研究会情報 |
研究会 |
ICD |
開催期間 |
2006-04-13 - 2006-04-14 |
開催地(和) |
大分大学 |
開催地(英) |
Oita University |
テーマ(和) |
新メモリ技術とシステムLSI <オーガナイザ:山内寛行(福岡工業大学)> |
テーマ(英) |
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講演論文情報の詳細 |
申込み研究会 |
ICD |
会議コード |
2006-04-ICD |
本文の言語 |
日本語 |
タイトル(和) |
DRAMにおけるVRT(Variable Retention Time)の起原 |
サブタイトル(和) |
接合リーク電流の2値変動 |
タイトル(英) |
The Origin of Variable Retention Time in DRAM |
サブタイトル(英) |
Fluctuation of Junction Leakage |
キーワード(1)(和/英) |
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キーワード(2)(和/英) |
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キーワード(3)(和/英) |
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キーワード(4)(和/英) |
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キーワード(6)(和/英) |
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キーワード(7)(和/英) |
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キーワード(8)(和/英) |
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
毛利 友紀 / Yuki Mori / モウリ ユキ |
第1著者 所属(和/英) |
日立製作所中央研究所 (略称: 日立)
Hitachi Ltd., Central Research Laboratory (略称: Hitachi CRL) |
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
大湯 靜憲 / Kiyonori Ohyu / オオユ キヨノリ |
第2著者 所属(和/英) |
エルピーダメモリ株式会社 (略称: エルピーダメモリ)
Elpoida memory, Inc. (略称: Elpida) |
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) |
小此木 堅祐 / Kensuke Okonogi / オコノギ ケンスケ |
第3著者 所属(和/英) |
エルピーダメモリ株式会社 (略称: エルピーダメモリ)
Elpoida memory, Inc. (略称: Elpida) |
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) |
山田 廉一 / Renichi Yamada / ヤマダ レンイチ |
第4著者 所属(和/英) |
日立製作所中央研究所 (略称: 日立)
Hitachi Ltd., Central Research Laboratory (略称: Hitachi CRL) |
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第5著者 所属(和/英) |
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第6著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第7著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第8著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第9著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第10著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第11著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第12著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第13著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第14著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第15著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第16著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第17著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第18著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第19著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第20著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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講演者 |
第4著者 |
発表日時 |
2006-04-13 09:20:00 |
発表時間 |
25分 |
申込先研究会 |
ICD |
資料番号 |
ICD2006-1 |
巻番号(vol) |
vol.106 |
号番号(no) |
no.2 |
ページ範囲 |
pp.1-6 |
ページ数 |
6 |
発行日 |
2006-04-06 (ICD) |