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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
CPM, ED, LQE
(共催)
2022-11-24
13:05
愛知 ウインクあいち(愛知県産業労働センター)(名古屋)
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
ゾル-ゲル法による低抵抗Al添加ZnO透明導電膜の作製
安部功二久保田 佑名工大ED2022-30 CPM2022-55 LQE2022-63
ゾル-ゲル法は,酸化亜鉛(ZnO)をはじめとする酸化物半導体の成膜に利用されている.しかし,ゾル-ゲル法で成膜したZnO... [more] ED2022-30 CPM2022-55 LQE2022-63
pp.33-36
ED, LQE, CPM
(共催)
2018-11-30
11:15
愛知 名古屋工業大学 光化学堆積法によるp型Cu-AlOx薄膜の作製・評価
梅村将成市村正也名工大ED2018-46 CPM2018-80 LQE2018-100
AlOxは広い禁制帯や高い絶縁破壊電界など、電子デバイスに適した物性を多く持ち、その絶縁性の高さから絶縁膜として普及して... [more] ED2018-46 CPM2018-80 LQE2018-100
pp.65-70
AP
(第二種研究会)
2017-01-26
- 2017-01-27
海外 MJIIT MICROSTRIP TRANSPARENT ANTENNA USING AGHT CONDUCTIVE FILM FOR WIRELESS APPLICATION
Mardhiah AwalludinMohd Tarmizi AliMohamad Hafiz MamatNurul huda Abd RahmanNoorhafizah Abdul AzizUiTM
In recent years, transparent conductive oxide (TCO) material... [more]
ED, SDM
(共催)
2016-03-03
15:15
北海道 北海道大学百年記念会館 Formation of fluorine-doped tin oxide nanostructures by using spray pyrolysis deposition technique
Kenji MurakamiAjith BandaraMasayuki OkuyaMasaru ShimomuraShizuoka Univ.)・R.m.g. RajapakseUniv. PeradeniyaED2015-123 SDM2015-130
透明導電膜として利用されているフッ素を添加した酸化スズ(FTO)の一次元ナノ構造化を目指している。FTOナノチューブまた... [more] ED2015-123 SDM2015-130
pp.13-18
CPM 2011-08-11
09:25
青森 弘前大学 文京町キャンパス RFマグネトロンスパッタ法によるAZO透明導電膜の作製
梅原 猛野毛 悟沼津高専CPM2011-67
RFマグネトロンスパッタ法によるAZO薄膜の成膜条件に関する検討結果について報告する.放電ガスAr中に反応性ガス$O_2... [more] CPM2011-67
pp.55-60
CPM 2007-11-16
14:20
新潟 長岡技術科学大学 第三電極を有するRFマグネトロンスパッタ法によるZnO透明導電膜特性の均一性評価
朝野 章長岡技科大)・片桐裕則長岡高専)・黒木雄一郎安井寛治高田雅介赤羽正志長岡技科大CPM2007-108
我々は第三電極を有するrfマグネトロンスパッタ法により作製したAlドープ酸化亜鉛について研究をしてきた。マグネトロンスパ... [more] CPM2007-108
pp.19-22
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