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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2008-03-11 17:05 Comparison of MDA and EMC In Robustness against Over-fitting for Facial Expression Recognition ○Fan Chen・Kazunori Kotani（JAIST）  IE2007-335 PRMU2007-319 |
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| 抄録 | （和） | Eigen-space Method based on Class-features (EMC), a variant of Multiple Discriminant Analysis (MDA), has been proposed and applied for automatic facial expression recognition. Although EMC was reported to outperform MDA in Ref. [1][2], no mathematical explanations for the difference of performance have been given. In the present paper, we will first reformulate MDA and EMC based on a new model of Maximum Log Likelihood (MLL) estimation. By using this model, we will explain from the perspective of statistical inference that the difference of the underlying mechanism locates in that EMC is a variant of MDA with lower degree of freedom by assuming the covariance to be sphered in all directions. A thorough comparison between EMC and MDA in robust recognition of facial expressions will also be made to verify our conclusion that EMC outperforms MDA because it is more robust against over-fitting due to its lower degree of freedom. |
| （英） | Eigen-space Method based on Class-features (EMC), a variant of Multiple Discriminant Analysis (MDA), has been proposed and applied for automatic facial expression recognition. Although EMC was reported to outperform MDA in Ref. [1][2], no mathematical explanations for the difference of performance have been given. In the present paper, we will first reformulate MDA and EMC based on a new model of Maximum Log Likelihood (MLL) estimation. By using this model, we will explain from the perspective of statistical inference that the difference of the underlying mechanism locates in that EMC is a variant of MDA with lower degree of freedom by assuming the covariance to be sphered in all directions. A thorough comparison between EMC and MDA in robust recognition of facial expressions will also be made to verify our conclusion that EMC outperforms MDA because it is more robust against over-fitting due to its lower degree of freedom. | |
| キーワード | （和） | Facial Expression Recognition / Discriminant Analysis / EMC / Over-fitting / / / / |
| （英） | Facial Expression Recognition / Discriminant Analysis / EMC / Over-fitting / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 107, no. 539, PRMU2007-319, pp. 483-488, 2008年3月. | |
| 資料番号 | PRMU2007-319 | |
| 発行日 | 2008-03-03 (IE, PRMU) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | IE2007-335 PRMU2007-319 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | PRMU IE |
| 開催期間 | 2008-03-10 - 2008-03-11 |
| 開催地（和） | 北陸先端大 |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | 3次元画像、多視点画像 |
| テーマ（英） | JAIST |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | PRMU |
| 会議コード | 2008-03-PRMU-IE |
| 本文の言語 | 英語 |
| タイトル（和） | |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Comparison of MDA and EMC In Robustness against Over-fitting for Facial Expression Recognition |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | Facial Expression Recognition / Facial Expression Recognition |
| キーワード(2)（和/英） | Discriminant Analysis / Discriminant Analysis |
| キーワード(3)（和/英） | EMC / EMC |
| キーワード(4)（和/英） | Over-fitting / Over-fitting |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | Fan Chen / Fan Chen / |
| 第1著者 所属（和/英） | JAIST (略称： 北陸先端大) JAIST (略称： JAIST) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | Kazunori Kotani / Kazunori Kotani / |
| 第2著者 所属（和/英） | JAIST (略称： 北陸先端大) JAIST (略称： JAIST) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2008-03-11 17:05:00 |
| 発表時間 | 30分 |
| 申込先研究会 | PRMU |
| 資料番号 | IE2007-335, PRMU2007-319 |
| 巻番号（vol） | vol.107 |
| 号番号（no） | no.538(IE), no.539(PRMU) |
| ページ範囲 | pp.483-488 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2008-03-03 (IE, PRMU) |
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