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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2008-11-07 13:00 ポリイミドをターゲットとして作製した高周波スパッタ高分子薄膜 ～ 成膜時の電力と圧力が分子構造と基板との密着性に与える影響 ～ ○上村彰宏・岩森 暁（金沢大）・西山逸雄（ダイプラ・ウィンテス）  OME2008-58 エレソ技報アーカイブへのリンク：OME2008-58 |
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| 抄録 | （和） | (まだ登録されていません) |
| （英） | (Not available yet) | |
| キーワード | （和） | スパッタリング / ポリイミド / XPS / FT-IR / 磨耗耐久性 / SAICAS / / |
| （英） | / / / / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 108, no. 280, OME2008-58, pp. 1-5, 2008年11月. | |
| 資料番号 | OME2008-58 | |
| 発行日 | 2008-10-31 (OME) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | OME2008-58 エレソ技報アーカイブへのリンク：OME2008-58 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | OME |
| 開催期間 | 2008-11-07 - 2008-11-07 |
| 開催地（和） | セイコーエプソン(株) |
| 開催地（英） | Seiko Epson |
| テーマ（和） | 有機薄膜・複合膜とデバイス応用，一般 |
| テーマ（英） | |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | OME |
| 会議コード | 2008-11-OME |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | ポリイミドをターゲットとして作製した高周波スパッタ高分子薄膜 |
| サブタイトル（和） | 成膜時の電力と圧力が分子構造と基板との密着性に与える影響 |
| タイトル（英） | Polymer thin film prepared by r.f.sputtering with a polyimide target |
| サブタイトル（英） | Effects of powers and pressures on molecular structure and adhesion to substrate |
| キーワード(1)（和/英） | スパッタリング / |
| キーワード(2)（和/英） | ポリイミド / |
| キーワード(3)（和/英） | XPS / |
| キーワード(4)（和/英） | FT-IR / |
| キーワード(5)（和/英） | 磨耗耐久性 / |
| キーワード(6)（和/英） | SAICAS / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 上村 彰宏 / Akihiro Uemura / ウエムラ アキヒロ |
| 第1著者 所属（和/英） | 金沢大学 (略称： 金沢大) Kanazawa University (略称： Kanazawa Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 岩森 暁 / Satoru Iwamori / イワモリ サトル |
| 第2著者 所属（和/英） | 金沢大学 (略称： 金沢大) Kanazawa University (略称： Kanazawa Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 西山 逸雄 / Itsuo Nishiyama / ニシヤマ イツオ |
| 第3著者 所属（和/英） | ダイプラ・ウィンテス株式会社 (略称： ダイプラ・ウィンテス) Daipla Wintes. Co.,Ltd (略称： Daipla Wintes) |
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| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2008-11-07 13:00:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | OME |
| 資料番号 | OME2008-58 |
| 巻番号（vol） | vol.108 |
| 号番号（no） | no.280 |
| ページ範囲 | pp.1-5 |
| ページ数 | 5 |
| 発行日 | 2008-10-31 (OME) |
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