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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
OME 2016-03-03
13:55
東京 東工大南3号館S322講義室 イオンアシスト蒸着重合による接着性アクリル高分子薄膜の作製
河村 拓田中邦明臼井博明東京農工大OME2015-87
イオンアシスト蒸着重合により種々の基板上に4-hydroxybutyl acrylate glycidylether (... [more] OME2015-87
pp.5-9
OME, OPE
(共催)
2012-11-16
13:05
東京 機械振興会館 傾斜機能を持つフッ素系蒸着重合膜による反射防止効果
泉田和夫ミクロ技研)・松田 剛河西 匠田中邦明臼井博明東京農工大OME2012-55 OPE2012-127
2-(パーフルオロヘキシル)エチルアクリレート(Rf-6)モノマーを,Arイオンアシストによる蒸着重合(IAD)法により... [more] OME2012-55 OPE2012-127
pp.1-5
ED 2012-07-27
11:50
福井 福井大学 文京キャンパス産学官連携本部3F研修室 ダイヤモンドライクカーボン絶縁膜を用いたグラフェンFET
鷹林 将楊 猛小川修一林 広幸栗田裕記高桑雄二末光哲也尾辻泰一東北大ED2012-53
ダイヤモンドライクカーボン(DLC)トップゲート絶縁膜を有するグラフェンチャネル電界効果トランジスタ(DLC-GFET)... [more] ED2012-53
pp.67-72
SDM 2012-03-05
13:00
東京 機械振興会館 ラマン分光法およびXPSによるSiO2/Si基板上での多層グラフェン成長初期の研究
尾白佳大小川修一東北大)・犬飼 学高輝度光科学研究センター)・佐藤元伸産総研)・池永英司室 隆桂之高輝度光科学研究センター)・二瓶瑞久産総研)・高桑雄二東北大)・横山直樹産総研SDM2011-179
光電子制御プラズマCVDはグラファイト材料を低温成長 (~400 ℃) 、触媒無し、大面積で成長できる有力な手法である。... [more] SDM2011-179
pp.19-24
EMD, CPM, OME
(共催)
2011-06-30
15:30
東京 機械振興会館 イオンアシスト蒸着によるフッ素薄膜の密着性改善
泉田和夫松田 剛田中邦明臼井博明東京農工大EMD2011-15 CPM2011-51 OME2011-29
ドライプロセスによる新たなフッ素系高分子膜形成技術として,イオンアシスト蒸着重合法を開発した.イオン照射によって基材表面... [more] EMD2011-15 CPM2011-51 OME2011-29
pp.41-46
SDM 2011-02-07
13:10
東京 機械振興会館 光電子制御プラズマCVDによるナノグラファイト成長:結晶性の放電条件依存
小川修一東北大/JST)・佐藤元伸富士通/JST)・角 治樹東北大)・二瓶瑞久富士通/JST)・高桑雄二東北大/JSTSDM2010-220
グラフェンを低温(400℃以下)、触媒無し、大面積成長させるため、我々は光電子制御プラズマを開発した。本研究では光電子制... [more] SDM2010-220
pp.25-30
OME 2010-10-22
13:25
東京 NTT武蔵野研究開発センター イオンアシスト蒸着によるフッ素系高分子薄膜の作製
松田 剛東京農工大)・泉田和夫住友精密工業)・田中邦明臼井博明東京農工大OME2010-47
フッ素系高分子薄膜の新規な形成技術としてイオンアシスト蒸着法を試みた.基板表面に低エネルギーArイオンを照射しつつフッ化... [more] OME2010-47
pp.5-10
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