講演抄録/キーワード |
講演名 |
2007-10-12 14:40
新規ナノ構造発光デバイス開発に向けた、1分子層InN井戸/GaNマトリクス多重量子井戸構造の作製 ○橋本直樹・結城明彦・斉藤英幸(千葉大)・王 新強(JST)・崔 成伯・石谷善博・吉川明彦(千葉大/JST) ED2007-175 CPM2007-101 LQE2007-76 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2007-175 CPM2007-101 LQE2007-76 |
抄録 |
(和) |
RF-MBE法によるGa極性GaN上のInN超薄膜成長メカニズムを明らかにするするため、InN供給量に対するInN層厚の依存性の調査と、RHEED、SEによるInN成長、脱離過程のリアルタイムその場観察を行った。それらの結果から、成長温度650℃ではInN供給量を多くしても、InN層厚は2分子層以下にセルフリミットされる機構を発見した。また、このInN層厚のセルフリミット機構はGaNマトリクス効果によって起きていることが分かった。 |
(英) |
In order to clarify RF-MBE growth mechanism of ultrathin InN on Ga-polarity GaN, we investigated tolal supply of InN dependence on InN well thickness, and performed in-situ and real time monitoring and analyzing of InN growth and desorption process. We found that InN well thickness was independent of total supply of InN and self-limited to less than 2ML. The self-limiting system in thickness of InN well was due to GaN matrix effect. |
キーワード |
(和) |
窒化インジウム / 量子井戸 / セルフリミッティング / その場観察 / RF-MBE / / / |
(英) |
Indium nitride / Quantum well / Self-limiting / in-situ monitoring / RF-MBE / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 107, no. 253, LQE2007-76, pp. 93-96, 2007年10月. |
資料番号 |
LQE2007-76 |
発行日 |
2007-10-04 (ED, CPM, LQE) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
PDFダウンロード |
ED2007-175 CPM2007-101 LQE2007-76 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2007-175 CPM2007-101 LQE2007-76 |