ご案内
入会して研究会活動をもっとお得に!研究会参加費・年間登録費が会員価格になります。
お知らせ
【重要】研究会参加費の支払いおよび原稿アップロード手続きの変更に関するご案内
電子情報通信学会 研究会発表申込システム
講演論文 詳細
技報閲覧サービス
[ログイン]
技報アーカイブ
トップに戻る
前のページに戻る
[Japanese]
/
[English]
講演抄録/キーワード
講演名
2008-12-05 14:10
NO直接酸化法により作製したC面上4H-SiC MOSデバイスの特性
○
大城ゆき
・
岡本 大
・
矢野裕司
・
畑山智亮
・
浦岡行治
・
冬木 隆
(
奈良先端大
)
SDM2008-190
抄録
(和)
(まだ登録されていません)
(英)
(Not available yet)
キーワード
(和)
/ / / / / / /
(英)
/ / / / / / /
文献情報
信学技報, vol. 108, no. 335, SDM2008-190, pp. 31-35, 2008年12月.
資料番号
SDM2008-190
発行日
2008-11-28 (SDM)
ISSN
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード
SDM2008-190
研究会情報
研究会
SDM
開催期間
2008-12-05 - 2008-12-05
開催地(和)
京都大学桂キャンパスA1-001
開催地(英)
Kyoto University, Katsura Campus, A1-001
テーマ(和)
シリコン関連材料の作製と評価
テーマ(英)
Fabrication and Characterization of Si and Si-related Materials and Devices
講演論文情報の詳細
申込み研究会
SDM
会議コード
2008-12-SDM
本文の言語
日本語
タイトル(和)
NO直接酸化法により作製したC面上4H-SiC MOSデバイスの特性
サブタイトル(和)
タイトル(英)
Electrical properties of 4H-SiC MOS devices fabricated on C-face with NO direct oxidation
サブタイトル(英)
キーワード(1)(和/英)
/
キーワード(2)(和/英)
/
キーワード(3)(和/英)
/
キーワード(4)(和/英)
/
キーワード(5)(和/英)
/
キーワード(6)(和/英)
/
キーワード(7)(和/英)
/
キーワード(8)(和/英)
/
第1著者 氏名(和/英/ヨミ)
大城 ゆき
/
Yuki Oshiro
/
オオシロ ユキ
第1著者 所属(和/英)
奈良先端科学技術大学院大学
(略称:
奈良先端大
)
Nara Institute of Science and Technology
(略称:
Nara Institute of Science and Technology
)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ)
岡本 大
/
Dai Okamoto
/
オカモト ダイ
第2著者 所属(和/英)
奈良先端科学技術大学院大学
(略称:
奈良先端大
)
Nara Institute of Science and Technology
(略称:
Nara Institute of Science and Technology
)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ)
矢野 裕司
/
Hiroshi Yano
/
ヤノ ヒロシ
第3著者 所属(和/英)
奈良先端科学技術大学院大学
(略称:
奈良先端大
)
Nara Institute of Science and Technology
(略称:
Nara Institute of Science and Technology
)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ)
畑山 智亮
/
Tomoaki Hatayama
/
ハタヤマ トモアキ
第4著者 所属(和/英)
奈良先端科学技術大学院大学
(略称:
奈良先端大
)
Nara Institute of Science and Technology
(略称:
Nara Institute of Science and Technology
)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ)
浦岡 行治
/
Yukiharu Uraoka
/
ウラオカ ユキハル
第5著者 所属(和/英)
奈良先端科学技術大学院大学
(略称:
奈良先端大
)
Nara Institute of Science and Technology
(略称:
Nara Institute of Science and Technology
)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ)
冬木 隆
/
Takashi Fuyuki
/
フユキ タカシ
第6著者 所属(和/英)
奈良先端科学技術大学院大学
(略称:
奈良先端大
)
Nara Institute of Science and Technology
(略称:
Nara Institute of Science and Technology
)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第7著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第8著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第8著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第9著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第9著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第10著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第10著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第11著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第11著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第12著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第12著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第13著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第13著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第14著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第14著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第15著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第15著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第16著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第16著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第17著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第17著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第18著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第18著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第19著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第19著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第20著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第20著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第21著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第21著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第22著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第22著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第23著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第23著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第24著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第24著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第25著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第25著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第26著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第26著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第27著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第27著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第28著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第28著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第29著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第29著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第30著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第30著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第31著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第31著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第32著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第32著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第33著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第33著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第34著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第34著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第35著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第35著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第36著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第36著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
講演者
第1著者
発表日時
2008-12-05 14:10:00
発表時間
20分
申込先研究会
SDM
資料番号
SDM2008-190
巻番号(vol)
vol.108
号番号(no)
no.335
ページ範囲
pp.31-35
ページ数
5
発行日
2008-11-28 (SDM)
[研究会発表申込システムのトップページに戻る]
[電子情報通信学会ホームページ]
IEICE / 電子情報通信学会