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| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| CPM | 2021-03-03 14:00 |
ONLINE | オンライン開催 | オンチップ電磁石を利用して作製したCoナノ粒子配列からなる強磁性単一電子素子 ○藤倉健太・浦江哲也・関根一真・守屋雅隆・島田 宏（電通大）・平野愛弓（東北大）・廣瀬文彦（山形大）・水柿義直（電通大）  CPM2020-70 |
本研究では，Coナノ粒子を島電極とする強磁性単一電子素子の作製を目指し，基板上に配置した電磁石(オンチップ電磁石)を用い... [more] | CPM2020-70 pp.55-58 |
| SDM | 2019-10-24 14:20 |
宮城 | 東北大学未来情報産業研究館５Ｆ | 超高感度トンネル磁気抵抗センサの開発 ○大兼幹彦（東北大） SDM2019-64 |
トンネル磁気抵抗素子を用いた高感度磁気センサ素子の実現に期待が高まっている。最近、センサ素子の高出力化と低ノイズ化により... [more] | SDM2019-64 pp.55-58 |
| MRIS, ITE-MMS (連催) |
2013-10-25 10:50 |
福岡 | 福岡交通センタービル 博多バスターミナル | ［招待講演］完全格子整合した磁気トンネル接合の巨大トンネル磁気抵抗効果 ～ スピネルMgAl2O4系トンネルバリアの現状 ～ ○介川裕章・猪俣浩一郎・三谷誠司（物質・材料研究機構） MR2013-18 |
強磁性層/トンネルバリア/強磁性層構造を有する強磁性トンネル接合（MTJ）は、不揮発性磁気メモリ素子やハードディスクドラ... [more] | MR2013-18 pp.35-40 |
| SDM, ED (共催) |
2013-02-28 10:15 |
北海道 | 北海道大学（百年記念会館） | 超伝導島電極を有する強磁性SETにおける磁気抵抗比の極性とトンネル抵抗値の相関 ○滝口将志・守屋雅隆・島田 宏・水柿義直（電通大） ED2012-140 SDM2012-169 |
強磁性体-超伝導体-強磁性体からなる二重トンネル接合デバイスでは，バイアス電圧が超伝導ギャップ近傍にて負の磁気抵抗比が現... [more] | ED2012-140 SDM2012-169 pp.65-70 |
| ED, SDM (共催) |
2012-02-08 10:20 |
北海道 | 北海道大学 百年記念会館 | MgF_(2)/Feナノドット/MgF_(2)薄膜における電気伝導特性 ○石川琢磨・佐藤栄太・浜田弘一・有田正志・高橋庸夫（北大） ED2011-152 SDM2011-169 |
表面清浄化に注意して準備したSiO2/Si基板上に，室温の交互蒸着法によりMgF2/Feナノドット/MgF2グラニュラー... [more] | ED2011-152 SDM2011-169 pp.59-64 |
| ITE-MMS, MRIS (共催) |
2010-03-12 16:20 |
愛知 | 名古屋大学 | 強磁性La2NiMnO6トンネルバリアを用いたスピンフィルター効果の評価 ○桂木敏文・宮崎悠也・志治佑一・田中雅章・壬生 攻（名工大）・近藤浩太（京大）・葛西伸哉（物質・材料研究機構）・小野輝男（京大） MR2009-65 |
強磁性絶縁体La2NiMnO6のスピンフィルター効果を検証するために，SrTiO3基板上にLa0.7Sr0.3MnO3(... [more] | MR2009-65 pp.39-43 |
| SDM, ED (共催) |
2009-06-24 15:00 |
海外 | 海雲台グランドホテル（釜山、韓国） | Transient characteristic of fabricated Magnetic Tunnel Junction (MTJ) programmed with CMOS circuit ○Masashi Kamiyanagi・Fumitaka Iga・Shoji Ikeda（Tohoku Univ.）・Katsuya Miura（Tohoku Univ./Hitachi）・Jun Hayakawa（Hitachi）・Haruhiro Hasegawa・Takahiro Hanyu・Hideo Ohno・Tetsuo Endoh（Tohoku Univ.） ED2009-52 SDM2009-47 |
In this paper, it is shown that our fabricated MTJ of 60x180... [more] | ED2009-52 SDM2009-47 pp.9-12 |
| SDM, ED (共催) |
2009-06-24 15:15 |
海外 | 海雲台グランドホテル（釜山、韓国） | Study of the DC Performance of Fabricated Magnetic Tunnel Junction Integrated on Back-end Metal Line of CMOS Circuits ○Fumitaka Iga・Masashi Kamiyanagi・Shoji Ikeda（Tohoku Univ.）・Katsuya Miura（Tohoku Univ./Hitachi）・Jun Hayakawa（Hitachi）・Haruhiro Hasegawa・Takahiro Hanyu・Hideo Ohno・Tetsuo Endoh（Tohoku Univ.） ED2009-53 SDM2009-48 |
In this paper, we have succeeded in the fabrication of high ... [more] | ED2009-53 SDM2009-48 pp.13-16 |
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