ご案内 入会して研究会活動をもっとお得に！研究会参加費・年間登録費が会員価格になります。
お知らせ 【重要】研究会参加費の支払いおよび原稿アップロード手続きの変更に関するご案内
電子情報通信学会 研究会発表申込システム
講演論文 詳細		 技報閲覧サービス
[ログイン]
技報アーカイブ
 トップに戻る 前のページに戻る   [Japanese] / [English] 

講演抄録／キーワード
講演名 2006-10-05 16:35
ECR-MBE法によるSi基板上GaN薄膜作製への窒素プラズマが及ぼす影響
○淀　徳男・白石雄起・平田清隆・富田博之・西江紀明・堀部裕明・岩田圭吾・原田義之（阪工大）
抄録 （和） (まだ登録されていません) 
（英） (Not available yet)
キーワード （和） / / / / / / /  
（英） / / / / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 106, no. 269, ED2006-160, pp. 45-49, 2006年10月.
資料番号 ED2006-160 
発行日 2006-09-28 (ED, CPM, LQE) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685
PDFダウンロード

研究会情報
研究会 ED CPM LQE  
開催期間 2006-10-05 - 2006-10-06 
開催地（和） 京都大学 
開催地（英）  
テーマ（和） 窒化物および混晶半導体デバイス 
テーマ（英）  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 ED 
会議コード 2006-10-ED-CPM-LQE 
本文の言語 日本語 
タイトル（和） ECR-MBE法によるSi基板上GaN薄膜作製への窒素プラズマが及ぼす影響 
サブタイトル（和）  
タイトル（英） Influences of nitrogen plasma on GaN growth on Si substrate by ECR-MBE growth method 
サブタイトル（英）  
キーワード(1)（和/英） /  
キーワード(2)（和/英） /  
キーワード(3)（和/英） /  
キーワード(4)（和/英） /  
キーワード(5)（和/英） /  
キーワード(6)（和/英） /  
キーワード(7)（和/英） /  
キーワード(8)（和/英） /  
第1著者 氏名（和/英/ヨミ） 淀 徳男 / Tokuo Yodo / ヨド トクオ
第1著者 所属（和/英） 大阪工業大学 (略称： 阪工大)
Osaka Institute of Technology (略称： Osaka Inst. of Tech.)
第2著者 氏名（和/英/ヨミ） 白石 雄起 / Yuki Shiraishi / シライシ ユウキ
第2著者 所属（和/英） 大阪工業大学 (略称： 阪工大)
Osaka Institute of Technology (略称： Osaka Inst. of Tech.)
第3著者 氏名（和/英/ヨミ） 平田 清隆 / Kiyotaka Hirata / ヒラタ キヨタカ
第3著者 所属（和/英） 大阪工業大学 (略称： 阪工大)
Osaka Institute of Technology (略称： Osaka Inst. of Tech.)
第4著者 氏名（和/英/ヨミ） 富田 博之 / Hiroyuki Tomita / トミタ ヒロユキ
第4著者 所属（和/英） 大阪工業大学 (略称： 阪工大)
Osaka Institute of Technology (略称： Osaka Inst. of Tech.)
第5著者 氏名（和/英/ヨミ） 西江 紀明 / Norikaki Nishie / ニシエ ノリアキ
第5著者 所属（和/英） 大阪工業大学 (略称： 阪工大)
Osaka Institute of Technology (略称： Osaka Inst. of Tech.)
第6著者 氏名（和/英/ヨミ） 堀部 裕明 / Hiroaki Horibe / ホリベ ヒロアキ
第6著者 所属（和/英） 大阪工業大学 (略称： 阪工大)
Osaka Institute of Technology (略称： Osaka Inst. of Tech.)
第7著者 氏名（和/英/ヨミ） 岩田 圭吾 / Keigo Iwata / イワタ ケイゴ
第7著者 所属（和/英） 大阪工業大学 (略称： 阪工大)
Osaka Institute of Technology (略称： Osaka Inst. of Tech.)
第8著者 氏名（和/英/ヨミ） 原田 義之 / Yoshiyuki Harada / ハラダ ヨシユキ
第8著者 所属（和/英） 大阪工業大学 (略称： 阪工大)
Osaka Institute of Technology (略称： Osaka Inst. of Tech.)
第9著者 氏名（和/英/ヨミ） / /
第9著者 所属（和/英） (略称： )
(略称： )
第10著者 氏名（和/英/ヨミ） / /
第10著者 所属（和/英） (略称： )
(略称： )
第11著者 氏名（和/英/ヨミ） / /
第11著者 所属（和/英） (略称： )
(略称： )
第12著者 氏名（和/英/ヨミ） / /
第12著者 所属（和/英） (略称： )
(略称： )
第13著者 氏名（和/英/ヨミ） / /
第13著者 所属（和/英） (略称： )
(略称： )
第14著者 氏名（和/英/ヨミ） / /
第14著者 所属（和/英） (略称： )
(略称： )
第15著者 氏名（和/英/ヨミ） / /
第15著者 所属（和/英） (略称： )
(略称： )
第16著者 氏名（和/英/ヨミ） / /
第16著者 所属（和/英） (略称： )
(略称： )
第17著者 氏名（和/英/ヨミ） / /
第17著者 所属（和/英） (略称： )
(略称： )
第18著者 氏名（和/英/ヨミ） / /
第18著者 所属（和/英） (略称： )
(略称： )
第19著者 氏名（和/英/ヨミ） / /
第19著者 所属（和/英） (略称： )
(略称： )
第20著者 氏名（和/英/ヨミ） / /
第20著者 所属（和/英） (略称： )
(略称： )
第21著者 氏名（和/英/ヨミ） / /
第21著者 所属（和/英） (略称： )
(略称： )
第22著者 氏名（和/英/ヨミ） / /
第22著者 所属（和/英） (略称： )
(略称： )
第23著者 氏名（和/英/ヨミ） / /
第23著者 所属（和/英） (略称： )
(略称： )
第24著者 氏名（和/英/ヨミ） / /
第24著者 所属（和/英） (略称： )
(略称： )
第25著者 氏名（和/英/ヨミ） / /
第25著者 所属（和/英） (略称： )
(略称： )
第26著者 氏名（和/英/ヨミ） / /
第26著者 所属（和/英） (略称： )
(略称： )
第27著者 氏名（和/英/ヨミ） / /
第27著者 所属（和/英） (略称： )
(略称： )
第28著者 氏名（和/英/ヨミ） / /
第28著者 所属（和/英） (略称： )
(略称： )
第29著者 氏名（和/英/ヨミ） / /
第29著者 所属（和/英） (略称： )
(略称： )
第30著者 氏名（和/英/ヨミ） / /
第30著者 所属（和/英） (略称： )
(略称： )
第31著者 氏名（和/英/ヨミ） / /
第31著者 所属（和/英） (略称： )
(略称： )
第32著者 氏名（和/英/ヨミ） / /
第32著者 所属（和/英） (略称： )
(略称： )
第33著者 氏名（和/英/ヨミ） / /
第33著者 所属（和/英） (略称： )
(略称： )
第34著者 氏名（和/英/ヨミ） / /
第34著者 所属（和/英） (略称： )
(略称： )
第35著者 氏名（和/英/ヨミ） / /
第35著者 所属（和/英） (略称： )
(略称： )
第36著者 氏名（和/英/ヨミ） / /
第36著者 所属（和/英） (略称： )
(略称： )
講演者 第1著者 
発表日時 2006-10-05 16:35:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 ED 
資料番号 ED2006-160, CPM2006-97, LQE2006-64 
巻番号（vol） vol.106 
号番号（no） no.269(ED), no.270(CPM), no.271(LQE) 
ページ範囲 pp.45-49 
ページ数 5 
発行日 2006-09-28 (ED, CPM, LQE) 

[研究会発表申込システムのトップページに戻る]

[電子情報通信学会ホームページ]
IEICE / 電子情報通信学会