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講演抄録/キーワード
講演名 2008-05-16 10:50
p型GaNゲートノーマリーオフ型AlGaN/GaN Junction HFETのオン抵抗と耐圧
根賀亮平水野克俊岩谷素顕上山 智天野 浩赤崎 勇名城大ED2008-13 CPM2008-21 SDM2008-33 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2008-13 CPM2008-21 SDM2008-33
抄録 (和) 低損失スイッチングデバイスの実現には、ノーマリーオフ型デバイスのオン抵抗低減が必須である。また、実用化のためには耐圧の向上が必要である。p-GaNゲートを有する?族窒化物半導体ノーマリーオフ型FETの構造変化によるオン抵抗の低減と耐圧のソース・ドレイン間距離依存性を確認した。 
(英) This paper reports normally-off mode nitride-based field-effect transistor using p-type gate contact. In order to realize application to power switching devices, it is necessary to reduce on-resistance as well as to keep the breakdown voltage high enough. By changing the device parameters such as source-drain distance, gate length, etc., correlation between on-resistance and breakdown voltage was deduced experimentally.
キーワード (和) AlGaN / GaN / Junction HFET / p-GaNゲート / ノーマリーオフ / 低オン抵抗 / 耐圧 /  
(英) AlGaN / GaN / Junction HFET / p-type GaN gate / normally-off / low on-resistance / Breakdown Voltage /  
文献情報 信学技報, vol. 108, no. 34, ED2008-13, pp. 61-66, 2008年5月.
資料番号 ED2008-13 
発行日 2008-05-08 (ED, CPM, SDM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード ED2008-13 CPM2008-21 SDM2008-33 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2008-13 CPM2008-21 SDM2008-33

研究会情報
研究会 CPM ED SDM  
開催期間 2008-05-15 - 2008-05-16 
開催地(和) 名古屋工業大学 
開催地(英) Nagoya Institute of Technology 
テーマ(和) 結晶成長、評価及びデバイス(化合物、Si、SiGe、電子・光材料) 
テーマ(英) Crystal growth, evaluation and device (Compound, Si, SiGe, Electronic and light emitting materials) 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 ED 
会議コード 2008-05-CPM-ED-SDM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) p型GaNゲートノーマリーオフ型AlGaN/GaN Junction HFETのオン抵抗と耐圧 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) On-resistance and Breakdown Voltage of Enhancement-Mode AlGaN/GaN Junction HFET Using p-GaN Gate Contact 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) AlGaN / AlGaN  
キーワード(2)(和/英) GaN / GaN  
キーワード(3)(和/英) Junction HFET / Junction HFET  
キーワード(4)(和/英) p-GaNゲート / p-type GaN gate  
キーワード(5)(和/英) ノーマリーオフ / normally-off  
キーワード(6)(和/英) 低オン抵抗 / low on-resistance  
キーワード(7)(和/英) 耐圧 / Breakdown Voltage  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 根賀 亮平 / Ryohei Nega / ネガ リョウヘイ
第1著者 所属(和/英) 名城大学 (略称: 名城大)
Meijo University (略称: Meijo Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 水野 克俊 / Katsutoshi Mizuno / ミズノ カツトシ
第2著者 所属(和/英) 名城大学 (略称: 名城大)
Meijo University (略称: Meijo Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 岩谷 素顕 / Motoaki Iwaya / イワヤ モトアキ
第3著者 所属(和/英) 名城大学 (略称: 名城大)
Meijo University (略称: Meijo Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 上山 智 / Satoshi Kamiyama / カミヤマ サトシ
第4著者 所属(和/英) 名城大学 (略称: 名城大)
Meijo University (略称: Meijo Univ.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 天野 浩 / Hiroshi Amano / アマノ ヒロシ
第5著者 所属(和/英) 名城大学 (略称: 名城大)
Meijo University (略称: Meijo Univ.)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 赤崎 勇 / Isamu Akasaki / アカサキ イサム
第6著者 所属(和/英) 名城大学 (略称: 名城大)
Meijo University (略称: Meijo Univ.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2008-05-16 10:50:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 ED 
資料番号 ED2008-13, CPM2008-21, SDM2008-33 
巻番号(vol) vol.108 
号番号(no) no.34(ED), no.35(CPM), no.36(SDM) 
ページ範囲 pp.61-66 
ページ数
発行日 2008-05-08 (ED, CPM, SDM) 


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