| 講演抄録／キーワード |
| 講演名 |
2007-07-27 10:30
MOD法によるMgO基板上へのSTOおよびBi-2212薄膜の作製
○渡邉省司・立木 隆・内田貴司（防衛大）・内山哲治（宮城教大） |
| 抄録 |
（和） |
テラヘルツ発振器などの高周波デバイスへの応用を目指し、MgO基板上へのBi2Sr2CaCu2O8+x（Bi-2212）薄膜の作製を行っている。本研究では、低コストで大面積での成膜が可能な有機金属分解(MOD)法に注目し、Bi-2212薄膜を作製する際のMgO基板上へバッファー層として期待できるSrTiO3(STO)薄膜とBi-2212薄膜をそれぞれ作製し、それらの特性評価を行った。その結果、2段階熱処理を導入し、プリカーサの作製条件を最適化することにより、STO薄膜に対してX線回折測定によるロッキングカーブ半値幅Δω=1.80 deg.、面内ロッキングカーブ半値幅Δφ=2.65 deg.を得た。また、Bi-2212薄膜に対し、プリカーサ作製および本焼成プロセスを改善することにより、超伝導転移温度TC=75 Kを得た。 |
| （英） |
We focus on realizing a high quality Bi2Sr2CaCu2O8+x(Bi-2212) thin film fabricated on an MgO substrate in order to apply the film to high frequency devices such as a terahertz oscillator and filter. In this study, SrTiO3(STO) thin films which can be expected as a buffer layer and Bi-2212 thin films were fabricated on MgO substrates by the metal-organic decomposition(MOD) method which has the advantages such as its low running cost and ability to fabricate large-area films. By introducing the 2-step heat treatment and optimizing the temperature of precursor fabrication, we obtained the FWHM of 1.80°and 2.65°for the X-ray rocking curve and in-plane rocking curve of STO thin films, respectively. Further, we obtained the critical temperature(TC) of about 75 K for Bi-2212 thin films by improving the heat treatment process. |
| キーワード |
（和） |
有機金属分解（MOD）法 / STOバッファー層 / Bi-2212薄膜 / MgO基板 / / / / |
| （英） |
Metal-organic decomposition（MOD）method / STO buffer layer / Bi-2212 thin films / MgO substrate / / / / |
| 文献情報 |
信学技報, vol. 107, no. 171, SCE2007-12, pp. 1-6, 2007年7月. |
| 資料番号 |
SCE2007-12 |
| 発行日 |
2007-07-20 (SCE) |
| ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
| PDFダウンロード |
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| 研究会情報 |
| 研究会 |
SCE |
| 開催期間 |
2007-07-27 - 2007-07-27 |
| 開催地（和） |
機械振興会館 |
| 開催地（英） |
Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. |
| テーマ（和） |
一般 |
| テーマ（英） |
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| 講演論文情報の詳細 |
| 申込み研究会 |
SCE |
| 会議コード |
2007-07-SCE |
| 本文の言語 |
日本語 |
| タイトル（和） |
MOD法によるMgO基板上へのSTOおよびBi-2212薄膜の作製 |
| サブタイトル（和） |
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| タイトル（英） |
Fabrication of STO and Bi-2212 thin-films on MgO substrates by the MOD method. |
| サブタイトル（英） |
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| キーワード(1)（和/英） |
有機金属分解（MOD）法 / Metal-organic decomposition（MOD）method |
| キーワード(2)（和/英） |
STOバッファー層 / STO buffer layer |
| キーワード(3)（和/英） |
Bi-2212薄膜 / Bi-2212 thin films |
| キーワード(4)（和/英） |
MgO基板 / MgO substrate |
| キーワード(5)（和/英） |
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| キーワード(6)（和/英） |
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| キーワード(7)（和/英） |
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| キーワード(8)（和/英） |
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| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） |
渡邉 省司 / Shoji Watanabe / ワタナベ ショウジ |
| 第1著者 所属（和/英） |
防衛大学校 (略称： 防衛大)
National Defense Academy (略称： N.D.A.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） |
立木 隆 / Takashi Tachiki / タチキ タカシ |
| 第2著者 所属（和/英） |
防衛大学校 (略称： 防衛大)
National Defense Academy (略称： N.D.A.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） |
内田 貴司 / Takashi Uchida / ウチダ タカシ |
| 第3著者 所属（和/英） |
防衛大学校 (略称： 防衛大)
National Defense Academy (略称： N.D.A.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） |
内山 哲治 / Tetuji Uchiyama / ウチヤマ テツジ |
| 第4著者 所属（和/英） |
宮城教育大学 (略称： 宮城教大)
Miyagi University of Education (略称： Miyagi Univ. of Education) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 講演者 |
第1著者 |
| 発表日時 |
2007-07-27 10:30:00 |
| 発表時間 |
25分 |
| 申込先研究会 |
SCE |
| 資料番号 |
SCE2007-12 |
| 巻番号（vol） |
vol.107 |
| 号番号（no） |
no.171 |
| ページ範囲 |
pp.1-6 |
| ページ数 |
6 |
| 発行日 |
2007-07-20 (SCE) |