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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
EMD, CPM, OME
(共催)
2011-06-30
15:30
東京 機械振興会館 イオンアシスト蒸着によるフッ素薄膜の密着性改善
泉田和夫松田 剛田中邦明臼井博明東京農工大EMD2011-15 CPM2011-51 OME2011-29
ドライプロセスによる新たなフッ素系高分子膜形成技術として,イオンアシスト蒸着重合法を開発した.イオン照射によって基材表面... [more] EMD2011-15 CPM2011-51 OME2011-29
pp.41-46
OME 2010-10-22
13:25
東京 NTT武蔵野研究開発センター イオンアシスト蒸着によるフッ素系高分子薄膜の作製
松田 剛東京農工大)・泉田和夫住友精密工業)・田中邦明臼井博明東京農工大OME2010-47
フッ素系高分子薄膜の新規な形成技術としてイオンアシスト蒸着法を試みた.基板表面に低エネルギーArイオンを照射しつつフッ化... [more] OME2010-47
pp.5-10
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