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講演抄録/キーワード
講演名 2007-06-07 15:30
SiO2に埋め込まれたフローティングゲートへの多電子注入機構の提案
高田幸宏村口正和白石賢二筑波大SDM2007-35
抄録 (和) SiO2中に埋め込まれたマルチ量子ドットから構成されるフローティングゲートへの多電子の同時注入が実験によって報告されている。本実験においては、量子ドットゲートへの電子のトンネル注入自体が非常にrareなイベントで秒単位に1度しか起こらないにも関わらず、トンネル注入が生じると複数の電子が同時にマルチ量子ドットゲートに注入される。本研究では反転層に生じた2次元電子ガスを介した波動関数の干渉効果により量子ドット間に相関が5-7nm程度の範囲にわたって生じることを摂動計算によって明らかにした。干渉効果によって生じる量子ドット間の相関が複数電子の同時トンネルの物理的起源である可能性を提案する。 
(英) The use of silicon-quantum-dots (Si-QDs) as a floating gate in metal-oxide-semiconductor field-effect-transistors (MOSFETs) has been attracting great attention. During electron injection, however, many electrons are injected into Si-QDs within very short time (order of 1 ms). This experimental result indicates that the collective motion of electrons occurs during electron injection into Si-QDs. In this study, we theoretically show that neighboring dots are likely to interact each other, due to the quantum interference of wave functions of continuous two dimensional electron gas.
キーワード (和) 量子ドット / メモリ / フローティングゲート / トンネル / 理論 / 多電子注入 / /  
(英) Quantum Dot / Memory / Floating Gate / Tunnel / Theory / Multi-Electron Injection / /  
文献情報 信学技報, vol. 107, no. 85, SDM2007-35, pp. 23-26, 2007年6月.
資料番号 SDM2007-35 
発行日 2007-05-31 (SDM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード SDM2007-35

研究会情報
研究会 SDM  
開催期間 2007-06-07 - 2007-06-08 
開催地(和) 広島大学(学士会館) 
開催地(英) Hiroshima Univ. ( Faculty Club) 
テーマ(和) ゲート絶縁膜、容量膜、機能膜およびメモリ技術 (応用物理学会、シリコンテクノロジ分科会、研究集会「ゲートスタック構造の新展開(案)」との合同開催) 
テーマ(英) Sci. & Technol. for Thin Dielectrics for MIS Devices 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 SDM 
会議コード 2007-06-SDM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) SiO2に埋め込まれたフローティングゲートへの多電子注入機構の提案 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Proposal of the mechanism of multi-electron injection into floating gates embeded in SiO2 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 量子ドット / Quantum Dot  
キーワード(2)(和/英) メモリ / Memory  
キーワード(3)(和/英) フローティングゲート / Floating Gate  
キーワード(4)(和/英) トンネル / Tunnel  
キーワード(5)(和/英) 理論 / Theory  
キーワード(6)(和/英) 多電子注入 / Multi-Electron Injection  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 高田 幸宏 / Yukihiro Takada / タカダ ユキヒロ
第1著者 所属(和/英) 筑波大学 (略称: 筑波大)
University of Tsukuba (略称: Univ. of Tsukuba)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 村口 正和 / Masakazu Muraguchi / ムラグチ マサカズ
第2著者 所属(和/英) 筑波大学 (略称: 筑波大)
University of Tsukuba (略称: Univ. of Tsukuba)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 白石 賢二 / Kenji Shiraishi / シライシ ケンジ
第3著者 所属(和/英) 筑波大学 (略称: 筑波大)
University of Tsukuba (略称: Univ. of Tsukuba)
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講演者 第1著者 
発表日時 2007-06-07 15:30:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 SDM 
資料番号 SDM2007-35 
巻番号(vol) vol.107 
号番号(no) no.85 
ページ範囲 pp.23-26 
ページ数
発行日 2007-05-31 (SDM) 


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