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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
EMD 2023-12-22
13:00
栃木 帝京大学(宇都宮) 平板状多数ターンコイルによる金属薄板の無衝突電磁圧接実験
相沢友勝都立工業高専EMD2023-32
Al/CuまたはAl/Al薄板を無衝突で電磁圧接した実験結果は,H字形の平板状 1 ターンコイルを用いてすでに報告されて... [more] EMD2023-32
pp.1-6
WPT, EMCJ, EMD
(併催)
2023-07-21
14:10
東京 機械振興会館
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
密着したAl/Cu薄板の電磁圧接が無衝突でできる理由
相沢友勝都立工業高専EMD2023-10
密着したAl/Cu薄板を無衝突で電磁圧接した実験結果はすでに報告されている.ここでは,無衝突で圧接できる理由を詳しく説明... [more] EMD2023-10
pp.1-6
SDM 2022-06-21
17:20
愛知 名古屋大学 VBL3F SiO2上へのニッケルシリサイド薄膜形成とその表面形態・結晶相制御
木村圭佑田岡紀之西村駿介大田晃生牧原克典宮﨑誠一名大SDM2022-31
金属ナノシート(MNS)を用いたデバイスが検討されているが、SiO2上のMNSの表面形態や結晶相制御についての理解は十分... [more] SDM2022-31
pp.27-30
SIP, BioX, IE, MI
(共催)
ITE-IST, ITE-ME
(共催)
(連催) [詳細]
2022-05-20
13:40
熊本 熊本大学工学部黒髪キャンパス南地区
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
モルフォロジを用いたコンクリート壁面の亀裂抽出法
大森悠貴東京理科大)・名取隆廣東海大)・相川直幸東京理科大SIP2022-22 BioX2022-22 IE2022-22 MI2022-22
近年コンクリート壁面の亀裂は,カメラやコンピュータの性能向上により画像処理を用いて検査可能となってきた.本稿では,コンク... [more] SIP2022-22 BioX2022-22 IE2022-22 MI2022-22
pp.113-116
SIS 2021-03-04
11:50
ONLINE オンライン開催 書籍撮影時における湾曲文字列画像補正手法
土井 猛辻 裕之木村誠聡神奈川工科大SIS2020-43
書籍をデータ化する際に様々なスキャナやカメラが用いられているが, 最も簡便な手法としてはスマホカメラを用いることが行われ... [more] SIS2020-43
pp.45-48
SIS, ITE-BCT
(連催)
2020-10-01
13:40
ONLINE オンライン開催 画素ごとに最適化した複数構造要素を用いたモルフォロジカル勾配に基づく画像の正則化
岡 広高・○棟安実治吉田 壮関西大)・中静 真千葉工大SIS2020-15
画像の正則化においてモルフォロジカル勾配を正則化項とし,さらにこれに用いられる構造要素を最適化し,画像復元する手法が提案... [more] SIS2020-15
pp.29-34
EMM 2020-03-06
09:40
沖縄 大濱信泉記念館(石垣島)
(開催中止,技報発行あり)
マックスプラス代数系に基づくモルフォロジカル・ウェーブレット変換を用いた電子透かしにおける中間周波数の利用とその応用について
前山勝也藤田智弘小倉 武立命館大)・Venugopala P.SNMAMIT)・熊木武志立命館大EMM2019-125
近年,SNS (Social Network Service) の急速な普及と画像処理技術の発展により, 画像コンテンツ... [more] EMM2019-125
pp.123-128
ITE-BCT, SIS
(連催)
2019-10-24
15:30
福井 福井県国際交流会館 画素ごとの構造要素最適化を用いたモルフォロジカル勾配とTotal Variationに基づく画像の正則化
大原翔矢・○岡 広高棟安実治吉田 壮関西大)・中静 真千葉工大SIS2019-17
モルフォロジカル勾配を正則化項とし,これに用いられる構造要素を遺伝的アルゴリズム(GA)によって最適化し,画像復元する手... [more] SIS2019-17
pp.47-52
TL 2019-07-27
16:10
兵庫 甲南大学 平生セミナーハウス [ポスター講演]The Learning of Verbal Inflection with Different Verb Types and the Amount of Input
Anna KatoHajime OnoTakuya GoroTsuda Univ.TL2019-18
 [more] TL2019-18
pp.31-36
SIS, ITE-BCT
(連催)
2018-10-26
10:30
京都 京都大学 百周年時計台記念館 GAによる構造要素最適化を用いたモルフォロジカル勾配とTotal Variationに基づく画像の正則化
大原翔矢棟安実治吉田 壮関西大)・中静 真千葉工大SIS2018-17
画像復元のための正則化項として,画像全体のモルフォロジカル勾配の総和を用いる手法が提案されている.さらに,このモルフォロ... [more] SIS2018-17
pp.77-82
IPSJ-AVM, ITE-3DMT
(共催)
SIS
(連催) [詳細]
2018-06-08
11:10
北海道 定山渓ビューホテル 複数構造要素とその最適化を用いたモルフォロジカル勾配に基づく画像の正則化
岡 広高大原翔矢棟安実治吉田 壮関西大)・中静 真千葉工大SIS2018-7
画像復元のための先見情報としてモルフォロジカル勾配を用い,さらにその構造要素を遺伝的アルゴリズム(GA)によって最適化す... [more] SIS2018-7
pp.63-68
SIS 2017-12-14
14:30
鳥取 鳥取県立生涯学習センター(県民ふれあい会館) 構造要素の最適化を考慮したモルフォロジカル勾配に基づく画像の正則化の一手法
池下雄大棟安実治関西大)・中静 真千葉工大)・吉田 壮関西大SIS2017-40
画像復元のための正則化項としてTotal variation(TV)ノルムが広く用いられている.これは,画像の各座標にお... [more] SIS2017-40
pp.39-44
LQE, CPM, ED
(共催)
2017-11-30
16:15
愛知 名古屋工業大学 界面顕微光応答法によるn-GaN自立基板表面の波形モフォロジーの2次元評価
塩島謙次橋爪孝典福井大)・堀切文正田中丈士サイオクス)・三島友義法政大ED2017-55 CPM2017-98 LQE2017-68
GaN表面のモフォロジーがドリフト層の電気的特性に与える影響を界面顕微光応答法により評価した。MOCVD法により厚さ12... [more] ED2017-55 CPM2017-98 LQE2017-68
pp.27-32
SDM 2017-10-25
16:30
宮城 東北大学未来研 [招待講演]HfO2をゲート絶縁膜に用いたペンタセンOFETのデバイス特性に関する検討
前田康貴劉 野原廣木瑞葉大見俊一郎東工大SDM2017-54
p型有機半導体として広く知られているペンタセンは、下層材料や堆積温度によりグレインの形状が大きく変化することが報告されて... [more] SDM2017-54
pp.25-30
ITE-ME, ITE-AIT
(共催)
IE
(連催) [詳細]
2017-10-05
15:15
長崎 長崎総合科学大学 ICAを用いた自然画像中の人工物と自然物の識別
本間達也鈴木幸司室蘭工大IE2017-52
自然画像中の人工物と自然物の識別は画像認識において基本的な課題である.そこで,自然画像中の特徴を捉える独立成分分析(IC... [more] IE2017-52
pp.31-36
TL 2017-07-23
10:00
東京 国立国語研究所 Inflectional Directionality in Morphological Productivity
Yohei OsekiNYU)・Yasutada SudoUCL)・Hiromu SakaiWaseda)・Alec MarantzNYUTL2017-27
In this paper, we investigate a hitherto unexplored possibil... [more] TL2017-27
pp.73-78
SIS 2017-06-01
10:30
大分 別府豊泉荘 GAによる構造要素の最適化を用いたモルフォロジカル勾配に基づく画像の正則化
大原翔矢池下雄大棟安実治吉田 壮関西大)・中静 真千葉工大SIS2017-3
画像復元のための先見情報として,モルフォロジカル勾配の画像全体の総和を用いる手法が提案されている.その中で,画像の構造に... [more] SIS2017-3
pp.13-18
MBE, NC
(併催)
2017-03-14
13:10
東京 機械振興会館 高次画像特徴量を用いた低酸素順応下におけるアストロサイト形態の経時変化の解析
西野智博田中草介新タ雅啓須貸拓馬正本和人宮脇陽一電通大NC2016-91
アストロサイトは脳血管から神経細胞への酸素供給や栄養補給を制御する重要な役割を担う細胞である.その細胞形態は,低酸素症な... [more] NC2016-91
pp.159-164
SS 2017-03-10
13:30
沖縄 てんぶす那覇 ソフトウェア仕様記述法の適用による物語学の精密化
大木美奈子鯵坂恒夫福安直樹満田成紀松延拓生和歌山大SS2016-80
業務プロセス・ソフトウェア要求仕様のパターン形成とバリエーション発生の仕組み解明を最終目的として,物語学的アプローチをU... [more] SS2016-80
pp.121-126
SDM 2016-10-27
10:25
宮城 東北大学未来研 SiO2上におけるウェットプロセスがペンタセン薄膜形成に与える影響
前田康貴廣木瑞葉大見俊一郎東工大SDM2016-74
フレキシブルデバイスやTFTなどへの応用が期待されている代表的なp型有機半導体のペンタセンは、薄膜の結晶性が下層材料の表... [more] SDM2016-74
pp.31-34
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