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| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| EA, US (併催) |
2023-12-22 13:00 |
福岡 | 九州大学 大橋キャンパス デザインコモン 2階 | ［ポスター講演］エピ犠牲層エッチングを用いたエピ圧電層/音響ブラッグ反射器構造の作製 ○渡海 智・柳谷隆彦（早大）  US2023-60 |
B AW (Bulk Acoustic 共振子の圧電層に単結晶薄膜を用いることで、Q 値や耐電力性が向上することが期待で... [more] | US2023-60 pp.24-29 |
| ED | 2023-12-07 14:50 |
愛知 | ウインクあいち（愛知県産業労働センター） | 三極型大電力パルススパッタリングによる窒化ハフニウムスピント型フィールドエミッタアレイの作製 ○近藤 駿（成蹊大/産総研）・中野武雄・モハメッド シュルズ ミヤ（成蹊大）・長尾昌善・村田博雅（産総研） ED2023-41 |
我々は、イオン化スパッタリング技術の一種である三極型大電力パルススパッタリング法（t-HPPMS）を用いたスピント型エミ... [more] | ED2023-41 pp.11-14 |
| US | 2023-11-27 13:45 |
静岡 | 静岡大学 | c軸平行配向ZnO膜の面内配向性及び圧電性の向上と厚みすべりモード共振子への応用 ～ 基板への粒子照射方向を制限したスパッタ成膜に関する検討 ～ ○冨山直樹・高柳真司（同志社大）・柳谷隆彦（早大） US2023-49 |
c軸が基板に対して平行に揃ったZnO膜は横波を励振でき、厚みすべりモード共振子に適している。この薄膜はRFマグネトロンス... [more] | US2023-49 pp.34-39 |
| SDM | 2023-10-13 17:00 |
宮城 | 東北大学未来情報産業研究館５Ｆ | 窒素添加LaB6 /LaBxNy積層構造を用いたボトムゲート型OFET/ReRAM集積化に関する検討 ○趙 嘉昂・大見俊一郎（東工大） SDM2023-61 |
本研究では、窒素添加LaB6をターゲットとしてAr/N2プラズマを用いた反応性スパッタ法により形成したLaBxNy絶縁膜... [more] | SDM2023-61 pp.46-49 |
| MIKA (第三種研究会) |
2023-10-10 15:35 |
沖縄 | 沖縄県市町村自治会館 （ハイブリッド開催，主：現地開催，副：オンライン開催） |
［ポスター講演］RFフィルタ向けエピタキシャル圧電薄膜多層構造 ○渡海 智・柳谷隆彦（早大） |
スマートフォンに代表される無線通信デバイスには、複数の無線周波数から所望の周波数のみを選択し送受信するための周波数フィル... [more] | |
| CPM | 2023-08-01 10:05 |
北海道 | 北見工業大学 （ハイブリッド開催，主：現地開催，副：オンライン開催） |
反応性スパッタリングによるTiおよびV系MAX合金薄膜形成と物性評価 ○上田和貴・若松和伸・齊藤丈靖・岡本尚樹（阪公立大） CPM2023-20 |
現在、最先端の半導体デバイスの配線材料はCuが主流であるが、Cuは周囲に容易に拡散して電気特性を劣化させるため、拡散防止... [more] | CPM2023-20 pp.33-35 |
| EST, MW, EMT, OPE, MWPTHz (共催) IEE-EMT (連催) [詳細] |
2023-07-20 15:15 |
北海道 | 室蘭工業大学 （ハイブリッド開催，主：現地開催，副：オンライン開催） |
Brillouin光散乱法によるScAlN薄膜の弾性定数テンソルの測定 ○内田拓希（早大）・市橋隼人（同志社大）・鈴木雅視（山梨大）・高柳真司・松川真美（同志社大）・柳谷隆彦（早大） EMT2023-20 MW2023-38 OPE2023-20 EST2023-20 MWPTHz2023-16 |
Brillouin光散乱法は、膜厚情報に無依存にTime-of-flight を使わずにGHz帯の超音波速度を測定できる... [more] | EMT2023-20 MW2023-38 OPE2023-20 EST2023-20 MWPTHz2023-16 pp.61-66 |
| MRIS, ITE-MMS (連催) |
2023-06-08 15:50 |
宮城 | 東北大（通研） （ハイブリッド開催，主：現地開催，副：オンライン開催） |
Co酸化物添加ターゲット材からの酸素欠損補填スパッタリングによるCoPtCr-酸化物グラニュラ型磁気テープの開発 ○立花淳一・小林弘幸・齋 輝夫・相澤隆嗣（ソニーストレージメディアソリューションズ）・斉藤 伸（東北大） MRIS2023-4 |
スパッタテープのノイズ低減を目的として，ロール・トゥ・ロール式スパッタリング装置によるグラニュラ記録層の成膜において，C... [more] | MRIS2023-4 pp.21-26 |
| SDM, OME (共催) |
2023-04-22 10:05 |
沖縄 | 沖縄県青年会館 （ハイブリッド開催，主：現地開催，副：オンライン開催） |
Neを用いてガラス上にスパッタ堆積したInSb膜のRTAによる結晶化 ○岡田竜弥・チャリット ジャヤナダ コスワッタゲー（琉球大）・梶原隆司・佐道泰造（九大）・野口 隆（琉球大） SDM2023-8 OME2023-8 |
安価な絶縁基板上への高結晶性InSb膜の形成に向けて、ArガスおよびNeガスを用いたRFスパッタリング法により製膜したI... [more] | SDM2023-8 OME2023-8 pp.30-31 |
| SDM, OME (共催) |
2023-04-22 10:30 |
沖縄 | 沖縄県青年会館 （ハイブリッド開催，主：現地開催，副：オンライン開催） |
スパッタ堆積InSb薄膜/ガラス基板の急速熱処理法による結晶成長 ○梶原隆司（九大）・岡田竜弥・チャリット ジャヤナダ コスワッタゲー・野口 隆（琉球大）・佐道泰造（九大） SDM2023-9 OME2023-9 |
高移動度InSb薄膜の低コストな形成プロセスの創出を目指し、ガラス基板上へArプラズマを用いてスパッタ成膜したInSb膜... [more] | SDM2023-9 OME2023-9 pp.32-33 |
| OME | 2023-01-27 14:10 |
高知 | 高知商工会館 （ハイブリッド開催，主：現地開催，副：オンライン開催） |
ニッケルナノ粒子修飾カーボン薄膜電極の電気化学触媒活性向上 ○丹羽 修・太田早紀・大谷和也・小池綾香・高橋将太（埼玉工大）・鎌田智之・加藤 大（産総研）・芝 駿介（愛媛大） OME2022-76 |
金属ナノ粒子は、高い電極触媒活性を示すことから燃料電池の電極や酵素を用いないグルコースセンサなどへの応用が期待されている... [more] | OME2022-76 pp.9-13 |
| EA, US (併催) |
2022-12-22 16:50 |
広島 | サテライトキャンパスひろしま | ［ポスター講演］LiNbO3スパッタエピ薄膜のGHz帯励振特性 ○工藤慎也・柳谷隆彦（早大） US2022-66 |
LiNbO3は、Q値とk2値が高いため、SAWフィルタに使用されている。しかし、通常のスパッタリング法で成長できるc軸配... [more] | US2022-66 pp.86-91 |
| ED | 2022-12-08 14:10 |
愛知 | 12/8 名大，12/9 ウインク愛知（会場は「詳細はこちら」を参照ください） | 直流および高周波マグネトロンスパッタ法により成膜した窒化ハフニウム薄膜の仕事関数の測定 ○大住知暉（京大）・長尾昌善（産総研）・後藤康仁（京大） ED2022-53 |
直流および高周波マグネトロンスパッタ法を用い, 成膜時に導入するガスの窒素流量比を変化させ, 窒素組成の異なる窒化ハフニ... [more] | ED2022-53 pp.15-17 |
| SDM | 2022-10-19 17:20 |
ONLINE | オンライン開催に変更 | 強誘電性ノンドープHfO2薄膜を用いたMFSFETのしきい値電圧制御に関する検討 ○田沼将一・Joong-Won Shin・大見俊一郎（東工大） SDM2022-63 |
強誘電性HfO2薄膜は、従来の強誘電体材料では困難であったSi基板上への形成が可能であり、強誘電体ゲートトランジスタへ(... [more] | SDM2022-63 pp.38-42 |
| CPM | 2022-08-04 16:15 |
北海道 | 北見工業大学 | マグネトロンスパッタ法による炭化ホウ素膜特性への水素ガスの効果 ○西田竜也・谷口 颯・佐藤聖能・小林康之・遠田義晴・鈴木裕史（弘前大）・吹留博一（東北大）・中澤日出樹（弘前大） CPM2022-15 |
炭化ホウ素(B4C)ターゲットを用いたRFマグネトロンスパッタ法によりアモルファスB4C薄膜およびH2を導入して水素化ア... [more] | CPM2022-15 pp.14-17 |
| SDM, ED, CPM (共催) |
2022-05-27 14:40 |
ONLINE | オンライン開催 | 反応性スパッタリングによる窒化物誘電体薄膜の堆積とシリコンフォトニクス応用 ○福島孝晃・ホセ ピエドラ ロレンサナ・土谷 塁・飛沢 健・石川靖彦（豊橋技科大） ED2022-10 CPM2022-4 SDM2022-17 |
SiNxはSiに比べて熱光学係数が約1桁小さい特長があり、熱的に安定動作する合分波器など、シリコンフォトニクス素子の特性... [more] | ED2022-10 CPM2022-4 SDM2022-17 pp.13-16 |
| CPM | 2021-10-27 10:30 |
ONLINE | オンライン開催 | Cu-TSVのためのSiNx膜の低温堆積法に関する検討 ○佐藤 勝・武山真弓（北見工大） CPM2021-21 |
3次元集積回路におけるCuを用いたシリコン貫通ビアでは、絶縁膜の200℃以下での堆積法を実現することが望まれている。そこ... [more] | CPM2021-21 pp.5-7 |
| SDM | 2021-10-21 13:25 |
ONLINE | オンライン開催 | 界面層を用いた強誘電性ノンドープHfO2薄膜形成に関する検討 ○田沼将一・Joong-Won Shin・大見俊一郎（東工大） SDM2021-47 |
強誘電体HfO_2薄膜は、従来の強誘電体材料では困難であったSi基板上への形成が可能であり、強誘電体ゲートトランジスタ(... [more] | SDM2021-47 pp.12-15 |
| MRIS, ITE-MMS (連催) |
2021-10-08 15:35 |
ONLINE | オンライン開催 | Pt/Co/CoO/アモルファスTiOx構造における電圧誘起保磁力変化 ○野崎友大・田丸慎吾・甲野藤 真・野﨑隆行・久保田 均・福島章雄・湯浅新治（産総研） MRIS2021-9 |
近年、磁気抵抗メモリ(MRAM)にも適用可能な低消費電力な書き込みの手段として、電圧による磁気異方性制御(VCMA)効果... [more] | MRIS2021-9 pp.13-16 |
| MRIS, ITE-MMS (連催) |
2021-06-11 10:00 |
宮城 | 東北大通研 （ハイブリッド開催，主：現地開催，副：オンライン開催） |
NiOおよびCu2O下地膜上に成膜したコバルトフェライト薄膜の磁気特性 ○岩動大樹（東北大）・神島謙二・柿崎浩一（埼玉大） MRIS2021-4 |
コバルトフェライト(CFO)に垂直磁気異方性を発現させることを目的として、配向制御用下地膜上にCFOを積層し、その結晶構... [more] | MRIS2021-4 pp.18-21 |
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