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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2009-07-16 15:20 X線反射率法を用いたパターンド媒体の加工ダメージ評価 ○白鳥聡志・鎌田芳幸・前田知幸・柏木一仁・礒脇洋介・喜々津 哲（東芝）  MR2009-17 |
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| 抄録 | （和） | Arイオンエッチングによるパターンド媒体のエッチングダメージを，X反射率法を用いて解析した．X線反射率法は非破壊で表面および界面での観察が可能なため、効果的に媒体のエッチングダメージを見積もることが出来る．Co/Pt多層膜におけるドットの欠損やラフネスの増減を調べたところ，エッチングプロセスにより多層膜の表面ラフネスが大きく増加したが，磁性層内部の多層膜の周期構造の乱れはそれほど変化していないという結果が得られた． Arイオンエッチングプロセスは，パターンド媒体作製において，磁気特性に対するダメージはそれほど多くないということが確認された．一方，X線反射率法は凹凸構造を有する測定において，下地層とCo/Pt多層膜層のスペクトルの相対的強度差が観測されたため，正確な見積もりは各層でのスペクトルの見積もりが必要となる． |
| （英） | A Co/Pt patterned medium was fabricated by an Ar ion etching process through a self-assembled polymer mask with a diameter of 40 nm, and its etching damage was investigated by using the grazing incidence x-ray reflectivity (GIXR) technique. This method is effective for investigating the changes in the morphology of surface and interface. It was found that the surface roughness was increased from 0.5 nm to 3.8 nm by the etching process, while the roughness of the multilayer structure was not changed. Large roughness at the surface is due to the lack of a dot structure as a result of the over-etching condition. The lack of significant damage to the internal multilayer structure is consistent with the lack of significant degradation in the magnetic characteristics. Ar ion etching is found to be robust for fabricating patterned medium with little damage even in the over-etching condition. | |
| キーワード | （和） | パターンド媒体 / X線反射率法 / 磁性体加工 / イオンエッチング / / / / |
| （英） | Magnetic recording / Patterned media / Etching / Grazing Incidence X-ray Reflectively technique / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 109, 2009年7月. | |
| 資料番号 | ||
| 発行日 | 2009-07-09 (MR) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | MR2009-17 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | MRIS ITE-MMS |
| 開催期間 | 2009-07-16 - 2009-07-16 |
| 開催地（和） | 東京工業大学 |
| 開催地（英） | Tokyo Inst. of Tech. |
| テーマ（和） | ヘッド・媒体および一般 |
| テーマ（英） | |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | MRIS |
| 会議コード | 2009-07-MMS-MR |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | X線反射率法を用いたパターンド媒体の加工ダメージ評価 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Etching damage analysis of patterned media using the Grazing Incidence X-ray Reflectively technique |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | パターンド媒体 / Magnetic recording |
| キーワード(2)（和/英） | X線反射率法 / Patterned media |
| キーワード(3)（和/英） | 磁性体加工 / Etching |
| キーワード(4)（和/英） | イオンエッチング / Grazing Incidence X-ray Reflectively technique |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 白鳥 聡志 / Satoshi Shirotori / シロトリ サトシ |
| 第1著者 所属（和/英） | 株式会社東芝 (略称： 東芝) Toshiba Corporation (略称： Toshiba Corp.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 鎌田 芳幸 / Yoshiyuki Kamata / カマタ ヨシユキ |
| 第2著者 所属（和/英） | 株式会社東芝 (略称： 東芝) Toshiba Corporation (略称： Toshiba Corp.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 前田 知幸 / Tomoyuki Maeda / マエダ トモユキ |
| 第3著者 所属（和/英） | 株式会社東芝 (略称： 東芝) Toshiba Corporation (略称： Toshiba Corp.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 柏木 一仁 / Kazuto Kashiwagi / カシワギ カズト |
| 第4著者 所属（和/英） | 株式会社東芝 (略称： 東芝) Toshiba Corporation (略称： Toshiba Corp.) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 礒脇 洋介 / Yosuke Isowaki / イソワキ ヨウスケ |
| 第5著者 所属（和/英） | 株式会社東芝 (略称： 東芝) Toshiba Corporation (略称： Toshiba Corp.) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | 喜々津 哲 / Akira Kikitsu / キキツ アキラ |
| 第6著者 所属（和/英） | 株式会社東芝 (略称： 東芝) Toshiba Corporation (略称： Toshiba Corp.) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2009-07-16 15:20:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | MRIS |
| 資料番号 | MR2009-17 |
| 巻番号（vol） | vol.109 |
| 号番号（no） | no.132 |
| ページ範囲 | pp.25-30 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2009-07-09 (MR) |
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