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講演抄録/キーワード
講演名 2009-03-06 16:45
CrPt3規則合金膜を利用したイオン照射型ビットパターンメディア
山内幸大・○大島大輝加藤剛志岩田 聡綱島 滋名大)・松本幸治森河 剛山形富士通)・尾崎一幸富士通研MR2008-68
抄録 (和) マグネトロンスパッタ製膜後熱処理することで作製したCrPt3規則合金膜(20 nm厚)にKr+,Ar+イオン等を照射し,その磁気特性の変化を調べた.30 keVのKr+イオンをCrPt3膜に照射し,2 x 1014 ions/cm2という非常に低ドーズでL12型CrPt3規則合金からfcc不規則相へ相変化し,非磁性化が可能であるという結果を得た.さらに,この程度の照射量ではCrPt3膜の磁気異方性の起源である格子歪みが緩和されないことが分かった.また,電子ビーム露光を用いてイオン照射型CrPt3ビットパターン媒体を作製し,磁気力顕微鏡(MFM)観察を行い,180 nm x 180 nmピッチにおいても非照射部からの明瞭な磁気コントラストを観測し,照射部からコントラストが得られないことを確認した.ナノインプリントを用いて作製した600 nmピッチの照射/非照射領域パターンを持つイオン照射型CrPt3ディスク媒体をスピンスタンドにより評価した結果,照射/非照射領域の遷移幅の狭い明瞭な再生信号波形を得ることに成功した. 
(英) Kr+ and Ar+ ions were irradiated onto CrPt3 ordered alloy films fabricated by a magnetron sputtering deposition followed by an appropriate heat treatment, and the change of the magnetic properties of the CrPt3 films were examined. For 30 keV Kr+ ion irradiation, the magnetic order(magnetization) of the CrPt3 was found to be completely suppressed by a quite low ion dose of 2 x 1014 ions/cm2 due the phase change from L12 ordered CrPt3 phase to disordered fcc phase. Moreover, it was found that such a low ion dose of 2 x 1014 ions/cm2 has no effect on the lattice distortion of the CrPt3 contributing to its large uniaxial anisotropy. Magnetic force microscope image of the ion-beam patterned CrPt3 fabricated using electron beam lithography showed clear magnetic contrast in non-irradiated regions, while no magnetic contrast in irradiated regions, even in the fabrication size of 180 nm x 180 nm pitch. Ion-beam patterned CrPt3 disk with 600 nm patterning pitch was fabricated by Ar+ ion irradiation through nano-imprinted masks. The read-back waveform taken from the patterned CrPt3 disk showed sharp signal transition between irradiated and non-irradiated regions.
キーワード (和) ビットパターン媒体 / イオン照射 / CrPt3規則合金 / 相変化 / / / /  
(英) Bit Patterned Media / Ion Irradiation / CrPt3 Ordered Alloy / Phase Change / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 108, 2009年3月.
資料番号  
発行日 2009-02-27 (MR) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
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研究会情報
研究会 MRIS ITE-MMS  
開催期間 2009-03-06 - 2009-03-06 
開催地(和) 名古屋大学 
開催地(英) Nagoya Univ. 
テーマ(和) 光記録および一般 
テーマ(英) Optical Recording, etc 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 MRIS 
会議コード 2009-03-MR-MMS 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) CrPt3規則合金膜を利用したイオン照射型ビットパターンメディア 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Ion Irradiation Bit Patterned Media Using CrPt3 Ordered Alloy Films 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) ビットパターン媒体 / Bit Patterned Media  
キーワード(2)(和/英) イオン照射 / Ion Irradiation  
キーワード(3)(和/英) CrPt3規則合金 / CrPt3 Ordered Alloy  
キーワード(4)(和/英) 相変化 / Phase Change  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 山内 幸大 / Yukihiro Yamauchi / ヤマウチ ユキヒロ
第1著者 所属(和/英) 名古屋大学先端研 (略称: 名大)
Nagoya University (略称: Nagoya Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 大島 大輝 / Daiki Oshima / オオシマ ダイキ
第2著者 所属(和/英) 名古屋大学先端研 (略称: 名大)
Nagoya University (略称: Nagoya Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 加藤 剛志 / Takeshi Kato / カトウ タケシ
第3著者 所属(和/英) 名古屋大学先端研 (略称: 名大)
Nagoya University (略称: Nagoya Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 岩田 聡 / Satoshi Iwata / イワタ サトシ
第4著者 所属(和/英) 名古屋大学先端研 (略称: 名大)
Nagoya University (略称: Nagoya Univ.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 綱島 滋 / Shigeru Tsunashima / ツナシマ シゲル
第5著者 所属(和/英) 名古屋大学先端研 (略称: 名大)
Nagoya University (略称: Nagoya Univ.)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 松本 幸治 / Kouji Matsumoto / マツモト コウジ
第6著者 所属(和/英) 山形富士通 (略称: 山形富士通)
Yamagata Fujitsu Ltd. (略称: Yamagata Fujitsu)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 森河 剛 / Tsuyoshi Morikawa / モリカワ ツヨシ
第7著者 所属(和/英) 山形富士通 (略称: 山形富士通)
Yamagata Fujitsu Ltd. (略称: Yamagata Fujitsu)
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) 尾崎 一幸 / Kazuyuki Ozaki / オザキ カズユキ
第8著者 所属(和/英) 富士通研究所 (略称: 富士通研)
Fujitsu Laboratories Ltd. (略称: Fujitsu Lab.)
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講演者 第2著者 
発表日時 2009-03-06 16:45:00 
発表時間 30分 
申込先研究会 MRIS 
資料番号 MR2008-68 
巻番号(vol) vol.108 
号番号(no) no.467 
ページ範囲 pp.35-39 
ページ数
発行日 2009-02-27 (MR) 


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