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講演抄録/キーワード
講演名
2009-05-22 09:25
細線状活性層を有する分布反射型(DR)レーザの進展 ~ 高効率・低しきい値動作と強戻り光耐性 ~
○
進藤隆彦
・
李 承勲
・
田島典明
・
高橋大佑
(
東工大/理研
)・
西山伸彦
(
理研
)・
荒井滋久
(
東工大/理研
)
LQE2009-3
抄録
(和)
(まだ登録されていません)
(英)
(Not available yet)
キーワード
(和)
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(英)
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文献情報
信学技報, vol. 109, no. 49, LQE2009-3, pp. 13-18, 2009年5月.
資料番号
LQE2009-3
発行日
2009-05-15 (LQE)
ISSN
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード
LQE2009-3
研究会情報
研究会
LQE
開催期間
2009-05-22 - 2009-05-22
開催地(和)
金沢大学角間キャンパス、自然科学研究科棟 G15会議室
開催地(英)
Kanazawa Univ.
テーマ(和)
量子光学、非線形光学、超高速現象、レーザ基礎、及び一般
テーマ(英)
Quantum Optics, Nonlinear Optics, Ultra-high-speed Phenomenon, etc
講演論文情報の詳細
申込み研究会
LQE
会議コード
2009-05-LQE
本文の言語
日本語
タイトル(和)
細線状活性層を有する分布反射型(DR)レーザの進展
サブタイトル(和)
高効率・低しきい値動作と強戻り光耐性
タイトル(英)
Progress in Distributed-Reflector(DR) Lasers with Wirelke Active Regions
サブタイトル(英)
Low threshold, High efficiency, and strong durability against reflected waves
キーワード(1)(和/英)
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キーワード(2)(和/英)
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キーワード(3)(和/英)
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キーワード(4)(和/英)
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キーワード(5)(和/英)
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キーワード(6)(和/英)
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キーワード(7)(和/英)
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キーワード(8)(和/英)
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ)
進藤 隆彦
/
Takahiko Shindo
/
シンドウ タカヒコ
第1著者 所属(和/英)
東京工業大学/理工学研究科
(略称:
東工大/理研
)
Tokyo Institute of Technology/Dept. of Electrical and Electronic Engineering
(略称:
Tokyo Inst. of Tech./RIKEN
)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ)
李 承勲
/
SeungHun Lee
/
イー スンフン
第2著者 所属(和/英)
東京工業大学/理工学研究科
(略称:
東工大/理研
)
Tokyo Institute of Technology/Dept. of Electrical and Electronic Engineering
(略称:
Tokyo Inst. of Tech./RIKEN
)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ)
田島 典明
/
Noriaki Tajima
/
タジマ ノリアキ
第3著者 所属(和/英)
東京工業大学/理工学研究科
(略称:
東工大/理研
)
Tokyo Institute of Technology/Dept. of Electrical and Electronic Engineering
(略称:
Tokyo Inst. of Tech./RIKEN
)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ)
高橋 大佑
/
Daisuke Takahashi
/
タカハシ ダイスケ
第4著者 所属(和/英)
東京工業大学/理工学研究科
(略称:
東工大/理研
)
Tokyo Institute of Technology/Dept. of Electrical and Electronic Engineering
(略称:
Tokyo Inst. of Tech./RIKEN
)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ)
西山 伸彦
/
Nobuhiko Nishiyama
/
ニシヤマ ノブヒコ
第5著者 所属(和/英)
理工学研究科
(略称:
理研
)
Dept. of Electrical and Electronic Engineering
(略称:
RIKEN
)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ)
荒井 滋久
/
Shigehisa Arai
/
アライ シゲヒサ
第6著者 所属(和/英)
東京工業大学/理工学研究科
(略称:
東工大/理研
)
Tokyo Institute of Technology/Dept. of Electrical and Electronic Engineering
(略称:
Tokyo Inst. of Tech./RIKEN
)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第7著者 所属(和/英)
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第8著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第8著者 所属(和/英)
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第9著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第9著者 所属(和/英)
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第23著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第24著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第34著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第36著者 氏名(和/英/ヨミ)
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講演者
第1著者
発表日時
2009-05-22 09:25:00
発表時間
25分
申込先研究会
LQE
資料番号
LQE2009-3
巻番号(vol)
vol.109
号番号(no)
no.49
ページ範囲
pp.13-18
ページ数
6
発行日
2009-05-15 (LQE)
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