| 研究会情報 |
| 研究会 |
ICD |
| 開催期間 |
2006-04-13 - 2006-04-14 |
| 開催地(和) |
大分大学 |
| 開催地(英) |
Oita University |
| テーマ(和) |
新メモリ技術とシステムLSI <オーガナイザ:山内寛行(福岡工業大学)> |
| テーマ(英) |
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| 講演論文情報の詳細 |
| 申込み研究会 |
ICD |
| 会議コード |
2006-04-ICD |
| 本文の言語 |
日本語 |
| タイトル(和) |
DRAMにおけるVRT(Variable Retention Time)の起原 |
| サブタイトル(和) |
接合リーク電流の2値変動 |
| タイトル(英) |
The Origin of Variable Retention Time in DRAM |
| サブタイトル(英) |
Fluctuation of Junction Leakage |
| キーワード(1)(和/英) |
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| キーワード(2)(和/英) |
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| キーワード(3)(和/英) |
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| キーワード(4)(和/英) |
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| キーワード(5)(和/英) |
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| キーワード(6)(和/英) |
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| キーワード(7)(和/英) |
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| キーワード(8)(和/英) |
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| 第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
毛利 友紀 / Yuki Mori / モウリ ユキ |
| 第1著者 所属(和/英) |
日立製作所中央研究所 (略称: 日立)
Hitachi Ltd., Central Research Laboratory (略称: Hitachi CRL) |
| 第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
大湯 靜憲 / Kiyonori Ohyu / オオユ キヨノリ |
| 第2著者 所属(和/英) |
エルピーダメモリ株式会社 (略称: エルピーダメモリ)
Elpoida memory, Inc. (略称: Elpida) |
| 第3著者 氏名(和/英/ヨミ) |
小此木 堅祐 / Kensuke Okonogi / オコノギ ケンスケ |
| 第3著者 所属(和/英) |
エルピーダメモリ株式会社 (略称: エルピーダメモリ)
Elpoida memory, Inc. (略称: Elpida) |
| 第4著者 氏名(和/英/ヨミ) |
山田 廉一 / Renichi Yamada / ヤマダ レンイチ |
| 第4著者 所属(和/英) |
日立製作所中央研究所 (略称: 日立)
Hitachi Ltd., Central Research Laboratory (略称: Hitachi CRL) |
| 第5著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第6著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第7著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第8著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第9著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第10著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第11著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第12著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第13著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第14著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第15著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第16著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第17著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第18著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第19著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第20著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第23著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第24著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第25著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第26著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第27著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第28著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第29著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第30著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第31著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第32著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第33著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第34著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第35著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第35著者 所属(和/英) |
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| 第36著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 第36著者 所属(和/英) |
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| 講演者 |
第4著者 |
| 発表日時 |
2006-04-13 09:20:00 |
| 発表時間 |
25分 |
| 申込先研究会 |
ICD |
| 資料番号 |
ICD2006-1 |
| 巻番号(vol) |
vol.106 |
| 号番号(no) |
no.2 |
| ページ範囲 |
pp.1-6 |
| ページ数 |
6 |
| 発行日 |
2006-04-06 (ICD) |