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講演抄録/キーワード
講演名 2008-07-11 14:20
AlGaN/GaN-based Millimeter Wave Monolithic ICs with Laser-Drilled Via-holes Through Sapphire
Tomohiro MurataMasayuki KurodaMatsushita Electric Industrial)・Shuichi NagaiPanasonic Boston Lab.)・Masaaki NishijimaHidetoshi IshidaManabu YanagiharaTetsuzo UedaHiroyuki SakaiTsuyoshi TanakaMatsushita Electric Industrial)・Ming LiPanasonic Boston Lab.ED2008-103 SDM2008-122
抄録 (和) We present K-band AlGaN/GaN HFET MMIC amplifiers on sapphire substrates. Integrated AlGaN/GaN HFETs have superlattice capping layers which successfully reduce series resistance. A typical HFET shows fmax of 161 GHz and NFmin of 2.5 dB at 28 GHz. The first demonstration of GaN based K-band MMIC is 2-stage amplifier with coplanar waveguide transmission line, which exhibits a small signal gain of 13 dB at 21.6 GHz. Further increase of the gain is achieved by 3-stage amplifier MMIC which include microstrip lines with via-holes. The via-holes are fabricated onto chemically stable sapphire by newly proposed laser drilling technique. The compact 3-stage amplifier exhibits a small-signal gain as high as 22 dB at 26 GHz with a 3 dB bandwidth of 4 GHz. The presented K-band MMIC would be applicable to future millimeter-wave communication systems. 
(英) We present K-band AlGaN/GaN HFET MMIC amplifiers on sapphire substrates. Integrated AlGaN/GaN HFETs have superlattice capping layers which successfully reduce series resistance. A typical HFET shows fmax of 161 GHz and NFmin of 2.5 dB at 28 GHz. The first demonstration of GaN based K-band MMIC is 2-stage amplifier with coplanar waveguide transmission line, which exhibits a small signal gain of 13 dB at 21.6 GHz. Further increase of the gain is achieved by 3-stage amplifier MMIC which include microstrip lines with via-holes. The via-holes are fabricated onto chemically stable sapphire by newly proposed laser drilling technique. The compact 3-stage amplifier exhibits a small-signal gain as high as 22 dB at 26 GHz with a 3 dB bandwidth of 4 GHz. The presented K-band MMIC would be applicable to future millimeter-wave communication systems.
キーワード (和) AlGaN/GaN heterojunction FET / superlattices / MMIC amplifiers / sapphire / via hole / laser drilling / microstrip line /  
(英) AlGaN/GaN heterojunction FET / superlattices / MMIC amplifiers / sapphire / via hole / laser drilling / microstrip line /  
文献情報 信学技報, vol. 108, no. 121, ED2008-103, pp. 331-335, 2008年7月.
資料番号 ED2008-103 
発行日 2008-07-02 (ED, SDM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード ED2008-103 SDM2008-122

研究会情報
研究会 SDM ED  
開催期間 2008-07-09 - 2008-07-11 
開催地(和) かでる2・7(札幌) 
開催地(英) Kaderu2・7 
テーマ(和) 第16回先端半導体デバイスの基礎と応用に関するアジア・太平洋ワークショップ(AWAD2008) 
テーマ(英) 2008 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Applications of Advanced Semiconductor Devices 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 ED 
会議コード 2008-07-SDM-ED 
本文の言語 英語 
タイトル(和)  
サブタイトル(和)  
タイトル(英) AlGaN/GaN-based Millimeter Wave Monolithic ICs with Laser-Drilled Via-holes Through Sapphire 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) AlGaN/GaN heterojunction FET / AlGaN/GaN heterojunction FET  
キーワード(2)(和/英) superlattices / superlattices  
キーワード(3)(和/英) MMIC amplifiers / MMIC amplifiers  
キーワード(4)(和/英) sapphire / sapphire  
キーワード(5)(和/英) via hole / via hole  
キーワード(6)(和/英) laser drilling / laser drilling  
キーワード(7)(和/英) microstrip line / microstrip line  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 村田 智洋 / Tomohiro Murata / ムラタ トモヒロ
第1著者 所属(和/英) 松下電器産業株式会社 (略称: 松下電器)
Matsushita Electric Industrial Co. Ltd. (略称: Matsushita Electric Industrial)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 黒田 正行 / Masayuki Kuroda / クロダ マサユキ
第2著者 所属(和/英) 松下電器産業株式会社 (略称: 松下電器)
Matsushita Electric Industrial Co. Ltd. (略称: Matsushita Electric Industrial)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 永井 秀一 / Shuichi Nagai / ナガイ シュウイチ
第3著者 所属(和/英) パナソニック ボストン研究所 (略称: Panasonic Boston Lab.)
Panasonic Boston Laboratory (略称: Panasonic Boston Lab.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 西嶋 将明 / Masaaki Nishijima / ニシジマ マサアキ
第4著者 所属(和/英) 松下電器産業株式会社 (略称: 松下電器)
Matsushita Electric Industrial Co. Ltd. (略称: Matsushita Electric Industrial)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 石田 秀俊 / Hidetoshi Ishida / イシダ ヒデトシ
第5著者 所属(和/英) 松下電器産業株式会社 (略称: 松下電器)
Matsushita Electric Industrial Co. Ltd. (略称: Matsushita Electric Industrial)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 柳原 学 / Manabu Yanagihara / ヤナギハラ マナブ
第6著者 所属(和/英) 松下電器産業株式会社 (略称: 松下電器)
Matsushita Electric Industrial Co. Ltd. (略称: Matsushita Electric Industrial)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 上田 哲三 / Tetsuzo Ueda / ウエダ テツゾウ
第7著者 所属(和/英) 松下電器産業株式会社 (略称: 松下電器)
Matsushita Electric Industrial Co. Ltd. (略称: Matsushita Electric Industrial)
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) 酒井 啓之 / Hiroyuki Sakai / サカイ ヒロユキ
第8著者 所属(和/英) 松下電器産業株式会社 (略称: 松下電器)
Matsushita Electric Industrial Co. Ltd. (略称: Matsushita Electric Industrial)
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) 田中 毅 / Tsuyoshi Tanaka / タナカ ツヨシ
第9著者 所属(和/英) 松下電器産業株式会社 (略称: 松下電器)
Matsushita Electric Industrial Co. Ltd. (略称: Matsushita Electric Industrial)
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) Ming Li / Ming Li / Ming Li
第10著者 所属(和/英) パナソニック ボストン研究所 (略称: Panasonic Boston Lab.)
Panasonic Boston Laboratory (略称: Panasonic Boston Lab.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2008-07-11 14:20:00 
発表時間 15分 
申込先研究会 ED 
資料番号 ED2008-103, SDM2008-122 
巻番号(vol) vol.108 
号番号(no) no.121(ED), no.122(SDM) 
ページ範囲 pp.331-335 
ページ数
発行日 2008-07-02 (ED, SDM) 


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