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| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| EST, MW, EMT, OPE, MWPTHz (共催) IEE-EMT (連催) [詳細] |
2023-07-21 13:25 |
北海道 | 室蘭工業大学 （ハイブリッド開催，主：現地開催，副：オンライン開催） |
Mason等価回路シミュレーションを用いた圧電薄膜の電気機械結合係数の新規評価法の開発 ○島野耀康（早大）・矢田部浩平（東京農工大）・柳谷隆彦（早大）  EMT2023-56 MW2023-74 OPE2023-56 EST2023-56 MWPTHz2023-52 |
電気機械結合係数はRFフィルタの帯域や挿入損失を決定づける重要な評価指標である。実際のBAWデバイスではMoやRuなどの... [more] | EMT2023-56 MW2023-74 OPE2023-56 EST2023-56 MWPTHz2023-52 pp.241-242 |
| EA, US (併催) |
2022-12-22 16:50 |
広島 | サテライトキャンパスひろしま | ［ポスター講演］基板付き圧電薄膜のkt2評価における電極面積の影響 ○関 崚・清水祐樹・近藤圭太・柳谷隆彦（早大） US2022-63 |
電気機械結合係数kt2はBAWデバイスの性能を評価する重要なパラメータの一つである。kt2評価にはIEEE standa... [more] | US2022-63 pp.68-73 |
| US | 2018-10-04 11:15 |
宮城 | 東北大学 | 基板付き薄膜共振子からの新規kt2評価法と従来法の比較 ～ 共振周波数比法、変換損失法、共振スペクトル法、共振反共振法 ～ ○戸塚 誠・柳谷隆彦（早大） US2018-52 |
圧電薄膜を用いたBAW共振子の最終的な性能を決定付けるパラメータとして電気機械結合係数がある．電気機械結合係数(kt2)... [more] | US2018-52 pp.19-24 |
| EMD, R (共催) |
2017-02-17 16:00 |
滋賀 | オムロン草津事業所 | 機構デバイスの要求特性と接着剤に含まれるフィラーとの関係の研究 ○大谷 修・福原智博（オムロン） R2016-68 EMD2016-95 |
リレーやスイッチなどの機構デバイスに使用される接着剤では、本来の機能である接着性に加えて、機構デバイスに必要な機能である... [more] | R2016-68 EMD2016-95 pp.49-52 |
| US | 2011-09-26 15:50 |
宮城 | 東北大学 工学部 電子情報システム・応物系 南講義棟103会議室 | c軸平行配向ZnO膜/非晶質基板上を伝搬するSH-SAWの電気機械結合係数 ○中東佑太（同志社大）・柳谷隆彦（名工大）・松川真美・渡辺好章（同志社大） US2011-50 |
横波型弾性表面波（SH型SAW）は液体中に音波を漏洩せずに伝搬するため，液体の導電率や粘性を測定できる．c軸が基板面に対... [more] | US2011-50 pp.23-26 |
| EMD, R (共催) |
2010-02-19 13:00 |
大阪 | パナソニック「松心会館」 | 機構デバイスにおける気密性の向上の検討 ～ 狭ギャップにおける液状エポキシ樹脂の挙動 ～ ○大谷 修・中島誠二・福原智博（オムロン） R2009-51 EMD2009-118 |
一般的に、一液性エポキシ樹脂はエポキシモノマー、固形硬化剤と充填材としてのフィラーなどから構成される。加熱を行なうだけで... [more] | R2009-51 EMD2009-118 pp.7-11 |
| EMD, R (共催) |
2010-02-19 15:45 |
大阪 | パナソニック「松心会館」 | 錫(Sn)めっきコネクタの接触面に大気中高温下で成長する酸化皮膜の物理的特徴とその接触抵抗への影響 ○鍋田佑也・澤田 滋・齋藤 寧（三重大）・清水 敦・服部康弘（オートネットワーク技研）・玉井輝雄（三重大） R2009-57 EMD2009-124 |
コネクタ等の接触部に用いられる錫めっき表面は錫の酸化皮膜で常に覆われ、大気中の気体を遮断し、耐食性を持たせる特徴がある。... [more] | R2009-57 EMD2009-124 pp.43-48 |
| EMD | 2009-11-20 14:50 |
東京 | 日本工業大学 神田キャンパス | Growth of oxide film on tin plated surface of connector contacts and it effect on contact resistance ○Yuya Nabeta・Yasushi Saitoh・Shigeru Sawada（Mie Univ.）・Yasuhiro Hattori（ANTech）・Terutaka Tamai（Mie Univ.） EMD2009-100 |
[more] | EMD2009-100 pp.133-136 |
| EMD | 2009-03-06 16:35 |
東京 | 工学院大学 | 錫(Sn)めっき接触面での酸化皮膜の成長と接触抵抗特性 ～ エリプソメトリによる研究 ～ ○鍋田佑也・玉井輝雄・斉藤 寧・澤田 滋・飯田和生（三重大）・服部康博（オートネットワーク技研） EMD2008-146 |
錫（Sn)めっきはコネクタ等の接触部に広く用いられ、金（Au)めっきと共に有効利用されている。しかし、Auめっきとは本質... [more] | EMD2008-146 pp.49-52 |
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