| 講演抄録/キーワード |
| 講演名 |
2009-05-21 15:45
大脳皮質の活性化パターンに基づくソフトウェア分析手法の差異分析 ○大木幹雄・上原俊樹・村瀬晴喜(日本工大) SS2009-4 KBSE2009-4 |
| 抄録 |
(和) |
本稿では,普及が進む光トポグラフィ装置を用いて,分析モデリングの判断基準が思考過程の最適化に与える効果を客観的に計測する研究の一環として,種々の単位頭脳作業と分析モデリング手法の相関分析を行なった結果について述べる. |
| (英) |
This paper analyses software analysis tasks from the viewpoint of brain physiology based on the measurement results attained from the experiments using optical topography device and discusses the correlation between analysis techniques and brainwork units. |
| キーワード |
(和) |
ソフトウェア分析手法 / 大脳皮質 / 活性化パターン / 光トポグラフィ / / / / |
| (英) |
Software Analysis Technique / cerebral cortex / Activated Pattern / optical topography / / / / |
| 文献情報 |
信学技報, vol. 109, no. 41, KBSE2009-4, pp. 19-24, 2009年5月. |
| 資料番号 |
KBSE2009-4 |
| 発行日 |
2009-05-14 (SS, KBSE) |
| ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
| PDFダウンロード |
SS2009-4 KBSE2009-4 |
| 研究会情報 |
| 研究会 |
SS KBSE |
| 開催期間 |
2009-05-21 - 2009-05-22 |
| 開催地(和) |
秋田大学 手形キャンパス |
| 開催地(英) |
Akita University |
| テーマ(和) |
一般 |
| テーマ(英) |
general |
| 講演論文情報の詳細 |
| 申込み研究会 |
KBSE |
| 会議コード |
2009-05-SS-KBSE |
| 本文の言語 |
日本語 |
| タイトル(和) |
大脳皮質の活性化パターンに基づくソフトウェア分析手法の差異分析 |
| サブタイトル(和) |
|
| タイトル(英) |
A Comparing Analysis for Software Analysis Techniques based on activated pattern of cerebral cortex |
| サブタイトル(英) |
|
| キーワード(1)(和/英) |
ソフトウェア分析手法 / Software Analysis Technique |
| キーワード(2)(和/英) |
大脳皮質 / cerebral cortex |
| キーワード(3)(和/英) |
活性化パターン / Activated Pattern |
| キーワード(4)(和/英) |
光トポグラフィ / optical topography |
| キーワード(5)(和/英) |
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| キーワード(6)(和/英) |
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| キーワード(7)(和/英) |
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| キーワード(8)(和/英) |
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| 第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
大木 幹雄 / Mikio Ohki / オオキ ミキオ |
| 第1著者 所属(和/英) |
日本工業大学 (略称: 日本工大)
Nippon Institute of Technology (略称: Nippon Inst. of Tech.) |
| 第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
上原 俊樹 / Toshiki Uehara / ウエハラ トシキ |
| 第2著者 所属(和/英) |
日本工業大学 (略称: 日本工大)
Nippon Institute of Technology (略称: Nippon Inst. of Tech.) |
| 第3著者 氏名(和/英/ヨミ) |
村瀬 晴喜 / Haruki Murase / ムラセ ハルキ |
| 第3著者 所属(和/英) |
日本工業大学 (略称: 日本工大)
Nippon Institute of Technology (略称: Nippon Inst. of Tech.) |
| 第4著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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| 講演者 |
第1著者 |
| 発表日時 |
2009-05-21 15:45:00 |
| 発表時間 |
30分 |
| 申込先研究会 |
KBSE |
| 資料番号 |
SS2009-4, KBSE2009-4 |
| 巻番号(vol) |
vol.109 |
| 号番号(no) |
no.40(SS), no.41(KBSE) |
| ページ範囲 |
pp.19-24 |
| ページ数 |
6 |
| 発行日 |
2009-05-14 (SS, KBSE) |