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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2008-07-24 13:25 希塩酸処理プロセスを用いたBi系SQUIDの作製法 ○加藤孝弘・吉田 隆・三輪 淳（長岡技科大）・島影 尚（NICT）・河合 晃・末松久幸（長岡技科大）・石黒 孝（東京理科大）・濱崎勝義（長岡技科大）  SCE2008-16 |
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| 抄録 | （和） | 我々はこれまでに希塩酸処理プロセスを用いてスタック型Bi-2212固有ジョセフソン接合の作製を行ってきた．この研究の過程で希塩酸に浸漬させたBi-2212単結晶が透明な絶縁体（BiOCl）に改質されることを見出した．本研究では，この現象を利用し，二つの固有接合及び，SQUIDループ部となるBi-2212結晶以外をすべて絶縁体（BiOCl）へ改質する方法でdc-SQUIDを試作したので報告する． 作製したdc-SQUIDはLiq.N2中(77K)において大きなヒステリシスをもつI-V特性を示した．また，77Kにおいて臨界電流（Ic）は磁場により変調されたが，変調度とIc値との相関はまだ乏しく，今後，再現性の検討が必要である．残された課題は多いが，本プロセスはBi-2212固有ジョセフソン接合を用いたdc-SQUID作製に有用であると期待される． |
| （英） | We have previously reported on an acid-treatment process for the fabrication of Bi2Sr2CaCu2Ox (Bi-2212) stacks. In this process, we found interesting phenomena that Bi-2212 single crystal dipped into acid solution of pH>1.4 was varied to transparent material. In this study, we tried to fabricate dc-SQUID with an in-plane loop having two stacks of IJJs by this acid-treatment process. The SQUID showed large hysteretic current-voltage characteristics at liquid N2 temperature. The SQUIDs showed periodic modulation of the critical current Ic(B) as a function of magnetic field, but had poor batch-to-batch reproducibility. Although there are many problems to be solved, the proposed acid treatment process may be useful for dc-SQUID based on Bi-2212 IJJs. | |
| キーワード | （和） | 固有ジョセフソン接合 / 希塩酸改質プロセス / dc-SQUID / / / / / |
| （英） | Intrinsic Josephson junction / Acid treatment process / dc-SQUID / / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 108, no. 152, SCE2008-16, pp. 7-11, 2008年7月. | |
| 資料番号 | SCE2008-16 | |
| 発行日 | 2008-07-17 (SCE) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | SCE2008-16 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | SCE |
| 開催期間 | 2008-07-24 - 2008-07-24 |
| 開催地（和） | 機械振興会館 |
| 開催地（英） | Kikai-Shinko-Kaikan Bldg |
| テーマ（和） | ジョセフソン接合・材料、一般 |
| テーマ（英） | Josephson junctions and materials, etc |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | SCE |
| 会議コード | 2008-07-SCE |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 希塩酸処理プロセスを用いたBi系SQUIDの作製法 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Fabrication of Bi-2212 SQUID by using acid-treatement process |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 固有ジョセフソン接合 / Intrinsic Josephson junction |
| キーワード(2)（和/英） | 希塩酸改質プロセス / Acid treatment process |
| キーワード(3)（和/英） | dc-SQUID / dc-SQUID |
| キーワード(4)（和/英） | / |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 加藤 孝弘 / Takahiro Kato / カトウ タカヒロ |
| 第1著者 所属（和/英） | 長岡技術科学大学 (略称： 長岡技科大) Nagaoka University of Technology (略称： Nagaoka Univ. Tech) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 吉田 隆 / Takashi Yoshida / ヨシダ タカシ |
| 第2著者 所属（和/英） | 長岡技術科学大学 (略称： 長岡技科大) Nagaoka University of Technology (略称： Nagaoka Univ. Tech) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 三輪 淳 / Atsushi Miwa / ミワ アツシ |
| 第3著者 所属（和/英） | 長岡技術科学大学 (略称： 長岡技科大) Nagaoka University of Technology (略称： Nagaoka Univ. Tech) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 島影 尚 / Hisashi Shimakage / シマカゲ ヒサシ |
| 第4著者 所属（和/英） | 情報通信研究機構 (略称： NICT) National Institute of Information and Communications Technology (略称： NICT) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 河合 晃 / Akira Kawai / カワイ アキラ |
| 第5著者 所属（和/英） | 長岡技術科学大学 (略称： 長岡技科大) Nagaoka University of Technology (略称： Nagaoka Univ. Tech) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | 末松 久幸 / Hisayuki Suematsu / スエマツ ヒサユキ |
| 第6著者 所属（和/英） | 長岡技術科学大学 (略称： 長岡技科大) Nagaoka University of Technology (略称： Nagaoka Univ. Tech) |
| 第7著者 氏名（和/英/ヨミ） | 石黒 孝 / Takashi Ishiguro / イシグロ タカシ |
| 第7著者 所属（和/英） | 東京理科大学 (略称： 東京理科大) Tokyo University of Science (略称： Tokyo Univ. of Science) |
| 第8著者 氏名（和/英/ヨミ） | 濱崎 勝義 / Katsuyoshi Hamasaki / ハマサキ カツヨシ |
| 第8著者 所属（和/英） | 長岡技術科学大学 (略称： 長岡技科大) Nagaoka University of Technology (略称： Nagaoka Univ. Tech) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2008-07-24 13:25:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | SCE |
| 資料番号 | SCE2008-16 |
| 巻番号（vol） | vol.108 |
| 号番号（no） | no.152 |
| ページ範囲 | pp.7-11 |
| ページ数 | 5 |
| 発行日 | 2008-07-17 (SCE) |
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