ご案内 入会して研究会活動をもっとお得に!研究会参加費・年間登録費が会員価格になります。
お知らせ 【重要】研究会参加費の支払いおよび原稿アップロード手続きの変更に関するご案内
電子情報通信学会 研究会発表申込システム
講演論文 詳細
技報閲覧サービス
[ログイン]
技報アーカイブ
 トップに戻る 前のページに戻る   [Japanese] / [English] 

講演抄録/キーワード
講演名 2009-03-09 14:20
Millimeter-Wave Dipole Antenna on a Thick Resin Layer on the Back Side of a Silicon CMOS Chip
Jiro HirokawaKenta KimishimaMakoto AndoTokyo Inst. of Tech.)・Yasutake HirachiAmmsys Inc.AP2008-217
抄録 (和) 60GHzシリコンCMOSチップのRF回路層の反対面上に厚い絶縁体層を設けダイポールアンテナを穴を介して集積化する構造を提案する。厚い絶縁体層は放射効率を向上させる。アンテナとRF回路の接続損の低減が期待できる。5mm四方のシリコンチップ上に厚さ200mの絶縁体層に設けたダイポールアンテナの利得の計算値は5.4dBiである。実験において反射が-6dBあるにもかかわらず利得3.1dBiが得られた。レーザの穴あけによる穴やポストの側面の粗さ,厚さ2mの薄い銅の形成,測定における接続損が利得低下をもたらしていると思われる。 
(英) This paper proposes a dipole antenna integrated on a thick resin layer on the opposite side of a RF circuit layer though a hole in a silicon CMOS chip at 60GHz. The thick resin layer can enhance the radiation efficiency. The connection loss between the antenna and the RF circuit is expected to be small. The simulated gain of a dipole on a resin layer of 200m thickness over a 5mm square silicon chip is 5.4dBi. The measured gain of 3.1dBi is achieved even though the reflection is 6dB. The roughness of the sidewalls of the hole and posts by laser opening, the spread of thin copper with 2mm thickness and the connection loss in the measurement could degrade the gain.
キーワード (和) ミリ波 / シリコンチップ / ダイポール / 厚絶縁体層 / 放射効率 / / /  
(英) Millimeter wave / Silicon chip / Dipole / Thick resin layer / Radiation efficiency / / /  
文献情報 信学技報, vol. 108, no. 475, AP2008-217, pp. 33-36, 2009年3月.
資料番号 AP2008-217 
発行日 2009-03-02 (AP) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード AP2008-217

研究会情報
研究会 AP  
開催期間 2009-03-09 - 2009-03-10 
開催地(和) マカオ大学 
開催地(英) University of Macau 
テーマ(和) 一般 
テーマ(英) Antennas and Propagation 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 AP 
会議コード 2009-03-AP 
本文の言語 英語 
タイトル(和)  
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Millimeter-Wave Dipole Antenna on a Thick Resin Layer on the Back Side of a Silicon CMOS Chip 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) ミリ波 / Millimeter wave  
キーワード(2)(和/英) シリコンチップ / Silicon chip  
キーワード(3)(和/英) ダイポール / Dipole  
キーワード(4)(和/英) 厚絶縁体層 / Thick resin layer  
キーワード(5)(和/英) 放射効率 / Radiation efficiency  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 広川 二郎 / Jiro Hirokawa / ヒロカワ ジロウ
第1著者 所属(和/英) 東京工業大学 (略称: 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称: Tokyo Inst. of Tech.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 君島 健太 / Kenta Kimishima / キミシマ ケンタ
第2著者 所属(和/英) 東京工業大学 (略称: 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称: Tokyo Inst. of Tech.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 安藤 真 / Makoto Ando / アンドウ マコト
第3著者 所属(和/英) 東京工業大学 (略称: 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称: Tokyo Inst. of Tech.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 平地 康剛 / Yasutake Hirachi / ヒラチ ヤスタケ
第4著者 所属(和/英) 株式会社アムシス (略称: アムシス)
Ammsys Inc. (略称: Ammsys Inc.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第5著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第6著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第7著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第8著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第9著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第10著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第11著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第11著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第12著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第12著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第13著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第13著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第14著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第14著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第15著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第15著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第16著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第16著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第17著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第17著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第18著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第18著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第19著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第19著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第20著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第20著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第21著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第21著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第22著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第22著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第23著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第23著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第24著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第24著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第25著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第25著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第26著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第26著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第27著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第27著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第28著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第28著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第29著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第29著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第30著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第30著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第31著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第31著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第32著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第32著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第33著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第33著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第34著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第34著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第35著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第35著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第36著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第36著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
講演者 第1著者 
発表日時 2009-03-09 14:20:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 AP 
資料番号 AP2008-217 
巻番号(vol) vol.108 
号番号(no) no.475 
ページ範囲 pp.33-36 
ページ数
発行日 2009-03-02 (AP) 


[研究会発表申込システムのトップページに戻る]

[電子情報通信学会ホームページ]


IEICE / 電子情報通信学会