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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
HWS, VLD
(共催) [詳細]
2020-03-04
16:00
沖縄 沖縄県青年会館
(開催中止,技報発行あり)
ラグランジュ緩和法と境界Flippingによるプロセスばらつきを考慮したピクセルベースマスク最適化手法
東 梨奈小平行秀会津大)・松井知己高橋篤司東工大)・児玉親亮キオクシアVLD2019-105 HWS2019-78
製造プロセスの微細化のために,光リソグラフィによる半導体加工技術の進展が求められている.光リソグラフィの解像度を改善する... [more] VLD2019-105 HWS2019-78
pp.65-70
VLD, DC, IPSJ-SLDM, IPSJ-EMB
(連催)
CPSY, IPSJ-ARC
(連催)
CPM, ICD, IE
(共催)
RECONF
(併催) [詳細]
2018-12-07
14:10
広島 サテライトキャンパスひろしま 0-1二次計画法によるプロセスばらつきを考慮したモデルベースマスク補正手法
東 梨奈小平行秀会津大)・松井知己高橋篤司東工大)・児玉親亮野嶋茂樹東芝メモリVLD2018-70 DC2018-56
半導体製造における回路パターンの限界寸法の縮小のため,光リソグラフィによる半導体加工技術の進歩が求められている.光リソグ... [more] VLD2018-70 DC2018-56
pp.209-214
VLD, IPSJ-SLDM
(連催)
2018-05-16
15:50
福岡 北九州国際会議場 マスク最適化のための2次計画法を用いたピクセルベースOPC手法
東 梨奈小平行秀会津大VLD2018-3
半導体製造における回路パターンの限界寸法の縮小のために,光リソグラフィによる半導体加工技術の進歩が求められている.光リソ... [more] VLD2018-3
pp.31-36
VLD, DC
(共催)
CPM, ICD, IE
(共催)
CPSY, RECONF
(併催) [詳細]
2016-11-29
10:30
大阪 立命館大学大阪いばらきキャンパス ディープラーニングを用いたリソグラフィシミュレーションモデルの高精度化
渡辺友希松縄哲明木村泰己野嶋茂樹東芝VLD2016-56 DC2016-50
微細な半導体パターンを製造するにあたり,リソグラフィシミュレーションは必要不可欠な技術となっている.高精度なシミュレーシ... [more] VLD2016-56 DC2016-50
pp.73-78
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