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講演名
2006-10-06 16:50
ECR-MBE法によるSi基板上InN薄膜成長のN2+イオンダメージ軽減の効果
○
淀 徳男
・
嶋田照也
・
田川澄人
・
西本 亮
・
日高志郎
・
石井圭太
・
瀬川紘史
・
平川順一
・
原田義之
(
阪工大
)
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エレソ技報アーカイブへのリンク:
ED2006-175
CPM2006-112
LQE2006-79
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