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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2008-11-21 15:35 ［招待講演］高飽和磁束密度軟磁性薄膜の開発とその波及的応用 ○逢坂哲彌（早大）  MR2008-33 エレソ技報アーカイブへのリンク：MR2008-33 |
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| 抄録 | （和） | 磁気記録分野では成膜法として限界と思われていた電気化学プロセスをナノ構造が制御された成膜法として再提示してきた．その中で開発したCoFeNi軟磁性の電気めっき膜は，混晶境界ラインの合金組成を狙うことで膜内の粒子は微細化され，高Bsと低い保磁力が両立することを見出した．本成果は主磁極が高比抵抗膜でなくてはならないとい概念を塗り替え，高Bs材料を用いることで薄膜化を可能にし，高性能小型磁気ヘッドの実現を下支えした．引き続いて開発したBs=2.4TのCoFe軟磁性膜も含め，電気化学的に形成した種々の軟磁性膜は磁気記録分野への適用に加えて，磁気が介在する電気・電子デバイスに搭載されるようになってきている． |
| （英） | Magnetic materials are classed as 'soft' if they have a low coercivity. Soft magnetic materials are a central component of electromagnetic devices such as step motors, magnetic sensors, transformers and magnetic recording heads. Miniaturization of these devices requires materials that can develop higher saturation flux density, Bs, so that the necessary flux densities can be preserved on reducing device dimensions, while simultaneously achieving a low coercivity. Here we report the electrochemical preparation of a CoFeNi film with a very high value of Bs=2.1 T and a low coercivity. The favorable properties are achieved by avoiding the need for organic additives in the deposition process, which are typically used to reduce internal stresses. The film also undergoes very small magnetostriction, which is essential to ensure that they are not stressed when an external magnetic field is applied. Electrochemical preparation for soft magnetic material should find applications in miniaturization of electromechanical devices and in high-density magnetic data storage. | |
| キーワード | （和） | 軟磁性 / 薄膜 / CoNiFe / 電気めっき / 磁気ヘッド / / / |
| （英） | soft magnet film / CoFeNi alloy / electrochemical deposition / magnetic recording head / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 108, 2008年11月. | |
| 資料番号 | ||
| 発行日 | 2008-11-14 (MR) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | MR2008-33 エレソ技報アーカイブへのリンク：MR2008-33 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | MRIS ITE-MMS |
| 開催期間 | 2008-11-21 - 2008-11-21 |
| 開催地（和） | 早稲田大学 |
| 開催地（英） | Waseda University |
| テーマ（和） | ハードディスクドライブおよび一般 |
| テーマ（英） | HDD and general |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | MRIS |
| 会議コード | 2008-11-MR-MMS |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 高飽和磁束密度軟磁性薄膜の開発とその波及的応用 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Development of Electrochemical Technique to Prepare Soft Magnetic Films with High Saturation Magnetic Flux Density and Their Practical Applications |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 軟磁性 / soft magnet film |
| キーワード(2)（和/英） | 薄膜 / CoFeNi alloy |
| キーワード(3)（和/英） | CoNiFe / electrochemical deposition |
| キーワード(4)（和/英） | 電気めっき / magnetic recording head |
| キーワード(5)（和/英） | 磁気ヘッド / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 逢坂 哲彌 / Tetsuya Osaka / オオサカ テツヤ |
| 第1著者 所属（和/英） | 早稲田大学 (略称： 早大) Waseda University (略称： Waseda Univ.) |
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| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2008-11-21 15:35:00 |
| 発表時間 | 40分 |
| 申込先研究会 | MRIS |
| 資料番号 | MR2008-33 |
| 巻番号（vol） | vol.108 |
| 号番号（no） | no.313 |
| ページ範囲 | pp.19-24 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2008-11-14 (MR) |
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