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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2006-08-18 10:15 45nm世代のLSTP SRAMへのNi FUIS電極適用によるしきい値ばらつき抑制効果 ○岡山康則・齋藤友博・大石 周・中嶋一明・松尾浩司・谷口修一・小野高稔・中山和宏・渡辺竜太・英保亜弓・菰田泰生・木村泰己・濱口雅史・竹川陽一・青山知憲（東芝） エレソ技報アーカイブへのリンク：  SDM2006-145 ICD2006-99 |
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| 抄録 | （和） | (まだ登録されていません) |
| （英） | (Not available yet) | |
| キーワード | （和） | / / / / / / / |
| （英） | / / / / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 106, no. 206, SDM2006-145, pp. 115-120, 2006年8月. | |
| 資料番号 | SDM2006-145 | |
| 発行日 | 2006-08-10 (SDM, ICD) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | エレソ技報アーカイブへのリンク：SDM2006-145 ICD2006-99 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | ICD SDM |
| 開催期間 | 2006-08-17 - 2006-08-18 |
| 開催地（和） | 北海道大学 |
| 開催地（英） | Hokkaido University |
| テーマ（和） | VLSI回路、デバイス技術（高速、低電圧、低消費電力） <オーガナイザ：平本 俊郎（東京大学）> |
| テーマ（英） | |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | SDM |
| 会議コード | 2006-08-ICD-SDM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 45nm世代のLSTP SRAMへのNi FUIS電極適用によるしきい値ばらつき抑制効果 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Suppression effects of threshold voltage variation with Ni FUSI gate electrode for 45nm node and beyond LSTP and SRAM devices |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | / |
| キーワード(2)（和/英） | / |
| キーワード(3)（和/英） | / |
| キーワード(4)（和/英） | / |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 岡山 康則 / Yasunori Okayama / オカヤマ ヤスノリ |
| 第1著者 所属（和/英） | 株式会社 東芝 (略称： 東芝) TOSHIBA Corporation (略称： TOSHIBA) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 齋藤 友博 / Tomohiro Saito / サイトウ トモヒロ |
| 第2著者 所属（和/英） | 株式会社 東芝 (略称： 東芝) TOSHIBA Corporation (略称： TOSHIBA) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 大石 周 / Aname Oishi / オオイシ アマネ |
| 第3著者 所属（和/英） | 株式会社 東芝 (略称： 東芝) TOSHIBA Corporation (略称： TOSHIBA) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 中嶋 一明 / Kazuaki Nakajima / ナカジマ カズアキ |
| 第4著者 所属（和/英） | 株式会社 東芝 (略称： 東芝) TOSHIBA Corporation (略称： TOSHIBA) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 松尾 浩司 / Kouji Matsuo / マツオ コウジ |
| 第5著者 所属（和/英） | 株式会社 東芝 (略称： 東芝) TOSHIBA Corporation (略称： TOSHIBA) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | 谷口 修一 / Syuichi Taniguchi / タニグチ シュウイチ |
| 第6著者 所属（和/英） | 株式会社 東芝 (略称： 東芝) TOSHIBA Corporation (略称： TOSHIBA) |
| 第7著者 氏名（和/英/ヨミ） | 小野 高稔 / Takatoshi Ono / オノ タカトシ |
| 第7著者 所属（和/英） | 株式会社 東芝 (略称： 東芝) TOSHIBA Corporation (略称： TOSHIBA) |
| 第8著者 氏名（和/英/ヨミ） | 中山 和宏 / Kazuhiro Nakayama / ナカヤマ カズヒロ |
| 第8著者 所属（和/英） | 株式会社 東芝 (略称： 東芝) TOSHIBA Corporation (略称： TOSHIBA) |
| 第9著者 氏名（和/英/ヨミ） | 渡辺 竜太 / Ryota Watanabe / ワタナベ リョウタ |
| 第9著者 所属（和/英） | 株式会社 東芝 (略称： 東芝) TOSHIBA Corporation (略称： TOSHIBA) |
| 第10著者 氏名（和/英/ヨミ） | 英保 亜弓 / Ayumi Eiho / エイホ アユミ |
| 第10著者 所属（和/英） | 株式会社 東芝 (略称： 東芝) TOSHIBA Corporation (略称： TOSHIBA) |
| 第11著者 氏名（和/英/ヨミ） | 菰田 泰生 / Taiki Komoda / コモダ ヤスオ |
| 第11著者 所属（和/英） | 株式会社 東芝 (略称： 東芝) TOSHIBA Corporation (略称： TOSHIBA) |
| 第12著者 氏名（和/英/ヨミ） | 木村 泰己 / Taiki Kimura / キムラ タイキ |
| 第12著者 所属（和/英） | 株式会社 東芝 (略称： 東芝) TOSHIBA Corporation (略称： TOSHIBA) |
| 第13著者 氏名（和/英/ヨミ） | 濱口 雅史 / Mssahumi Hamaguchi / ハマグチ ハマグチ |
| 第13著者 所属（和/英） | 株式会社 東芝 (略称： 東芝) TOSHIBA Corporation (略称： TOSHIBA) |
| 第14著者 氏名（和/英/ヨミ） | 竹川 陽一 / Yoichi Takekawa / タケカワ ヨウイチ |
| 第14著者 所属（和/英） | 株式会社 東芝 (略称： 東芝) TOSHIBA Corporation (略称： TOSHIBA) |
| 第15著者 氏名（和/英/ヨミ） | 青山 知憲 / Tomonori Aoyama / アオヤマ トモノリ |
| 第15著者 所属（和/英） | 株式会社 東芝 (略称： 東芝) TOSHIBA Corporation (略称： TOSHIBA) |
| 第16著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第16著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第17著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第17著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第18著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第18著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2006-08-18 10:15:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | SDM |
| 資料番号 | SDM2006-145, ICD2006-99 |
| 巻番号（vol） | vol.106 |
| 号番号（no） | no.206(SDM), no.207(ICD) |
| ページ範囲 | pp.115-120 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2006-08-10 (SDM, ICD) |
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