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| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| CPM | 2023-07-31 16:10 |
北海道 | 北見工業大学 （ハイブリッド開催，主：現地開催，副：オンライン開催） |
［招待講演］プラズマ表面改質によるフッ素樹脂の直接接着・めっき技術 ○小林靖之・池田慎吾（阪産技研）  CPM2023-16 |
フッ素樹脂は，耐薬品性，耐熱性に優れることから，自動車，半導体，医薬品，食品，建材など多くの産業分野で利用が拡大している... [more] | CPM2023-16 pp.17-20 |
| OME | 2021-12-24 16:25 |
ONLINE | オンライン開催 | ［招待講演］物理蒸着によるフッ素系高分子薄膜形成と光学応用 ○臼井博明（東京農工大） OME2021-34 |
フッ素系高分子薄膜は低屈折率，低誘電率，低損失，低表面エネルギーなど特徴的な物性を持つが，難溶性であることや環境負荷が大... [more] | OME2021-34 pp.32-37 |
| OME, OPE (共催) |
2012-11-16 13:05 |
東京 | 機械振興会館 | 傾斜機能を持つフッ素系蒸着重合膜による反射防止効果 ○泉田和夫（ミクロ技研）・松田 剛・河西 匠・田中邦明・臼井博明（東京農工大） OME2012-55 OPE2012-127 |
2-（パーフルオロヘキシル）エチルアクリレート（Rf-6）モノマーを，Arイオンアシストによる蒸着重合（IAD）法により... [more] | OME2012-55 OPE2012-127 pp.1-5 |
| EMD, CPM, OME (共催) |
2011-06-30 15:30 |
東京 | 機械振興会館 | イオンアシスト蒸着によるフッ素薄膜の密着性改善 ○泉田和夫・松田 剛・田中邦明・臼井博明（東京農工大） EMD2011-15 CPM2011-51 OME2011-29 |
ドライプロセスによる新たなフッ素系高分子膜形成技術として，イオンアシスト蒸着重合法を開発した．イオン照射によって基材表面... [more] | EMD2011-15 CPM2011-51 OME2011-29 pp.41-46 |
| OME | 2010-10-22 13:25 |
東京 | NTT武蔵野研究開発センター | イオンアシスト蒸着によるフッ素系高分子薄膜の作製 ○松田 剛（東京農工大）・泉田和夫（住友精密工業）・田中邦明・臼井博明（東京農工大） OME2010-47 |
フッ素系高分子薄膜の新規な形成技術としてイオンアシスト蒸着法を試みた．基板表面に低エネルギーArイオンを照射しつつフッ化... [more] | OME2010-47 pp.5-10 |
| OME | 2009-05-22 09:55 |
東京 | 機械振興会館 | 蒸着重合法によるフッ素系高分子薄膜の形成と反射防止膜への応用 細田泰弘（東京農工大）・村岡祐司・藤田隆志・森井辰輔（小松ライト製作所）・田中邦明・○臼井博明（東京農工大） OME2009-9 |
光学素子の反射防止コーティングへの応用を目的として、電子アシスト蒸着重合法を用いてフッ素系高分子薄膜を形成した。2-(P... [more] | OME2009-9 pp.3-7 |
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