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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2009-02-26 15:40 Field Emitter Arrayの高機能化とその応用 ○根尾陽一郎・武田匡史・田上智也・堀江 瞬・青木 徹・三村秀典（静岡大）・吉田知也・長尾昌善・金丸正剛（産総研）  ED2008-228 SDM2008-220 |
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| 抄録 | （和） | 我々は電界放射微小電子源（Field Emission Array: FEA）に従来にない構造の集束電極を付加することで著しい性能向上を実現し、新規デバイスやアプリケーションの提案を行って来た．従来FEAは製造プロセス・構造の律束により，電子放出サイトの直上に減速電界による単孔レンズを設ける事が一般的であった．しかし，集束動作時に放出サイト近傍の電界強度の減少を引き起こす為，電子ビーム量の著しい減少は不可避であった．Field Emission Display (FED)応用を目的とし，電子ビーム量を維持し且つ集束機能を実現可能なvolcano-structured double-gated FEA構造を提案し作製・評価を行い，良好な結果を得ている．またこの構造を用いることで高周波管, 高精細Ｘ線イメージングセンサやエキシマランプに応用し性能向上が期待出来る．更に電子ビームを高精細に集束させる為，アインツェルレンズ一体型の４段ゲートFEAの試作・評価を行った．この結果，クロスオーバーを実現可能である事を明らかにした．これによりカソード・カラム一体のマイクロサイズ電子線顕微鏡・電子線リソグラフィー実現への可能性を示した． |
| （英） | We have developed field emission array (FEA) with new focusing electrode structure and proposed several devices and applications using FEA. In order to realize a fine defined field emission display (FED), optimized volcano- structured double-gated FEA was fabricated and focusing characteristics was successfully confirmed. By using volcano-structured double-gated FEA, high frequency vacuum tubes, X-ray imaging tube and excimer lamp were newly proposed and estimated. Further more, highly performed focusing characteristics is needed for the applications using crossover electron beam, such as electron beam microscope and electron beam lithography. The Quad-gated FEA, which equipped an einzel lens just in front of extractor electrode, was fabricated and estimated. It was shown by simulations that the emitted electron beam made a crossover. These results promised new devices and application using FEA. | |
| キーワード | （和） | フィールド・エミッション・アレイ / フィールド・エミッション・ディスプレイ / アインツェル・レンズ / 電子線顕微鏡 / 電子線リソグラフィー / / / |
| （英） | field emission array / field emission display / einzel lens / electron beam microscope / electron beam lithography / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 108, no. 438, SDM2008-220, pp. 23-27, 2009年2月. | |
| 資料番号 | SDM2008-220 | |
| 発行日 | 2009-02-19 (ED, SDM) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | ED2008-228 SDM2008-220 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM ED |
| 開催期間 | 2009-02-26 - 2009-02-27 |
| 開催地（和） | 北海道大学 |
| 開催地（英） | Hokkaido Univ. |
| テーマ（和） | 機能ナノデバイスおよび関連技術 |
| テーマ（英） | Functional nanodevices and related technologies |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | SDM |
| 会議コード | 2009-02-SDM-ED |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | Field Emitter Arrayの高機能化とその応用 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Feild Emitter Arrays with focusing function and it's applications |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | フィールド・エミッション・アレイ / field emission array |
| キーワード(2)（和/英） | フィールド・エミッション・ディスプレイ / field emission display |
| キーワード(3)（和/英） | アインツェル・レンズ / einzel lens |
| キーワード(4)（和/英） | 電子線顕微鏡 / electron beam microscope |
| キーワード(5)（和/英） | 電子線リソグラフィー / electron beam lithography |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 根尾 陽一郎 / Yoichiro Neo / ネオ ヨウイチロウ |
| 第1著者 所属（和/英） | 静岡大学 (略称： 静岡大) Shizuoka University (略称： Shizuoka Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 武田 匡史 / Masafumi Takeda / タケダ マサフミ |
| 第2著者 所属（和/英） | 静岡大学 (略称： 静岡大) Shizuoka University (略称： Shizuoka Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 田上 智也 / Tomoya Tagami / タガミ トモヤ |
| 第3著者 所属（和/英） | 静岡大学 (略称： 静岡大) Shizuoka University (略称： Shizuoka Univ.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 堀江 瞬 / Syun Horie / ホリエ シュン |
| 第4著者 所属（和/英） | 静岡大学 (略称： 静岡大) Shizuoka University (略称： Shizuoka Univ.) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 青木 徹 / Toru Aoki / アオキ トオル |
| 第5著者 所属（和/英） | 静岡大学 (略称： 静岡大) Shizuoka University (略称： Shizuoka Univ.) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | 三村 秀典 / Hidenori Mimura / ミムラ ヒデノリ |
| 第6著者 所属（和/英） | 静岡大学 (略称： 静岡大) Shizuoka University (略称： Shizuoka Univ.) |
| 第7著者 氏名（和/英/ヨミ） | 吉田 知也 / Tomoya Yoshida / ヨシダ トモヤ |
| 第7著者 所属（和/英） | 産業技術総合研究所 (略称： 産総研) National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称： National Inst.of Adv Ind Scie and Tech.) |
| 第8著者 氏名（和/英/ヨミ） | 長尾 昌善 / Masayoshi Nagao / ナガオ マサヨシ |
| 第8著者 所属（和/英） | 産業技術総合研究所 (略称： 産総研) National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称： National Inst.of Adv Ind Scie and Tech.) |
| 第9著者 氏名（和/英/ヨミ） | 金丸 正剛 / Seigo Kanemaru / カネマル セイゴ |
| 第9著者 所属（和/英） | 産業技術総合研究所 (略称： 産総研) National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称： National Inst.of Adv Ind Scie and Tech.) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2009-02-26 15:40:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | SDM |
| 資料番号 | ED2008-228, SDM2008-220 |
| 巻番号（vol） | vol.108 |
| 号番号（no） | no.437(ED), no.438(SDM) |
| ページ範囲 | pp.23-27 |
| ページ数 | 5 |
| 発行日 | 2009-02-19 (ED, SDM) |
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