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講演抄録/キーワード
講演名 2006-08-24 13:25
SR露光によるブレーズ型回折格子の作製
蟹江智彦片山 誠住友電工)・森田哲平外嶋 昇加藤準一中沼アートスクリーン)・永山富男水谷 泰京都市産技研)・加藤史樹藤縄伸哉杉山 進立命館大OFT2006-17
抄録 (和) SR 露光によるリソグラフィーは、微細な高アスペクト比の3次元構造体を作製する有効な手法であり、
そのレジスト構造体を母型とした電鋳金型を用いて樹脂成型品を作製するLIGA法は、微細成型品の量産技術と
して有効である。一方、光通信分野では3次元微細構造を有する回折格子が合分波器の構成部品の一つであり、メ
トロアクセス系に使用される場合は低コスト化が要求される。そこで、本研究ではLIGA法によるCWDM合分
波器への適用を目指したブレーズ型回折格子の作製を目的とし、母型作製工程であるSR露光プロセスの最適化の
検討結果について報告する。 
(英) We have successively fabricated a blazed nano grating based on the X-ray gray-scale lithography technology.
The structure of PMMA resist were included triangle shapes by exposing a synchrotron radiation to a moving PMMA resist.
But the shape of the oblique side was not linearity and the vertical side had a small slop because of the influence of the Fresnel
diffraction. The modulation depth of blazed grating is enabled to control by the deposited doses of X-ray.
キーワード (和) X線リソグラフィー / ブレーズ型回折格子 / シンクロトロン放射光 / フレネル回折 / / / /  
(英) X-ray lithography / blazed grating / synchrotron radiation / Fresnel diffraction / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 106, no. 211, OFT2006-17, pp. 7-9, 2006年8月.
資料番号 OFT2006-17 
発行日 2006-08-17 (OFT) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード OFT2006-17

研究会情報
研究会 OCS OFT  
開催期間 2006-08-24 - 2006-08-25 
開催地(和) 東北大学 
開催地(英)  
テーマ(和) 次世代伝送用ファイバ、機能性光ファイバ、フォトニック結晶ファイバ、ファイバ非線形現象、一般 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 OFT 
会議コード 2006-08-OCS-OFT 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) SR露光によるブレーズ型回折格子の作製 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Fabrication of Blazed Gratings by SR Exposure System 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) X線リソグラフィー / X-ray lithography  
キーワード(2)(和/英) ブレーズ型回折格子 / blazed grating  
キーワード(3)(和/英) シンクロトロン放射光 / synchrotron radiation  
キーワード(4)(和/英) フレネル回折 / Fresnel diffraction  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 蟹江 智彦 / Tomohiko Kanie / カニエ トモヒコ
第1著者 所属(和/英) 住友電気工業株式会社 (略称: 住友電工)
Sumitomo Electric Industries, Ltd. (略称: SEI)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 片山 誠 / Makoto Katayama / カタヤマ マコト
第2著者 所属(和/英) 住友電気工業株式会社 (略称: 住友電工)
Sumitomo Electric Industries, Ltd. (略称: SEI)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 森田 哲平 / Teppei Morita / モリタ テッペイ
第3著者 所属(和/英) 中沼アートスクリーン株式会社 (略称: 中沼アートスクリーン)
Nakanuma Art Screen Co, Ltd. (略称: Nakanuma ASC)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 外嶋 昇 / Noboru Toshima / トシマ ノボル
第4著者 所属(和/英) 中沼アートスクリーン株式会社 (略称: 中沼アートスクリーン)
Nakanuma Art Screen Co, Ltd. (略称: Nakanuma ASC)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 加藤 準一 / Junichi Kato / カトウ ジュンイチ
第5著者 所属(和/英) 中沼アートスクリーン株式会社 (略称: 中沼アートスクリーン)
Nakanuma Art Screen Co, Ltd. (略称: Nakanuma ASC)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 永山 富男 / Tomio Nagayama / ナガヤマ トミオ
第6著者 所属(和/英) 京都市産業技術研究所 (略称: 京都市産技研)
Kyoto Municipal Industrial Research Institute (略称: KMIR)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 水谷 泰 / Yasushi Mizutani / ミズタニ ヤスシ
第7著者 所属(和/英) 京都市産業技術研究所 (略称: 京都市産技研)
Kyoto Municipal Industrial Research Institute (略称: KMIR)
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) 加藤 史樹 / Fumiki Kato / カトウ フミキ
第8著者 所属(和/英) 立命館大学 (略称: 立命館大)
Ritsumeikan University (略称: Rits)
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) 藤縄 伸哉 / Shinya Fujinawa / フジナワ シンヤ
第9著者 所属(和/英) 立命館大学 (略称: 立命館大)
Ritsumeikan University (略称: Rits)
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) 杉山 進 / Susumu Sugiyama / スギヤマ ススム
第10著者 所属(和/英) 立命館大学 (略称: 立命館大)
Ritsumeikan University (略称: Rits)
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講演者 第1著者 
発表日時 2006-08-24 13:25:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 OFT 
資料番号 OFT2006-17 
巻番号(vol) vol.106 
号番号(no) no.211 
ページ範囲 pp.7-9 
ページ数
発行日 2006-08-17 (OFT) 


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