンライン) 完全空乏したAlGaN/GaNエピタキシャル層を用いたプレーナ型EID-MOS-HEMTのノーマリオフ動作実証
南條拓真今澤貴史清井 明林田哲郎綿引達郎三浦成久三菱電機ED2021-36 CPM2021-70 LQE2021-48
 [more] ED2021-36 CPM2021-70 LQE2021-48
pp.95-98
MW, ED
(共催)
2019-01-17
15:25
東京 日立中研 (東京都) ノーマリオフ型GaN MOS-HFETにおけるバイアスアニールの効果
南條拓真小山英寿今井章文綿引達郎山向幹雄三菱電機ED2018-78 MW2018-145
GaN系半導体は、高周波デバイスだけではなく、高出力スイッチングデバイスに用いる半導体材料として近年注目を集めており、ノ... [more] ED2018-78 MW2018-145
pp.55-58
MW, ED
(共催)
2019-01-17
15:50
東京 日立中研 (東京都) GaN-on-GaN構造の採用による転位密度低減に伴う高電界ストレスに対する電流コラプス特性の改善効果
今井章文吉嗣晃治南條拓真綿引達郎山向幹雄三菱電機ED2018-79 MW2018-146
 [more] ED2018-79 MW2018-146
pp.59-62
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