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すべての研究会開催スケジュール (検索条件: 最近10年)
| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| QIT (第二種研究会) |
2024-11-28 16:00 |
香川 | サンポートホール高松 | ゼロ磁場ダイヤモンド量子シミュレータにおける離散時間結晶 ○江川直也・那須譲治（東北大）・水田 郁（東大） |
離散時間結晶は，周期的に駆動されるシステムにおける新しい非平衡物質相の1つとして登場している．これは個々の量子状態の制御... [more] | |
| MRIS, CPM (共催) ITE-MMS (連催) [詳細] |
2024-11-01 11:50 |
長野 | 信州大学長野(工学)キャンパス （ハイブリッド開催，主：現地開催，副：オンライン開催） |
プラズマCVD法によるSi、NおよびO添加DLC膜の機械的特性およびトライボロジー特性 ○山崎雄也・片山遼耶・遠田義晴・鈴木裕史・小林康之・中澤日出樹（弘前大）  MRIS2024-25 CPM2024-54 |
高周波プラズマ化学気相成長法によりSi、NおよびOを添加したダイヤモンドライクカーボン(Si-N-O-DLC)薄膜を作製... [more] | MRIS2024-25 CPM2024-54 pp.73-76 |
| CPM | 2024-02-29 13:45 |
山形 | 山形大学工学部 （ハイブリッド開催，主：現地開催，副：オンライン開催） |
SiおよびN添加ダイヤモンドライクカーボン膜へのO添加の効果 ○山崎雄也・鈴木裕史・小林康之・中澤日出樹（弘前大） CPM2023-105 |
高周波プラズマ化学気相成長法によりシリコン、窒素および酸素を共添加したダイヤモンドライクカーボン(Si-N-O-DLC)... [more] | CPM2023-105 pp.38-41 |
| MW | 2024-02-29 14:30 |
岡山 | 岡山県立大学 （ハイブリッド開催，主：現地開催，副：オンライン開催） |
ナノダイヤモンドへの平行平板線路によるマイクロ波磁界の印加と同軸線路との変換器 ○木村恒貴・佐薙 稔（岡山大） MW2023-181 |
2.87GHzのマイクロ波磁界を印加した蛍光ナノダイヤモンドを用いると生体細胞内の温度分布を測定できる。本報告ではナノダ... [more] | MW2023-181 pp.37-42 |
| ED, MW (共催) |
2024-01-25 15:55 |
東京 | 機械振興会館 （ハイブリッド開催，主：現地開催，副：オンライン開催） |
ダイヤモンド放熱基板を用いたGaN HEMTの開発 ○白柳裕介（三菱電機/熊本大）・友久伸吾（三菱電機）・笠村啓司・豊田洋輝（熊本大）・松前貴司・倉島優一・高木秀樹（産総研）・久保田章亀（熊本大）・長永隆志（三菱電機） ED2023-69 MW2023-161 |
常温活性化接合法を用いて，1インチ級モザイクダイヤモンド基板上に窒化ガリウム高電子移動度トランジスタ（GaN HEMT）... [more] | ED2023-69 MW2023-161 pp.15-18 |
| MRIS, CPM, OME (共催) ITE-MMS (連催) [詳細] |
2023-10-27 10:30 |
新潟 | 新潟大学(駅南キャンパスときめいと) （ハイブリッド開催，主：現地開催，副：オンライン開催） |
SiおよびN添加ダイヤモンドライクカーボン膜の機械的特性および耐熱性 ○山崎雄也・佐々木祐弥・中澤日出樹（弘前大） MRIS2023-17 CPM2023-51 OME2023-38 |
希釈ガスにH2およびArを用いたプラズマ化学気相成長法によりシリコンおよび窒素を共添加したダイヤモンドライクカーボン(S... [more] | MRIS2023-17 CPM2023-51 OME2023-38 pp.33-36 |
| QIT (第二種研究会) |
2022-05-30 13:30 |
ONLINE | オンライン開催 | ［ポスター講演］イオン注入法を用いた極微ナノダイヤモンドへの単一SiVセンターの作製 ○鈴木和樹・嶋﨑幸之介・高島秀聡（京大）・阿部浩之・大島 武（QST）・竹内繁樹（京大） |
ナノダイヤモンド中のカラーセンターは、量子技術への応用が注目されている。その中でもシリコン欠陥中心(SiVセンター)はゼ... [more] | |
| SDM | 2022-02-04 13:40 |
ONLINE | オンライン開催 | ［招待講演］ダイヤモンドスピン量子コンピューターに向けた三次元集積技術 ○石原良一・Jeffrel Hermias・Shuichang Yu・King Y. Yu・Ye Li・Maurice van der Maas・Salahuddin Nur（デルフト工科大）・岩井俊樹・宮武哲也・河口研一・土肥義康・佐藤信太郎（富士通） SDM2021-79 |
ダイヤモンド中のスピンを用いた量子コンピューターは、比較的高い冷却温度（４K）で量子操作が行えること、光を介した量子もつ... [more] | SDM2021-79 pp.21-26 |
| CPM | 2021-10-27 13:20 |
ONLINE | オンライン開催 | プラズマ化学気相成長法によるSi及びN添加ダイヤモンドライクカーボン膜の光学的特性および電気的特性に及ぼすH₂及びAr希釈の効果 ○佐々木祐弥・長内公哉・大谷優介・室野優太・佐藤聖能・小林康之・遠田義晴・鈴木裕史・中澤日出樹（弘前大） CPM2021-26 |
希釈ガスにAr及びH₂を用いたプラズマ化学気相成長法によりケイ素(Si)及び窒素(N)を添加したダイヤモンドライクカーボ... [more] | CPM2021-26 pp.23-28 |
| QIT (第二種研究会) |
2021-05-24 13:30 |
ONLINE | オンライン開催 | ［ポスター講演］ダイヤモンドNV中心の光検出磁気共鳴に合わせたマイクロ波アンテナの開発とその生体試料応用 ○押味佳裕（阪市大/岡山大）・西村勇姿・仕幸英治・竹澤有華・中台(鹿毛) 枝里子（阪市大）・藤原正澄（阪市大/岡山大）・手木芳男（阪市大） |
窒素欠陥（NV）中心を有する蛍光ナノダイヤモンド（ND）を用いてナノ領域での電場、磁場などの様々な環境物理情報を得ること... [more] | |
| OME | 2019-12-26 11:05 |
沖縄 | 沖縄県青年会館 | ダイヤモンド電極の作製と電解硫酸技術 ○新藤恵美（千葉工大）・永井達夫（ミクロエース）・坂本幸弘（千葉工大） OME2019-50 |
ホウ酸トリメチルB(CH3O)3をホウ素源として用い，マイクロ波プラズマCVD装置を用いてボロンドープダイヤモンドを合成... [more] | OME2019-50 pp.9-12 |
| ED | 2019-11-22 10:25 |
東京 | 機械振興会館 | n型ダイヤモンド酸素終端表面からの電子放出のエネルギー分析 ○増澤智昭・根尾陽一郎・三村秀典（静岡大）・岡野 健（国際基督教大）・山田貴壽（産総研） ED2019-71 |
リン添加n型ダイヤモンド酸素終端表面からの電子放出メカニズムを調べるため、紫外線光電子分光法と電界放出電子分光による電子... [more] | ED2019-71 pp.47-49 |
| CPM | 2019-11-07 15:00 |
福井 | 福井大学 文京キャンパス | 窒素を添加したDLC膜特性へのアニール効果 ○長内公哉・中村和樹・郡山春人・小林康之・遠田義晴・鈴木裕史（弘前大）・末光眞希（東北大）・中澤日出樹（弘前大） CPM2019-46 |
希釈ガスにH2を用いたプラズマ化学気相成長法により窒素を添加したダイヤモンドライクカーボン(N-DLC)膜を作製し、真空... [more] | CPM2019-46 pp.9-14 |
| MRIS, ITE-MMS, IEE-MAG (連催) |
2019-10-18 14:15 |
福岡 | 九州大学 (西新プラザ) | 単結晶ダイヤモンドへのスピン注入に向けた電極形成に関する研究 ○アブバクル エスラム・坂井拓也・ゼクリア アブデルラーマン（九大）・片宗優貴（九工大）・大曲新矢（産総研）・妹川 要・池上 浩（九大）・堺 研一郎（久留米高専）・吉武 剛（九大） MRIS2019-37 |
単結晶ダイヤモンドは長いスピン輸送長を可能とする材料として極めて有望である． ダイヤモンドは5.47 eVの大きなバンド... [more] | MRIS2019-37 pp.119-122 |
| OME, IEE-DEI (連催) |
2019-07-05 15:45 |
新潟 | トキ交流会館（新潟県佐渡市） | ナノダイヤモンド吸着膜の形成と電子注入特性 ○杉本有莉子（東京農工大）・大石不二夫（神奈川大）・田中邦明・臼井博明（東京農工大） OME2019-12 |
電気泳動法(EPD)及び自己組織化膜(SAM)への吸着の2つの手法を用い，Al電極表面にダイヤモンドナノ粒子(DNP)薄... [more] | OME2019-12 pp.17-20 |
| CPM, IEE-MAG (連催) |
2018-11-02 14:25 |
新潟 | まちなかキャンパス長岡 | ケイ素及び窒素を添加したDLC薄膜の熱的安定性 ○中澤日出樹・中村和樹・長内公哉・郡山春人・小林康之・遠田義晴・鈴木裕史（弘前大）・末光眞希（東北大） CPM2018-52 |
希釈ガスにH_(2)を用いたプラズマ化学気相成長法により作製したケイ素及び窒素を添加したダイヤモンドライクカーボン(Si... [more] | CPM2018-52 pp.99-104 |
| OFT | 2018-10-11 14:00 |
宮城 | 東北大学（電気通信研究所 本館1階(10/11)、３階 Ｍ３３１(10/12)） | ［ポスター講演］熱可塑性樹脂砥石による光コネクタの端面研磨加工装置の開発 ○津田雄一郎・鹿野祐樹・奈良健太・松浦 寛（東北学院大） OFT2018-17 |
近年，光通信システムには大量のファイバが用いられ，その接続には光コネクタ端面の精密研磨加工が必須である．本研究では加工方... [more] | OFT2018-17 pp.19-22 |
| CPM | 2018-08-09 14:30 |
青森 | 弘前大学文京町地区キャンパス | Si添加DLC薄膜への窒素添加の効果 中村和樹・大橋 遼（弘前大）・横山 大・田島圭一郎・遠藤則史・末光眞希（東北大）・遠田義晴・小林康之・鈴木裕史・○中澤日出樹（弘前大） CPM2018-8 |
希釈ガスにH_2を用いたプラズマ化学気相成長法により作製したSi添加DLC(Si-DLC)薄膜の化学結合状態、電気的・光... [more] | CPM2018-8 pp.1-6 |
| OME, IEE-DEI (連催) |
2018-07-20 11:15 |
新潟 | [19日］(株)コロナ 本社 会議室， ［20日］まちなかキャンパス長岡301会議室 | ダイヤモンドナノ粒子の薄膜形成と電子応用 杉本有莉子（東京農工大）・大石不二夫（神奈川大）・田中邦明・○臼井博明（東京農工大） OME2018-10 |
電気泳動法及によりダイヤモンドナノ粒子（DNP）の薄膜を基板表面に堆積した．DNP分散液の濃度及び堆積条件の制御により，... [more] | OME2018-10 pp.27-31 |
| SDM | 2018-06-25 13:30 |
愛知 | 名古屋大学 VBL３F | ［依頼講演］反転層チャネルダイヤモンドMOSFET ～ ウェットアニール処理による高品質ダイヤモンドMOS界面の形成 ～ ○松本 翼（金沢大）・加藤宙光・牧野俊晴・小倉政彦・竹内大輔（産総研）・猪熊孝夫（金沢大）・山崎 聡（産総研）・徳田規夫（金沢大） SDM2018-20 |
ダイヤモンド半導体においても、ノーマリーオフ動作可能な反転層チャネルMOSFETが実現した。ダイヤモンド半導体では、Si... [more] | SDM2018-20 pp.19-22 |
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