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すべての研究会開催スケジュール (検索条件: すべての年度)
| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| VLD, HWS, ICD (共催) |
2024-02-28 16:45 |
沖縄 | 沖縄県男女共同参画センター【てぃるる】会議室１・２・３ （ハイブリッド開催，主：現地開催，副：オンライン開催） |
Spacer-Is-Metal型側壁ダブルパターニングの配線手法の研究 ○田中洸樹・甘利拓斗・藤吉邦洋（東京農工大）  VLD2023-105 HWS2023-65 ICD2023-94 |
露光可能なピッチ幅の半分のピッチ幅の配線を製造する技術の1つであるSIM型側壁ダブルパターニングは，幅一定の環状の領域か... [more] | VLD2023-105 HWS2023-65 ICD2023-94 pp.36-41 |
| NC, MBE (併催) |
2022-09-29 10:00 |
宮城 | 東北大学 （ハイブリッド開催，主：現地開催，副：オンライン開催） |
神経アンサンブルの機能特性解析のための人工神経細胞回路の構築 ○室田白馬・山本英明・住 拓磨・佐藤茂雄・平野愛弓（東北大） NC2022-32 |
本研究では，ポリジメチルシロキサン製のマイクロ流路を用いた細胞パターニング技術を応用し，哺乳類大脳皮質で見られるようなモ... [more] | NC2022-32 pp.1-4 |
| OME, IEE-DEI (連催) |
2022-07-19 09:45 |
長野 | 軽井沢観光振興センター会議室 （ハイブリッド開催，主：現地開催，副：オンライン開催） |
CO2レーザーによるITO電極パターニングと有機ELデバイス作製 ○畑佐達也・森本勝大・中 茂樹（富山大） OME2022-19 |
ITO電極のパターニングには、一般的にフォトリソグラフィが採用されているが、作製プロセスが複雑であり時間を要する。本研究... [more] | OME2022-19 pp.26-30 |
| EID, ITE-IDY, IEE-EDD (連催) IEIJ-SSL, SID-JC (共催) (連催) [詳細] |
2020-01-23 13:55 |
鳥取 | 鳥取大鳥取キャンパス | ［ポスター講演］pnヘテロ界面構造制御による有機薄膜太陽電池の発電効率改善に関する研究 ○小木曽恭平・飯村靖文（東京農工大） EID2019-8 |
有機薄膜太陽電池(OPV)は、pnヘテロ界面面積が増えるほど発電効率が向上することが分かっている。本研究では、pnヘテロ... [more] | EID2019-8 pp.41-44 |
| HWS, VLD (共催) |
2019-02-27 13:30 |
沖縄 | 沖縄県青年会館 | SIM型SADPのための環状の配線経路を求める拡大手法 ○赤塚 駿・藤吉邦洋（東京農工大） VLD2018-98 HWS2018-61 |
高密度なLSI製造のために、光リソグラフィの露光限界を超えて微細な加工を行う技術として用いられるダブルパターニングの種類... [more] | VLD2018-98 HWS2018-61 pp.31-36 |
| VLD, DC, IPSJ-SLDM, IPSJ-EMB (連催) CPSY, IPSJ-ARC (連催) CPM, ICD, IE (共催) RECONF (併催) [詳細] |
2018-12-05 14:40 |
広島 | サテライトキャンパスひろしま | 側壁ダブルパターニングを前提とした2層配線のための改良手法 ○田村昇也・藤吉邦洋（東京農工大） VLD2018-45 DC2018-31 |
半導体の微細加工は、側壁ダブルパターニング（SADP）を用いることにより光リソグラフィの露光限界を超えて微細な配線を製造... [more] | VLD2018-45 DC2018-31 pp.37-42 |
| CAS, SIP, MSS, VLD (共催) |
2018-06-15 15:25 |
北海道 | 北海道大学フロンティア応用科学研究棟 | SIM型SADPのための環状の配線経路を求める手法 ○赤塚 駿・藤吉邦洋（東京農工大） CAS2018-30 VLD2018-33 SIP2018-50 MSS2018-30 |
高密度なLSI製造のために、光リソグラフィの露光限界を超えて微細な加工を行う技術として用いられるダブルパターニングの種類... [more] | CAS2018-30 VLD2018-33 SIP2018-50 MSS2018-30 pp.155-160 |
| SDM, EID (共催) |
2017-12-22 13:45 |
京都 | 京都大学 | Three-dimension periodic nano-structure fabricated by proximity nano-patterning process (PnP) ○Xudongfang Wang・Yasuaki Ishikawa・Shinji Araki・Yukiharu Uraoka（NAIST）・Seokwoo Jeon（KAIST） EID2017-18 SDM2017-79 |
In recent years, 3D periodic nanostructure have attracted co... [more] | EID2017-18 SDM2017-79 pp.35-38 |
| VLD | 2017-03-02 11:20 |
沖縄 | 沖縄県青年会館 | LELEダブルパターニングにおけるFMアルゴリズムを用いた効率的なパターン局所修正手法 ○尾頭 篤・佐藤真平・高橋篤司（東工大） VLD2016-113 |
現在の半導体設計では，高品質で短時間の設計が求められている． 近年の最先端のリソグラフィ技術では，デザインルールに従う... [more] |
VLD2016-113 pp.67-72 |
| VLD, DC (共催) CPM, ICD, IE (共催) CPSY, RECONF (併催) [詳細] |
2016-11-29 11:20 |
大阪 | 立命館大学大阪いばらきキャンパス | カットプロセスを前提としたSelf-Aligned Double Patterningのための2色グリッドに準じた配線手法 ○三浦発彦・長谷川 充・藤吉邦洋（東京農工大） VLD2016-58 DC2016-52 |
高密度なLSI製造のため、光リソグラフィの露光限界を超えて微細な加工を行なう技術の1つにSelf-Aligned Dou... [more] | VLD2016-58 DC2016-52 pp.85-90 |
| VLD, IPSJ-SLDM (連催) |
2016-05-11 10:25 |
福岡 | 北九州国際会議場 | 側壁ダブルパターニングのための2色グリッドに準じた配線手法 ○三浦発彦・長谷川 充・比留川 拓・藤吉邦洋（東京農工大） VLD2016-2 |
高密度な LSI 製造のため、光リソグラフィの露光限界を超えて微細な加工を行なう技術の 1 つに側壁ダブルパターニング ... [more] | VLD2016-2 pp.5-10 |
| OME | 2016-03-03 13:30 |
東京 | 東工大南3号館S322講義室 | マスター電極を用いた静電塗布法によるマスクレスパターニング ○田中 光・山内 博・酒井正俊・岡田悠吾・飯塚正明・工藤一浩（千葉大） OME2015-86 |
静電塗布法によるRoll to Rollプロセスの実現を目指して、パターン形成されたマスター電極を用いたフレキシブル基板... [more] | OME2015-86 pp.1-4 |
| VLD, IPSJ-SLDM (連催) |
2015-05-14 10:05 |
福岡 | 北九州国際会議場 | 折れ曲がり制約を含む配線問題のNP完全性 ○本江俊幸・高橋篤司（東工大） VLD2015-3 |
次世代リソグラフィ技術の一つである側壁プロセスを2回用いるSAQP(Self-Aligned Quadruple Pat... [more] | VLD2015-3 pp.13-18 |
| VLD, IPSJ-SLDM (連催) |
2014-05-29 09:55 |
福岡 | 北九州国際会議場 11会議室 | ［招待講演］半正定値緩和を用いたマルチパターニングリソグラフィ ○松井知己（東工大） VLD2014-4 |
リソグラフィ技術の一つであるマルチパターニングリソグラフィにおいて解かれる，レイアウトを2つあるいは3つのマスクに分割す... [more] | VLD2014-4 p.19 |
| VLD, IPSJ-SLDM (連催) |
2014-05-29 11:30 |
福岡 | 北九州国際会議場 11会議室 | 半正定値緩和法を用いたLELECUTトリプルパターニングのためのレイアウト分割手法 ○小平行秀（会津大）・松井知己（東工大）・横山陽子・児玉親亮（東芝）・高橋篤司（東工大）・野嶋茂樹・田中 聡（東芝） VLD2014-6 |
次世代リソグラフィ技術として，2つのマスクをパタン形成のために，3つ目のマスクを形成したパタンを削除するためのカットとし... [more] | VLD2014-6 pp.27-32 |
| VLD | 2014-03-04 13:50 |
沖縄 | 沖縄県青年会館 | ダブルパターニングにおけるリソグラフィECOのためのパターン局所修正法 ○宮辺祐太郎・高橋篤司・松井知己（東工大）・小平行秀（会津大）・横山陽子（東芝） VLD2013-149 |
最先端の半導体製造プロセスでは，デザインルールに従いパターンを生成してもリソグラフィーシミュレー ションによってホット... [more] |
VLD2013-149 pp.87-92 |
| VLD | 2014-03-04 14:40 |
沖縄 | 沖縄県青年会館 | 超微細化を実現する側壁ダブル・クアドラプルパターニングのための3色グリッド配線手法 ○児玉親亮（東芝）・市川裕隆（東芝マイクロエレクトロニクス）・中嶌史晴・中山幸一・野嶋茂樹・小谷敏也（東芝） VLD2013-151 |
光リソグラフィの延命技術とよばれ，次世代リソグラフィ技術の実用化までの「つなぎ」のような存在であったダブルパターニング技... [more] | VLD2013-151 pp.99-104 |
| IEIJ-SSL, SID-JC (共催) EID, ITE-IDY, IEE-EDD (連催) [詳細] |
2014-01-25 10:58 |
新潟 | 新潟大学 駅南キャンパス | UVパターニングを用いた有機薄膜太陽電池の高効率化に関する研究 ○諸星圭一・飯村靖文（東京農工大） EID2013-28 |
有機薄膜太陽電池は、従来の太陽電池に比べて発電効率が劣るため、現在実用化には至っていない。そこで本研究では、導電性高分子... [more] | EID2013-28 pp.113-116 |
| EMD, CPM, OME (共催) |
2013-06-21 09:45 |
東京 | 機械振興会館 | 感光性スピンコート膜を用いたパターン形成とデバイス応用 加藤大智・田中邦明・○臼井博明（東京農工大） EMD2013-9 CPM2013-24 OME2013-32 |
正孔輸送性ビニルモノマーと光重合開始剤をスピンコートすることにより，感光性低分子薄膜を形成した．これにマスクを通して紫外... [more] | EMD2013-9 CPM2013-24 OME2013-32 pp.13-17 |
| OME, SDM (共催) |
2013-04-26 11:30 |
鹿児島 | 屋久島環境文化村センター | 誘電泳動による微粒子操作の生体分子計測への応用 ○安川智之・水谷文雄（兵庫県立大） SDM2013-14 OME2013-14 |
誘電泳動を用いると微粒子を数秒で迅速に操作することが可能である．我々は，この技術を迅速な免疫測定法へと応用展開している．... [more] | SDM2013-14 OME2013-14 pp.65-69 |
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